9月4-6日，第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）將在無錫太湖國際博覽中心舉行。本屆展會以“做強中國芯，擁抱芯世界”為主題，匯聚國內(nèi)外領(lǐng)先企業(yè)和前沿技術(shù)，是我國半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料領(lǐng)域的重要年度平臺，集“技術(shù)交流、展覽展示、產(chǎn)品發(fā)布、經(jīng)貿(mào)洽談、國際合作及市場拓展”于一體的產(chǎn)業(yè)盛宴。

誠邀蒞臨 CSEAC 2025

廣明源將攜172nm準(zhǔn)分子光源與模組設(shè)備亮相本屆展會，重點展示在晶圓清洗、表面改性、超純水 TOC 處理及工藝驗證開發(fā)等關(guān)鍵環(huán)節(jié)的應(yīng)用。誠摯邀請您蒞臨廣明源展位（B1-219），與我們深入交流，共同探討產(chǎn)業(yè)前沿與合作機遇。

展品預(yù)覽

172nm準(zhǔn)分子光源

光清洗：

通過172nm高能紫外線激發(fā)自由基，氧化分解表面有機物，達到原子級潔凈度。

表面改性：

在材料表面引入-OH極性基團，提升表面能與親水性，改善后續(xù)工藝粘附效果。

純水處理TOC 降解：

利用172nm紫外氧化技術(shù)，將水中的有機物高效降解為CO?和H?O，TOC水平可降低至ppb級。

光固化：

高能光子快速引發(fā)聚合反應(yīng)，實現(xiàn)材料表面高效固化，具備速度快、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢。

172nm準(zhǔn)分子模組

172nm MINI實驗?zāi)＝M

專為半導(dǎo)體工藝研發(fā)、制程驗證及小批量試產(chǎn)設(shè)計，具備結(jié)構(gòu)緊湊、便于部署、靈活可移、成本可控等特點。

高能紫外儀

該模組支持實驗驗證與應(yīng)用開發(fā)，大幅縮短驗證周期，加速成果落地，適用于光清洗、光固化及光改性等領(lǐng)域。

晶圓光清洗模組

該模組專為晶圓基材光清洗設(shè)計，可高效去除納米級有機污染物，提升后續(xù)鍍膜/鍵合工藝良率。

全流程定制方案支持

圍繞高端制造制程工藝需求，提供172nm 準(zhǔn)分子光源與模組的定制化服務(wù)，覆蓋從實驗驗證到量產(chǎn)應(yīng)用的不同階段，助力實現(xiàn)更高效、更可靠的工藝方案。

廣明源期待與您在 CSEAC 2025 相聚，共同交流前沿技術(shù)，分享實踐經(jīng)驗，攜手探索更多合作機會。