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Mentor的CalibreLFD獲得TSMC的20nm制造工藝認證

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SMA接頭制造工藝詳解:精密加工技術與實現(xiàn)策略

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2025-04-26 09:22:35572

TSMC A14 第二代 GAA 工藝解讀

在半導體行業(yè),每一次制程工藝的突破都如同一場科技革命,它不僅重新定義了芯片性能的邊界,更為電子設備的智能化、高效能運算等領域注入了強大的活力。而就在近期,TSMC在2025年北美技術研討會上正式宣布
2025-04-25 13:09:101569

廣明源172nm晶圓光清洗方案概述

在半導體制造中,清洗工藝貫穿于光刻、刻蝕、沉積等關鍵流程,并在單晶硅片制備階段發(fā)揮著重要作用。隨著技術的發(fā)展,芯片制程已推進至28nm、14nm乃至更先進節(jié)點。
2025-04-24 14:27:32715

Xilinx Ultrascale系列FPGA的時鐘資源與架構解析

Ultrascale是賽靈思開發(fā)的支持包含步進功能的增強型FPGA架構,相比7系列的28nm工藝,Ultrascale采用20nm工藝,主要有2個系列:Kintex和Virtex
2025-04-24 11:29:012261

三星在4nm邏輯芯片上實現(xiàn)40%以上的測試良率

較為激進的技術路線,以挽回局面。 4 月 18 日消息,據(jù)韓媒《ChosunBiz》當?shù)貢r間 16 日報道,三星電子在其 4nm 制程 HBM4 內存邏輯芯片的初步測試生產(chǎn)中取得了40% 的良率,這高于
2025-04-18 10:52:53

最全最詳盡的半導體制造技術資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

資料介紹 此文檔是最詳盡最完整介紹半導體前端工藝和后端制程的書籍,作者是美國人Michael Quirk。看完相信你對整個芯片制造流程會非常清晰地了解。從硅片制造,到晶圓廠芯片工藝的四大基本類
2025-04-15 13:52:11

鑫雁微GH2101芯片獲得AEC-Q100認證

近日,國際公認的測試、檢驗和認證機構SGS為上海鑫雁微電子股份有限公司(以下簡稱 “鑫雁微”)頒發(fā)AEC-Q100認證證書,標志著鑫雁微在汽車電子領域的技術水平和產(chǎn)品質量得到了國際認可,為其獲得更多與車企及汽車電子供應商合作機會提供有力支持。
2025-04-14 11:07:54810

博泰車聯(lián)網(wǎng)獲得兩項國際權威認證

近日,博泰車聯(lián)網(wǎng)成功通過國際權威機構德國TüV NORD的嚴格評審,獲得ISO/IEC 27001信息安全管理體系及ISO/IEC 27701隱私信息管理體系雙項國際認證。此殊榮標志著博泰車聯(lián)網(wǎng)在信息安全和隱私保護領域得到國際認可,為全球汽車智能化進程注入強效“安全基因”。
2025-04-08 16:29:38839

3D閃存的制造工藝與挑戰(zhàn)

3D閃存有著更大容量、更低成本和更高性能的優(yōu)勢,本文介紹了3D閃存的制造工藝與挑戰(zhàn)。
2025-04-08 14:38:392037

奧特尼克獲得DEKRA德凱ISO 26262 ASIL-D認證

北京奧特尼克科技有限公司(以下簡稱“奧特尼克”)近日成功通過汽車功能安全領域最高等級認證——ISO 26262:2018 ASIL-D管理體系認證,并獲得由DEKRA德凱頒發(fā)的功能安全流程認證證書
2025-04-07 16:42:40852

芯科科技FG25 Sub-GHz SoC獲得Wi-SUN FAN 1.1認證

的EFR32FG25(FG25)Sub-GHz SoC獲得Wi-SUN FAN 1.1路由器和邊界路由器應用認證后,這一領先地位得以延續(xù)。
2025-04-02 11:08:061229

【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

工藝流程: 芯片設計,光掩模版制作,晶圓上電路制造,(薄膜氧化,平坦化,光刻膠涂布,光刻,刻蝕,離子注入擴散,裸片檢測)
2025-03-27 16:38:20

柵極技術的工作原理和制造工藝

本文介紹了集成電路制造工藝中的柵極的工作原理、材料、工藝,以及先進柵極工藝技術。
2025-03-27 16:07:411958

不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167

千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道?據(jù)多方消息來源推測,三星電子可能取消原計劃于?2027?年量產(chǎn)的?1.4nm(FS1.4)晶圓代工工藝。三星在?“Samsung?Foundry?Forum?2022”?上首
2025-03-23 11:17:401827

千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝?

