就在Intel稍早以公開信件說明近期處理器產能受限，并且針對市場供貨短缺情況致歉，市場傳出三星將協(xié)助Intel生產處理器產品，借此緩解Intel在14nm制程處理器產能需求。 根據(jù)韓聯(lián)社引述消息來源
2019-11-29 09:36:41
4667 針對稍早報導指稱將委任三星協(xié)助生產處理器產品，借此緩解14nm制程處理器產能需求情況，Intel稍早對外澄清表示相關內容并不正確。 依照Intel后續(xù)對于相關報導內容的回應，表示內容中所提合作代工廠
2019-12-02 10:31:394108 隨著制程的不斷縮小，所面臨的技術挑戰(zhàn)和風險也越來越大。目前先進制程的技術仍舊不夠成熟，是半導體行業(yè)發(fā)展的一個重要技術瓶頸。
2014-03-17 09:28:14779 FinFET制程技術量產階段的臺積電，也傳出將投入大量研發(fā)資金確保10nm制程技術發(fā)展進度，預期將進一步與三星抗衡，至于Intel方面也確定將在 2016年下半年間進入10nm制程技術量產。
2015-05-28 10:23:161272 先前證實采用10nm制程技術的“Cannonlake”將延后至2017年下半年間推出消息后，相關消息具體透露Intel計畫將以10nm制程打造代號“Icelake”與“Tigerlake”處理器系列
2016-01-22 08:53:401434 比起臺積電技術領先、卓越制造及客戶信任等為人所熟稔的致勝之道，為何三星電子、英特爾在14納米制程這個技術節(jié)點未能取得勝利的原因，卻很少被人提及。
2016-07-12 10:02:302054 后來進入10nm級，Intel在制程工藝層面一騎絕塵，領先三星和臺積電一代以上。不過，Intel 14nm FinFET大量都是用在自家生意上，畢竟作為芯片一哥，需求量驚人，另外就是為FPGA伙伴代工了。
2016-07-15 10:24:041155 在一場將于12月舉行的技術研討會上，晶圓代工大廠臺積電（TSMC）將與競爭對手Globalfoundries、三星（Samsung）結成的夥伴聯(lián)盟，公開比較7奈米制程技術的細節(jié)；后三家廠商的制程技術
2016-10-25 08:47:54837 英特爾（Intel）執(zhí)行長科再奇（Brian Krzanich）8日宣布，將在美國投資70億美元（約新臺幣2，170億元）完成位于亞利桑納州錢德勒（Chandler）的新廠，創(chuàng)造3，000個就業(yè)機會，并將強攻7奈米制程。
2017-02-10 08:00:531108 英特爾高級院士Mark Bohr: 但是最近，也許是因為制程進一步的微縮越來越難，一些公司背離了摩爾定律的法則。即使晶體管密度增加很少，或者根本沒有增加，但他們仍繼續(xù)為制程工藝節(jié)點命新名。結果導致這些新的制節(jié)點名稱根本無法體現(xiàn)位于摩爾定律曲線的正確位置。
2017-09-19 10:06:231888 證券公司分析師Mosesmann在8月底的一份報告中表示，處理器大廠英特爾（Intel）在半導體制程上的瓶頸不只是10納米節(jié)點的延期，而且需要許多時間來解決這個問題，因為這將造成英特爾制程劣勢持續(xù)5年、6年、甚至7年時間。
2018-09-28 14:21:575475 按照基本工藝制程技術的類型，BiCMOS 工藝制程技術又可以分為以 CMOS 工藝制程技術為基礎的 BiCMOS 工藝制程技術，或者以雙極型工藝制程技術為基礎的 BiCMOS 工藝制程技術。以
2024-07-23 10:45:574121 
Intel（英特爾）于8月2日正式開賣首批基于 10nm 制程的第十代 Ice Lake 處理器，將優(yōu)先應用于筆記型電腦上，并預計在近期開始向電腦廠商供貨。
2019-08-03 10:31:393082 鮮少全面介紹其先進封裝技術的Intel，日前召開技術解析會，展示了制程&封裝技術作為基礎要素的核心地位。
2019-09-11 01:35:487113 的投產，并展望了英特爾代工（Intel Foundry）的未來。英特爾在該活動上確認，按目前計劃，14A 節(jié)點的“有意義”規(guī)模量產將落在 2026 年；而暫未正式公布的下一個制程節(jié)點 10A 預期
2024-02-29 10:46:061471 
89650S 具有高性能頻譜分析功能的寬帶矢量信號分析儀系統(tǒng)技術概覽
2019-09-12 17:24:40
概覽
