貿易戰一波三折，目前兩方還是在互懟的狀態。。。6月15日，美國白宮宣布對從中國進口的、含重要工業技術的500億美元商品征收25%的關稅，并提到這些商品與“中國制造2025”相關。中國方面立即做出回應，將對等反擊美國挑起的貿易戰。6月16日，國務院稅委會宣布對美國出口至中國的695項約500億商品加收關稅，具體也分成兩類：對農產品、汽車、水產品等545項商品自2018年7月6日起加征25%關稅；對化工品、醫療設備、能源產品等114項商品，加征關稅實施時間另行公告。

大大說過：核心技術是化緣不來的。是的，這個時間段正是我們抓緊補漏的階段，尤其是在半導體行業等重點薄弱領域，做好自身實力上的儲備。

前不久，長江存儲迎來了一臺來自于荷蘭的光刻機，可謂是為芯片制造產業增添一件利器！這臺光刻機同樣來自荷蘭ASML，193nm沉浸式設計，可生產20-14nm工藝的3DNAND閃存晶圓，售價達7200萬美元，約合人民幣4.6億元。這臺光刻機的加盟，意義真是非凡！

標志著中國在生產設備上與其他尖端芯片制造強國處于同一水平上，相信國產SSD固態硬盤能夠更上一層樓。

那么，什么是光刻機呢？本節小編就帶大家一起認識一下光刻機。

一、什么是光刻機？

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。

當然，光刻機是用來制作芯片的，所以我們來介紹一下基本的芯片制造工藝中的光刻工藝。

一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

在我們知道了光刻機的作用之后，相信大家會疑問：光刻機有哪些種類呢？

二、光刻機的品牌

光刻機的品牌眾多，大致在層次上可以分為高檔和低檔兩類：：

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。

高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

那么，光刻機在原理上可以分為哪幾類呢？

三、光刻機的種類

光刻機在原理上可以分為三類：接觸式光刻機、接近式光刻機、投影式光刻機。

接觸式光刻機，來源于它的曝光方式：采用了接觸式曝光的形式，就是掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）。

接觸式光刻機雖然簡單，但是存在一些問題：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損，容易損壞，壽命很低（只能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個世紀七十年代的工業水準，已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產光刻機均為接觸式曝光，國產光刻機的開發機構無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產品化，所以中國的光刻機研發還要加把力！

接近式光刻機采用了接近式曝光的方式，掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現代光刻工藝中應用最為廣泛。