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      標(biāo)簽　>　光刻

      光刻

      +關(guān)注7人關(guān)注

      光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。

      文章：303個 瀏覽：31349次 帖子：5個

      光刻技術(shù)

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      2024-10-31 標(biāo)簽：晶圓工藝光刻 2.2k 0

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      2022-07-26 標(biāo)簽：光刻3D封裝 2.2k 0

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      極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。

      2023-06-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓光刻 2.1k 0

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      壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強現(xiàn)實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?

      2022-07-25 標(biāo)簽：傳感器工藝光刻 2.1k 0

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      2023-04-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻EUV 2.1k 0

      計算光刻技術(shù)有多重要？計算光刻如何改變2nm芯片制造？

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      2023-04-25 標(biāo)簽：gpu芯片制造光刻 2.1k 0

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      2025-10-24 標(biāo)簽：集成電路光刻刻蝕 2.1k 0

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      在PCB的制造和設(shè)計過程中，可能會出現(xiàn)一種叫做"死銅"的問題。本文將解析死銅在PCB上的含義、成因、對電路性能的影響以及解決方法。

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      2022-01-10 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻晶片 2k 0

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      2022-08-25 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體工藝 2k 0

      華為EUV光刻新專利可解決相干光無法勻光問題

      該專利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內(nèi)的累積光強均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)...

      2022-11-23 標(biāo)簽：華為光刻EUV 2k 0

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      2023-10-24 標(biāo)簽：芯片集成電路芯片制造 1.9k 0

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      2023-11-29 標(biāo)簽：電路半導(dǎo)體光刻 1.8k 0

      這可能最簡單的半導(dǎo)體工藝流程

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