Intel? Graphics圖形SR-IOV啟用工具包”包含在云和邊緣本機基礎設施上啟用英特爾圖形虛擬化技術（圖形SR-I0V）的軟件組件和組件。目標是為運行在Kubernetes*集群上
2023-08-02 16:07:04
Enhanced Intel SpeedStep Technology (EIST)Pentium M處理器引入了Enhanced Intel SpeedStep? Technology（縮寫為
2021-12-30 06:04:42
AssetsLibrary框架詳細解析（一） —— 基本概覽
2020-04-29 15:12:25
COMS工藝制程技術主要包括了：1.典型工藝技術：①雙極型工藝技術② PMOS工藝技術③NMOS工藝技術④ CMOS工藝技術2.特殊工藝技術。BiCOMS工藝技術，BCD工藝技術，HV-CMOSI藝
2019-03-15 18:09:22
EL顯示器的發(fā)展歷史概覽
2021-06-03 06:13:44
ESP32 之 ESP-IDF 教學（九）—— 串口通信（UART）文章目錄ESP32 之 ESP-IDF 教學（九）—— 串口通信（UART）一、ESP32 的 UART 概覽1、簡介2、UART
2021-12-09 07:52:02
FPC全制程技術講解單片單面撓性印制板制造工藝單片多層，剛撓印制板制造工藝單片單面撓性印制板工藝（一）? 材料的切割：撓性印制印制板的材料主要分為二大部份；第一類是：覆銅基板材料，按絕緣材料的類型
2009-05-16 20:34:57
目錄一、啟動文件簡介二、RCC—使用 HSE/HSI 配置時鐘1、RCC 主要作用—時鐘部分2、RCC框圖剖析—時鐘樹3、配置系統(tǒng)時鐘實驗三、STM32 中斷應用概覽1、異常類型2、NVIC 簡介
2021-08-10 07:08:27
Stm32寄存器與庫函數(shù)概覽(摘自固件庫使用手冊)
2013-01-26 11:04:43
從7nm到5nm，半導體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
的積體電路所組成，我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術，所須制程多達二百至三百個步驟。半導體制程的繁雜性是為了確保每一個元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
基于能量采集技術的BLE傳感器節(jié)點設計面臨哪些挑戰(zhàn)？如何去應對這些挑戰(zhàn)？
2021-05-17 06:03:02
多分辨率織網(wǎng)(MRM)技術概覽:一個3D多邊形織網(wǎng)由一系列三角形構成,這些三角形形成了3D物體的表面。 三角形數(shù)量越多,3D模型就越光滑。"高分辨率"或"高頂點分辨率
2011-09-05 11:58:11
如何利用Intel Optanane技術優(yōu)化資本市場——金融信息技術生命中的一天,描述Intelé OptananeTM技術如何提供更多寶貴數(shù)據(jù)的白皮書
2023-08-04 06:30:34
英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾在半世紀前提出的摩爾定律，是指每代制程工藝都要讓芯片上的晶體管數(shù)量翻一番?？v觀芯片每代創(chuàng)新歷史，業(yè)界一直遵循這一定律，并按前一代制程工藝縮小約 0.7倍來對新制程節(jié)點命名
2019-07-17 06:27:10
增加了臺積電的訂單，后者的業(yè)績也得以節(jié)節(jié)高升?！ ?b class="flag-6" style="color: red">Intel：10nm制程計劃延后 先進的制造工藝一直是Intel橫行江湖的最大資本，不過受技術難度和市場因素的種種不利影響，Intel前進的步伐也逐漸
2016-01-25 09:38:11
低功耗數(shù)字VLSI設計:概覽:
2009-07-25 16:44:42
0 MEDICI 的語法概覽
語句簡介
2010-08-27 18:01:490 Intel-鎂光反擊,2xnm制程NAND芯片將試制
在本月22日召開的一次電話會議上，鎂光公司聲稱他們很快便會試制出2x nm制程NAND閃存芯片產品，并對其進行取樣測試。盡管
2009-12-26 09:56:491579 Apple平板iPad 概覽
規(guī)格：
尺寸：242.8
2010-02-01 11:26:161457 家庭網(wǎng)絡的各種技術概覽
