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廣明源邀您共赴2025半導體設備與核心部件及材料展

廣明源 ? 來源:廣明源 ? 2025-08-25 17:16 ? 次閱讀
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9月4-6日,第十三屆半導體設備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)將在無錫太湖國際博覽中心舉行。本屆展會以“做強中國芯,擁抱芯世界”為主題,匯聚國內外領先企業(yè)和前沿技術,是我國半導體設備與核心部件及材料領域的重要年度平臺,集“技術交流、展覽展示、產品發(fā)布、經貿洽談、國際合作及市場拓展”于一體的產業(yè)盛宴。

誠邀蒞臨 CSEAC 2025

廣明源將攜172nm準分子光源與模組設備亮相本屆展會,重點展示在晶圓清洗、表面改性、超純水 TOC 處理及工藝驗證開發(fā)等關鍵環(huán)節(jié)的應用。誠摯邀請您蒞臨廣明源展位(B1-219),與我們深入交流,共同探討產業(yè)前沿與合作機遇。

展品預覽

172nm準分子光源

光清洗:

通過172nm高能紫外線激發(fā)自由基,氧化分解表面有機物,達到原子級潔凈度。

表面改性:

在材料表面引入-OH極性基團,提升表面能與親水性,改善后續(xù)工藝粘附效果。

純水處理TOC 降解:

利用172nm紫外氧化技術,將水中的有機物高效降解為CO?和H?O,TOC水平可降低至ppb級。

光固化:

高能光子快速引發(fā)聚合反應,實現(xiàn)材料表面高效固化,具備速度快、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢。

172nm準分子模組

172nm MINI實驗模組

專為半導體工藝研發(fā)、制程驗證及小批量試產設計,具備結構緊湊、便于部署、靈活可移、成本可控等特點。

高能紫外儀

該模組支持實驗驗證與應用開發(fā),大幅縮短驗證周期,加速成果落地,適用于光清洗、光固化及光改性等領域。

晶圓光清洗模組

該模組專為晶圓基材光清洗設計,可高效去除納米級有機污染物,提升后續(xù)鍍膜/鍵合工藝良率。

全流程定制方案支持

圍繞高端制造制程工藝需求,提供172nm 準分子光源與模組的定制化服務,覆蓋從實驗驗證到量產應用的不同階段,助力實現(xiàn)更高效、更可靠的工藝方案。

廣明源期待與您在 CSEAC 2025 相聚,共同交流前沿技術,分享實踐經驗,攜手探索更多合作機會。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:邀請函|廣明源邀您參加CSEAC 2025第十三屆半導體設備與核心部件及材料展

文章出處:【微信號:gmyokwx,微信公眾號:廣明源】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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