在先進制程領域目前面臨重重困難。三星 3nm(SF3)GAA 工藝自 2023 年量產(chǎn)以來,由于良率未達預期,至今尚未獲得大客戶訂單。
2025-03-22 00:02:002462

CMOS集成電路的基本制造工藝

本文主要介紹CMOS集成電路基本制造工藝,特別聚焦于0.18μm工藝節(jié)點及其前后的變化,分述如下:前段工序(FrontEnd);0.18μmCMOS前段工序詳解;0.18μmCMOS后段鋁互連工藝;0.18μmCMOS后段銅互連工藝
2025-03-20 14:12:174132

智芯公司安全藍牙芯片獲得BQB權威認證

近日,智芯公司自主研發(fā)的安全藍牙芯片成功通過藍牙技術聯(lián)盟(SIG)的BQB(Bluetooth Qualification Body)全面認證,成為國內藍牙芯片領域獲得BQB權威認證的企業(yè)之一,標志著智芯公司的安全藍牙芯片在兼容性、穩(wěn)定性和安全性方面均達到了國際先進標準。
2025-03-18 14:13:241208

手機芯片進入2nm時代,首發(fā)不是蘋果?

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,2nm工藝制程的手機處理器已有多家手機處理器廠商密切規(guī)劃中,無論是臺積電還是三星都在積極布局,或將有數(shù)款芯片成為2nm工藝制程的首發(fā)產(chǎn)品。 ? 蘋果A19 或A20 芯片采用臺
2025-03-14 00:14:002486

集成電路制造中的電鍍工藝介紹

本文介紹了集成電路制造工藝中的電鍍工藝的概念、應用和工藝流程。
2025-03-13 14:48:272307

集成電路制造工藝中的High-K材料介紹

本文介紹了在集成電路制造工藝中的High-K材料的特點、重要性、優(yōu)勢,以及工藝流程和面臨的挑戰(zhàn)。
2025-03-12 17:00:212498

集成電路制造中的劃片工藝介紹

本文概述了集成電路制造中的劃片工藝,介紹了劃片工藝的種類、步驟和面臨的挑戰(zhàn)。
2025-03-12 16:57:582794

曝三星已量產(chǎn)第四代4nm芯片

據(jù)外媒曝料稱三星已量產(chǎn)第四代4nm芯片。報道中稱三星自從2021年首次量產(chǎn)4nm芯片以來,每年都在改進技術。三星現(xiàn)在使用的是其最新的第四代4nm工藝節(jié)點(SF4X)進行大規(guī)模生產(chǎn)。第四代4nm工藝
2025-03-12 16:07:1713207

樂鑫科技RISC-V芯片ESP32-C6獲得PSA Certified Level 2認證

樂鑫科技 (688018.SH) 榮幸宣布 ESP32-C6 于 2025 年 2 月 20獲得 PSA Certified Level 2 認證。這一重要突破使 ESP32-C6 成為全球首款基于 RISC-V 架構獲此認證的芯片,體現(xiàn)了樂鑫致力于為全球客戶提供安全可靠、性能卓越的物聯(lián)網(wǎng)解決方案的堅定承諾。
2025-03-07 15:18:101100

芯片制造中的淺溝道隔離工藝技術

淺溝道隔離(STI)是芯片制造中的關鍵工藝技術,用于在半導體器件中形成電學隔離區(qū)域,防止相鄰晶體管之間的電流干擾。本文簡單介紹淺溝道隔離技術的作用、材料和步驟。
2025-03-03 10:00:473388

2025年中國成熟芯片將占全球產(chǎn)量的28%

的市場格局。 成熟工藝節(jié)點(通常指20nm及以上的工藝)看似工藝遠落后于先進工藝節(jié)點(典型如5nm),但卻是芯片市場的主流,被廣泛應用于消費電子和汽車等諸多日常產(chǎn)品中,而這些看似落后的芯片產(chǎn)品實則為整個芯片行業(yè)的研發(fā)部門提供了寶貴的利潤
2025-02-28 14:29:292814

電芯UL1642認證?安全解鎖全球市場

監(jiān)督:獲得UL1642認證后,電芯需要接受UL認證機構的定期監(jiān)督,以確保持續(xù)符合認證要求。 2.更新認證信息:如果電芯的設計、材料或生產(chǎn)工藝發(fā)生變更,需要及時向UL認證機構提交變更申請,并接受相應的測試
2025-02-21 09:11:42

集成電路制造工藝中的偽柵去除技術介紹

本文介紹了集成電路制造工藝中的偽柵去除技術,分別討論了高介電常數(shù)柵極工藝、先柵極工藝和后柵極工藝對比,并詳解了偽柵去除工藝。 高介電常數(shù)金屬柵極工藝 隨著CMOS集成電路特征尺寸的持續(xù)縮小,等效柵氧
2025-02-20 10:16:361303

接觸孔工藝簡介

本文主要簡單介紹探討接觸孔工藝制造流程。以55nm接觸控工藝為切入點進行簡單介紹。 ? 在集成電路制造領域,工藝流程主要涵蓋前段工藝(Front End of Line,F(xiàn)EOL)與后段工藝
2025-02-17 09:43:282173