電話運營商、有線運營商及其他供應商正在推出各種新型寬帶服務，其中大多數(shù)都包括比過去要求帶寬更高的數(shù)據(jù)、視頻和語音服務，。
2010-02-21 08:51:261147 低壓斷路器概覽-Overview of low voltage circuit breakers 技術資料-Technical data 適合所有應用的領域。
2011-02-27 21:03:2750 臺積電(TSMC)表示在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的，可直達 7nm節(jié)點;但在 7nm節(jié)點以下，半導體制程微縮的最大挑戰(zhàn)來自于經濟，并非技術。
2011-11-01 09:34:331679 由于處理器制程技術面臨瓶頸，導致許多市場看法認為Intel共同創(chuàng)辦人Gordon Moore早年提出的摩爾定律面臨挑戰(zhàn)，但在Intel執(zhí)行長Brian Krzanich稍早對外說明未來發(fā)展策略中，強調摩爾定律依然建在，同時更說明Intel仍會帶動經濟規(guī)模變革。
2016-04-27 16:38:50840 FPC全制程技術講解，又需要的下來看看。
2016-12-14 21:50:030 FPC全制程技術講解
2017-01-28 21:32:4932 Kaby Lake已經順利入市，Intel立即快馬加鞭思考下一步行動的安排?；貞浧鸾衲闏ES上Intel曾展出了他們的10nm樣片，感覺下一代產品就該采用新制程了，然而就當我們還以為芯片巨頭要準備往
2017-02-14 01:08:01248 F2產品技術培訓_1.產品特性概覽
2017-03-15 15:10:006 日前，Intel在舊金山舉辦了“技術與制造日”活動，主管制造、運營和銷售的執(zhí)行副總裁Stacy Smith重申“摩爾定律不死”。根據(jù)Intel的工藝路線圖，14納米之后就是10納米節(jié)點，包括10nm、10nm+、10nm++三個小迭代。接著轉向7納米節(jié)點，并且5納米制程可以期待了。
2017-03-30 14:46:201588 
今天Intel官方公布，第一代基于10nm工藝制程Cannon Lake處理器已經完工，當然還有更進一步的新消息。
2017-06-09 17:20:091082 機器學習概覽
2017-09-07 11:11:534 在此同時，臺積電的研究員在適合2納米以下制程節(jié)點應用的下一代晶體管所需之堆棧納米線（nanowires）、納米片（nanosheets）設計上取得了進展，號稱能支持比FinFET更佳的靜電（electrostatics）特性，而且可以藉由調整組件寬度達到功耗與性能的優(yōu)化。
2018-07-25 07:25:001140 7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點，而且是高性能工藝，其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。
2019-10-12 14:44:543267 在過去50年的歷史中，AMD絕大多數(shù)時候都會在CPU工藝上落后Intel一兩代，不是AMD不努力，而是Intel實在是太強了，這二十多年來一直都擁有地球上最先進的制程工藝，官方之前還表態(tài)他們的制造工藝領先對手三年半，當然說這話的時候是22nm之前的節(jié)點了。
2019-12-14 09:30:434573 Intel今天除了更新他們的服務器CPU產品線之外，還額外推出了首款基于10nm制程和新的Tremont架構的Atom處理器，型號為Atom P5900。
2020-02-25 21:32:093822 由于在14nm上停靠太久，Intel在名義制程工藝上，已經明顯落后臺積電與三星。
2020-03-05 11:17:322397 據(jù)外媒報道，Intel首席財務官George Davis在昨天舉行的摩根士丹利會議上發(fā)表演講，談及了多個話題，其中特別指出，Intel“毫無疑問正處在10nm工藝時代”，并且將在2021年迎來7nm節(jié)點。
2020-03-07 09:25:302490 當芯片制程接近納米級的極限時，公司可能會開始使用埃米而不是納米，或可能會簡單地使用小數(shù)點進行標注。早期，制程以微米而不是 nm（例如，以 0.18 微米或 0.13 微米，而不是 180nm 或 130nm）為單位的標注制程尺寸更為普遍。
2020-06-23 13:35:032766 
