提高KLA在圖案化晶圓缺陷檢測、檢視和分類中的優勢。

加利福尼亞州米爾皮塔斯，2019年7月9日- KLA公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今日發布392x和295x光學缺陷檢測系統和eDR7380?電子束缺陷檢視系統。這些全新的檢測系統是我們公司旗艦產品系列——圖案晶圓平臺的進一步拓展，其檢測速度和靈敏度均有提升，代表了光學檢測的新水準。全新電子束檢視系統的創新使其自身價值進一步穩固，并成為缺陷和發現其產生根源之間的必要一環。對于領先的3D NAND、DRAM和邏輯集成電路（IC），該產品組合將縮短整個產品周期，加快其上市時間。

“為了有利潤地制造下一代內存和邏輯芯片，對所需的制程控制要求之高也是前所未有的，”KLA國際產品部執行副總裁Ahmad Khan說。“元件結構變得更小、更窄、更高、更深，并且形狀更為復雜以及材料更為新穎。將缺陷與其他無害的物理變化分開——也就是從噪聲中分離出所需信號——已成為一個非常棘手的難題。我很高興地宣布我們的光學和電子束工程團隊開發了一系列創新的系統，將缺陷的檢測和檢視相結合，這將推動我們的行業繼續向前發展。”

392x和295x光學圖案晶圓缺陷檢測系統在寬光譜等離子照射技術，傳感器架構和整合芯片設計數據等方面都取得實質性的進步，其靈敏度、產量和良率相關的缺陷分類等功能都是業界翹楚。因此，與領先業界的前一代產品相比，新系統可以更為迅速地發現缺陷并提升良率，同時提供更為全面的在線監控。對于包括EUV光刻質量控制在內的各種檢測應用，392x和295x系統可以提供不同的波長范圍并涵蓋從淺溝槽隔離到金屬化的所有制程層。

憑借一流的圖像質量和通過一次測試獲得完整缺陷分布圖的獨特能力，eDR7380電子束晶圓缺陷檢視系統可以在產品開發中更加迅速地捕獲缺陷源，同時在生產制造中更快地檢測偏移并且獲取更為準確及可操作的數據。該系統能夠對脆弱的EUV光刻工藝層進行檢視。與KLA檢測儀的獨特結合可以縮短獲取結果的時間，促進多種的KLA特定應用的使用，并通過智能采樣和高效缺陷數據交換提升檢測的靈敏度。

392x、295x和eDR7380系統都可用作新系統或者對上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系統進行升級。這些系統均具有未來的可擴展性，從而保護晶圓廠的資本投資。

所有新系統都已在全球領先的IC制造廠中安裝運行，與其他機臺一起共同用于制造創新的電子元件。為了確保芯片制造商所需的高性能和高生產效率，KLA全球綜合服務網絡將對392x、295x和eDR7380系統提供支持。