敏實集團榮獲DEKRA德凱認證證書

近日,敏實集團順利通過ISO 26262:2018 ASIL-D汽車功能安全管理體系認證和ASPICE CL2級認證,并獲得由DEKRA德凱頒發(fā)的功能安全流程認證證書和ASPICE CL2級認證報告。該認證證書和報告的獲得標志著敏實集團在安全管理體系和汽車電子軟件開發(fā)方面已達到國際標準。
2025-02-15 09:27:101118

臺積電加大亞利桑那州廠投資,籌備量產(chǎn)3nm/2nm芯片

據(jù)最新消息,臺積電正計劃加大對美國亞利桑那州工廠的投資力度,旨在推廣“美國制造”理念并擴展其生產(chǎn)計劃。據(jù)悉,此次投資將著重于擴大生產(chǎn)線規(guī)模,為未來的3nm和2nm等先進工藝做準備。
2025-02-12 17:04:04995

通快與SCHMID集團合作創(chuàng)新芯片制造工藝

德國通快集團(TRUMPF)與SCHMID集團近期宣布了一項重大合作,旨在為全球芯片行業(yè)帶來革命性的制造工藝升級。雙方正攜手開發(fā)最新一代微芯片的創(chuàng)新制造流程,旨在提升智能手機、智能手表及人
2025-02-06 10:47:291119

德明利高端存儲芯片eMMC通過紫光展銳移動芯片平臺認證

應用中取得重大的市場拓展。紫光展銳平臺認證信息此次認證涉及的紫光展銳T606是新一代8核LTE移動芯片平臺,基于先進的12nm制程工藝,搭載了雙核ArmCorte
2025-01-21 16:35:112135

歐洲啟動1nm及光芯片試驗線

高達14億美元,不僅將超越當前正在研發(fā)的2nm工藝技術,更將覆蓋從1nm至7A(即0.7nm)的尖端工藝領域。NanoIC試驗線的啟動,標志著歐洲在半導
2025-01-21 13:50:441023

創(chuàng)飛芯90nm BCD工藝OTP IP模塊規(guī)模量產(chǎn)

一站式 NVM 存儲 IP 供應商創(chuàng)飛芯(CFX)今日宣布,其反熔絲一次性可編程(OTP)技術繼 2021年在國內第一家代工廠實現(xiàn)量產(chǎn)后,2024 年在國內多家代工廠關于 90nm BCD 工藝上也
2025-01-20 17:27:471647

FinFET制造工藝的具體步驟

本文介紹了FinFET(鰭式場效應晶體管)制造過程中后柵極高介電常數(shù)金屬柵極工藝的具體步驟。
2025-01-20 11:02:395360

海伯森六維力傳感器獲得國家防爆認證

獲得國家防爆合格證,為工業(yè)應用的安全與高效注入了新的活力。 防爆認證,是根據(jù)防爆標準對設備或系統(tǒng)進行的檢驗認證工作。GB/T 3836.1 - 2021 與 GB/T 3836.4 - 2021是國家針對爆炸性環(huán)境用電氣設備精心制定的重要安全準則,對設備的防爆性能
2025-01-16 16:42:021072

光耦的制造工藝及其技術要求

光耦的制造工藝 1. 材料選擇 光耦的制造首先需要選擇合適的半導體材料,如硅、鍺等。這些材料需要具有優(yōu)良的光電特性,以確保光耦的高性能。 2. 芯片制備 光耦的芯片制備包括發(fā)光二極管和光敏元件的制造
2025-01-14 16:55:081780

鉭電容的制造工藝詳解

鉭電容的制造工藝是一個復雜而精細的過程,以下是對其制造工藝的詳細解析: 一、原料準備 鉭粉制備 : 鉭粉是鉭電容器的核心材料,通常通過粉末冶金工藝制備。 將鉭金屬熔化,然后通過噴霧干燥技術制成粉末
2025-01-10 09:39:412746

天合光能兩大制造基地獲得SSI ESG標準認證

)ESG標準認證,成為行業(yè)首家獲得此項殊榮的企業(yè)。此次認證不僅彰顯了天合光能在ESG領域的領導地位和堅定承諾,更體現(xiàn)了其在推動光伏行業(yè)可持續(xù)標準體系建設方面的建設性作用。
2025-01-10 09:12:241261

芯片制造的7個前道工藝

本文簡單介紹了芯片制造的7個前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)實生活的橋梁。本文將帶您深入芯片制造的前道工藝
2025-01-08 11:48:344037

聯(lián)發(fā)科調整天璣9500芯片制造工藝

近日,據(jù)外媒最新報道,聯(lián)發(fā)科正在積極籌備下一代旗艦級芯片——天璣9500,并計劃在今年末至明年初正式推出這款備受期待的芯片。 原本,聯(lián)發(fā)科有意采用臺積電最先進的2nm工藝制造天璣9500,以期在
2025-01-06 13:48:231130

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