最近英特爾終于帶來了一些好消息，除了下一代（第11代）酷睿處理器的工藝制程全面進軍10 nm節(jié)點以外，英特爾還將在10 nm工藝制程中加入全新的“SuperFin”晶體管?；谶@一新技術生產的第11
2020-08-17 15:22:173681 英特爾剛剛結束了其2020年第三季度的財報電話會議，該公司報告的收入有所下滑，即數(shù)據(jù)中心收入下降了10%。然而，英特爾首席執(zhí)行官鮑勃·斯旺（Bob Swan）關于其7納米制程節(jié)點的評論激起了我們的興趣：似乎英特爾仍不確定是否要在自己的7納米制程節(jié)點上加倍使用還是使用另一個。
2020-10-28 11:12:242132 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《汽車照明的發(fā)展歷史和DLP技術概覽.pdf》資料免費下載
2020-11-26 04:50:0016 在名義制程上，Intel已經落后于臺積電和三星，后者早已開始5nm的代工。對于Intel來說，盡管自信技術更先進，可也必須解決當下產品的交付問題。
2020-12-04 11:43:321713 不久前，Intel剛剛發(fā)布了基于10nm制程工藝的11代酷睿處理器、凌動P5900片上系統(tǒng)，Intel高級副總裁兼制造與運營總經理Keyvan?Esfarjani表示，盡管intel近年來晶圓產能翻倍，但是面對旺盛的需求和半導體產業(yè)總體制約因素面前，其工廠還是顯得有一些應接不暇。
2020-12-29 15:38:542106 1 月 27 日消息 內存與存儲解決方案供應商美光科技今日宣布批量出貨基于 1α （1-alpha） 節(jié)點的 DRAM 產品。該制程是目前世界上最為先進的 DRAM 技術，在密度、功耗和性能等各方面
2021-01-27 13:56:032777 本周，Counterpoint Research給出了按成熟制程（節(jié)點≥40nm）產能排序的全球晶圓代工廠商Top榜單，如下圖所示。
2021-02-04 09:48:3013081 
電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供IC 制程節(jié)點的良率與成本資料下載的電子資料下載，更有其他相關的電路圖、源代碼、課件教程、中文資料、英文資料、參考設計、用戶指南、解決方案等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2021-04-21 08:49:0112 Intel 4 很好但很奇怪，真的很奇怪。在時間方面，英特爾預計這一制程將在今年晚些時候加速——這意味著會是明年產品使用的工藝。如果一切按計劃進行，Intel 4 的繼任者“Intel 3”將在幾乎整整一年之后（2023 年底開始升級）。這應該開始讓您了解英特爾如何看待這個制程。
2022-06-22 14:42:077480 2022年6月30日，作為先進的半導體技術廠商之一的三星電子今日宣布， 基于3nm全環(huán)繞柵極（Gate-All-AroundT，簡稱 GAA）制程工藝節(jié)點的芯片已經開始初步生產。
2022-06-30 10:15:592813 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《EF3器件概覽.pdf》資料免費下載
2022-09-27 09:13:172 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《Eagle器件概覽.pdf》資料免費下載
2022-09-27 09:22:003 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《SALEAGLE FPGA器件概覽 .pdf》資料免費下載
2022-09-27 09:16:470 有限公司，納斯達克股票代碼：MU）今日宣布，其采用全球最先進技術節(jié)點的1β DRAM產品已開始向部分智能手機制造商和芯片平臺合作伙伴送樣以進行驗證，并做好了量產準備。美光率先在低功耗LPDDR5X移動內存上采用該新一代制程技術，其最高速率可達每秒8.5Gb。該節(jié)點在性能、密度和能效方面都有
2022-11-02 11:31:271096 
模擬輸出及架構概覽
2022-11-04 09:52:103 華邦電子認為，對于NOR Flash而言，45nm很可能是最后一個技術節(jié)點了，與之相比，SLC NAND Flash還有制程微縮空間，在24nm之后，至少還可以進一步微縮一代制程。
