可是真實情況到底是什么樣？本文來做個簡要分析。

　　一、哈工大突破***核心部件

　　近日，哈工大官宣研制出HUE-D/S/X系列“高速超精密激光干涉儀”，在網上備受關注。因為，該研發項目可解決高端裝備發展和量子化計量基準等前沿研究的“卡脖子”問題，更重要的是，該儀器是***的核心部件。眾所周知，***主要包括：光源系統、浸液系統、光學系統、工件臺掩模臺系統。其中工件臺掩模臺為***中的超精密定位平臺，對***的產片率很大影響。高速超精密激光干涉儀可以對***中雙工件臺的多維運動，進行線位移、角位移同步測量與解耦，以滿足掩膜工件臺、硅片工件臺和投影物鏡之間，日益復雜的相對位移、姿態測量需求，進而保證***整體套刻的精度。因此，在***等高端設備中，超精密高速激光干涉儀是核心單元之一，它是實現極限工作精度和工作效率的必要條件。

　　二、該儀器受關注

　　另外一個原因，是因為它的技術整體水平高。據悉，哈工大研制出的HUE-D/S/X系列“高速超精密激光干涉儀”不僅實現亞納米，甚至深亞納米級的高分辨力高精度位移測量。經過3位院士及專家鑒定，HUE-D/S/X系列儀器整體水平達到了國際先進水平，其中3項關鍵技術處于國際領先。哈工大團隊突破系列核心測量方法和工程化關鍵技術，解決了該領域存在的測不準、測不精、測不快的核心難題，該技術已經滿足國內***的各項需求。值得注意的是，該設備并不是停留在線上研究。據了解，“高速超精密激光干涉儀”已實現了小批量生產，且應用在我國的350nm到28nm多個工藝節點的***樣機集成研制和性能測試領域。

　　三、它能否用于EUV設備？

　　從以上的介紹可以得知，該核心部件是可以用于DUV光刻設備的，已應用到28nm以上工藝節點上。不過，EUV設備的技術要求更高，就目前來說，哈工大研制出的HUE-D/S/X系列儀器暫時還不可應用到極紫外光刻設備上。一方面，EUV設備的移動工件臺運動范圍、精度和速度，都比DUV更進一步提升了。EUV要求在大量程6自由度復雜耦合高速運動條件下，實現0.1nm及以下的位移測量精度。另一方面，EUV光刻設備是真空工作環境，這樣來減少空氣流動波和空氣折射率引入的測量差。同時，EUV也大大提升了整體測量系統結構，針對空氣真空適應性設計的復雜性。

　　四、少一些自媒體的自嗨，吾輩尚需努力

　　不過值得注意的是，超精密激光干涉儀也是EUV***的核心技術之一，這項技術的突破，可為極紫外***研發提供重要的技術儲備。而且，哈工大研發團隊還在繼續努力，將研發極紫外***的超精密高速激光干涉儀，適用于EUV光刻設備。

　　編輯：黃飛