2023-01-31 09:51:474345 全球半導體龍頭寶座，重鑄往日榮光，備受外界矚目。 據(jù)臺灣經濟日報，Intel 20A、Intel 18A 已經流片（設計定案）。這是該公司近期給出最新的 2 納米以下制程技術進展，讓市場更關注其與臺積電之間的制程技術競爭。 英特爾高級副總裁暨中國區(qū)董事長王銳近日表示，“
2023-03-08 16:57:231389 
流程現(xiàn)已通過 Intel 16 FinFET 工藝技術認證，其 Design IP 現(xiàn)可支持 Intel Foundry Services（IFS）的此工藝節(jié)點。 與此同時，Cadence 和 Intel 共同發(fā)布
2023-07-14 12:50:021450 
技與英特爾長期的IP和EDA戰(zhàn)略合作伙伴關系之上。 英特爾和新思科技（Synopsys）宣布已經達成最終協(xié)議，深化在半導體IP和EDA（電子設計自動化）領域的長期戰(zhàn)略合作伙伴關系，共同為英特爾代工服務的客戶開發(fā)基于Intel 3和Intel 18A制程節(jié)點的IP產品組合。提供基于英特爾
2023-08-26 10:20:011183 
目前，英特爾量產的最先進技術為Intel 7制程，比前一代Intel 10的SuperFin制程的每瓦效能提升約10%-15%，而Meteor Lake采用Intel 4制程生產，導入了極紫外光
2023-09-08 15:28:551912 合作伙伴關系。 英特爾和新思科技（Synopsys）近日宣布已經達成最終協(xié)議，深化在半導體IP和EDA（電子設計自動化）領域的長期戰(zhàn)略合作伙伴關系，共同為英特爾代工服務的客戶開發(fā)基于Intel 3和Intel 18A制程節(jié)點的IP產品組合。提供基于英特爾先進制程節(jié)點的關鍵
2023-09-12 16:36:24767 
近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規(guī)模量產（HVM）Intel 4制程節(jié)點。Intel 4大規(guī)模量產的如期實現(xiàn)，再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃，并將
2023-10-13 15:57:43880 近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規(guī)模量產（HVM）Intel 4制程節(jié)點。Intel 4大規(guī)模量產的如期實現(xiàn)，再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃，并將
2023-10-13 21:20:02995 FPC全制程技術講解
2022-12-30 09:20:066 FPC全制程技術講解
2023-03-01 15:37:372 近日，英特爾公司首席執(zhí)行官帕特·基辛格表示，英特爾將按計劃或提前完成其“四年五個制程節(jié)點”計劃，英特爾在制程技術方面取得的進展正在得到第三方的充分肯定。 在2021年7月，英特爾公布了“四年五個制程
2023-11-10 17:48:09824 [半導體前端工藝：第二篇] 半導體制程工藝概覽與氧化
2023-11-29 15:14:342642 
雕刻電路圖案的核心制造設備是光刻機，它的精度決定了制程的精度。光刻機的運作原理是先把設計好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:069677 
Andreas Schilling指出，英特爾CEO帕特·基辛格承諾“P”和“E”兩大類型的升級版節(jié)點在PPA方面可提升5＋％。至于Intel 7/4/3/20A/18A等主要制程節(jié)點，預計每步的PPA提升將達到14～15＋%。
2024-02-22 15:05:381085 
Cadence近日宣布，其數(shù)字和定制/模擬流程在Intel的18A工藝技術上成功通過認證。這一里程碑式的成就意味著Cadence的設計IP將全面支持Intel的代工廠在這一關鍵節(jié)點上的工作，并提供制程
2024-02-27 14:02:181331 Cadence? 設計 IP 支持 Intel 代工廠的這一節(jié)點，并提供相應的制程設計套件（PDK），用于加速一系列應用的開發(fā)，包括低功耗消費電子、高性能計算（HPC）、人工智能和移動計算設計。
2024-02-27 14:21:13960 Intel表示，18A節(jié)點的生產預計將于年底前開始，14A節(jié)點的生產最早將于2027年實現(xiàn)盈虧平衡。
2024-04-10 10:33:141542 
英特爾正在按計劃實現(xiàn)其“四年五個制程節(jié)點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現(xiàn)大規(guī)模量產。
2024-05-11 09:25:401825 
英特爾正在按計劃實現(xiàn)其“四年五個制程節(jié)點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現(xiàn)大規(guī)模量產。正在順利推進中的Intel 20A和Intel
2024-05-16 15:38:10842 近日，英特爾按照其“四年五個制程節(jié)點”計劃，如期實現(xiàn)了Intel 3制程節(jié)點的大規(guī)模量產。使用這一節(jié)點的首款產品，代號為Sierra Forest的英特爾?至強?6能效核處理器，已經面向市場推出
2024-06-14 13:49:16822 技術。這一里程碑式的事件標志著Intel“四年五個制程節(jié)點”計劃正式進入沖刺階段，也預示著半導體行業(yè)即將邁入一個全新的“埃米時代”。
2024-06-14 14:18:001403 在半導體技術的浪潮中，英特爾一直扮演著引領者的角色。近日，英特爾再度以其強大的研發(fā)實力和創(chuàng)新精神，實現(xiàn)了其“四年五個制程節(jié)點”計劃的又一重要里程碑——Intel 3制程節(jié)點的大規(guī)模量產。這一
2024-06-14 15:22:541428 據(jù)外媒最新報道，全球知名的處理器大廠英特爾在周三宣布了一個重要的里程碑：其先進的3nm級制程工藝技術“Intel 3”已在兩個工廠正式投入大批量生產。這一技術的突破，無疑將為英特爾在超高性能計算領域帶來顯著優(yōu)勢。
2024-06-21 09:31:321416 BCD 工藝制程技術只適合某些對功率器件尤其是BJT 或大電流 DMOS 器件要求比較高的IC產品。BCD 工藝制程技術的工藝步驟中包含大量工藝是為了改善 BJT 和 DMOS 的大電流特性，所以它
2024-07-22 09:40:326760 
英特爾公司近日宣布了一項重大技術進展，標志著其在半導體制造領域的又一里程碑?；?b class="flag-6" style="color: red">Intel 18A制程節(jié)點打造的首批產品——AI PC客戶端處理器Panther Lake和服務器處理器
2024-08-07 16:50:241158 英特爾即將實現(xiàn)“四年五個制程節(jié)點”計劃，將提前把工程資源從Intel 20A投入到Intel 18A，按計劃于2025年推出Intel 18A。 Intel 18A在晶圓廠里的生產良好，良率表現(xiàn)優(yōu)秀
2024-09-05 16:03:341020 在半導體制程技術的前沿，英特爾正穩(wěn)步推進其“四年五個制程節(jié)點”計劃，加速實現(xiàn)在2025年推出尖端的制程節(jié)點Intel 18A。 今天，我們將介紹英特爾的兩項突破性技術：RibbonFET全環(huán)繞柵極
2024-09-11 17:57:52733 
近日舉行的英特爾新質生產力技術生態(tài)大會上，英特爾高級副總裁兼中國區(qū)董事長王銳宣布了一項令人振奮的消息：英特爾的先進制程芯片Intel 18A預計將在2025年正式量產。 這一消息的公布標志著英特爾在
2024-11-28 17:37:012314 ，英特爾代工已取得重要里程碑。例如，Intel 18A制程節(jié)點已進入風險試產階段，并計劃于今年內實現(xiàn)正式量產。這一節(jié)點采用了PowerVia背面供電技術和RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管。英特爾代工的生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴為Intel 18A提供了EDA支持，參考流程
2025-05-09 11:42:16626 
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