本文主要對接觸式三維測量和非接觸式三維測量進(jìn)行了介紹。著重介紹了光學(xué)三維測量技術(shù)的各種實現(xiàn)方法及原理。最后對目前光學(xué)三維測量的應(yīng)用進(jìn)行了簡單介紹。
2022-07-13 10:09:28
4794 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強(qiáng)現(xiàn)實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:072070 
關(guān)于紅外雨量計（光學(xué)雨量傳感器）的紅外光學(xué)測量技術(shù) 紅外雨量計是一種常用的雨量測量設(shè)備，它通過紅外光學(xué)測量技術(shù)來測量雨量。紅外光學(xué)測量技術(shù)是指利用光學(xué)原理和儀器對物體的紅外輻射進(jìn)行測量、分析和處理
2023-08-11 14:50:301661 
雙光子光刻技術(shù)能夠精確制備三維結(jié)構(gòu)，并將其精準(zhǔn)集成在光電芯片上，能夠在光纖-芯片以及芯片-芯片之間，構(gòu)建大帶寬、低損耗的光信號鏈路，實現(xiàn)光信號的高效互連，降低封裝過程的對準(zhǔn)精度，給光學(xué)芯片的封裝過程帶來了全新的機(jī)遇。
2023-11-06 14:36:301813 
在關(guān)鍵尺寸的在線量測環(huán)節(jié)，所運用的設(shè)備主要涵蓋 CD-SEM 以及 OCD（optical critical dimention，光學(xué)關(guān)鍵尺寸）量測設(shè)備。
2025-03-06 16:42:103469 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應(yīng)對光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布，由于光的衍射效應(yīng)，實際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
光刻掩膜設(shè)計與加工制造服務(wù)，請問可以加工二元光學(xué)器件嗎？相位型光柵那種.
2024-04-22 06:24:37
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
文章編號：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術(shù)核心的集成電路制造技術(shù)是電子工業(yè)的基礎(chǔ)，其發(fā)展更新的速度是其他產(chǎn)業(yè)無法企及的。在集成電路制作過程中，光刻是其關(guān)鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測量物體表面的形狀和輪廓的檢測儀器。它利用光學(xué)投射原理，通過光學(xué)傳感器對物體表面進(jìn)行掃描，并根據(jù)反射光的信息來
2023-08-21 13:41:46
` 隨著傳感器技術(shù)、計算機(jī)應(yīng)用技術(shù)、超大規(guī)模集成電路技術(shù)和網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)測徑儀被廣泛的應(yīng)用于外徑檢測當(dāng)中，測徑儀隨著傳感器技術(shù)的愈加成熟，測量精度更高，測量更準(zhǔn)確，更適合現(xiàn)代化的生產(chǎn)工藝
2018-11-02 09:24:10
性化，可于不同倍率/不同光源下精密量測，知名度享譽(yù)世界及同業(yè)，且為美國第一大視覺量測制造廠。 2、光學(xué)影像檢測系統(tǒng)的作用 光學(xué)影像測量系統(tǒng)為現(xiàn)代制造機(jī)械的關(guān)鍵性設(shè)備，并廣泛應(yīng)用于機(jī)器視覺應(yīng)用領(lǐng)域，如
2012-08-07 22:14:19
成都力得納光科技有限公司本公司本著“誠信，創(chuàng)新”的原則，長期從事光學(xué)微結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計及生產(chǎn)制作 ，擁有專業(yè)的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊及良好的社會資源。公司承接業(yè)務(wù)范圍：光刻復(fù)制、激光直寫、微納結(jié)構(gòu)刻蝕傳遞
2016-06-23 16:14:13
光學(xué)測試技術(shù)光學(xué)測試技術(shù)
2012-11-20 16:47:57
現(xiàn)象在 1946 年由 Frank 和 Ginzburg 從理論上給予了預(yù)言[ 1] , 隨著測試技術(shù)的進(jìn)步、測量設(shè)備的更新和加速器研制的需要, 1975 年光學(xué)渡越輻射開始被用來測量和診斷電子束的束
2018-03-14 09:25:53
光學(xué)透過率測量儀（也稱為光透過率檢測儀）是一種專門用于測量材料透光率的儀器。以下是對其技術(shù)原理和應(yīng)用場景的詳細(xì)解析：技術(shù)原理光學(xué)透過率測量儀的技術(shù)原理主要基于光的透射原理。當(dāng)光線通過物質(zhì)時，會發(fā)
2024-10-16 14:38:31
CCD光學(xué)測量系統(tǒng)原理
2012-07-20 22:57:56
在DDRx里面經(jīng)常會被一些縮寫誤擾，如OCD、OCT和ODT，我想有同樣困擾的大有人在，今天還是繼續(xù)上一篇的關(guān)鍵技術(shù)來介紹一下大家的這些困擾吧。片外驅(qū)動調(diào)校OCD（Off-Chip Driver
2016-08-31 11:36:41
利用CCD進(jìn)行光學(xué)測量，想知道ccd拍攝圖像的灰度值與相面上的照度和曝光時間有什么關(guān)系？知道了想灰度值、曝光時間等參數(shù)怎樣求得相面上的照度
2013-07-08 19:54:50
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
測物體通過物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測量對象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計算出測量尺寸。與普通的測量方法相比，使用CCD視覺檢測技術(shù)進(jìn)行測量
2021-04-10 11:38:28
什么是光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器？光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的主要技術(shù)指標(biāo)光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究進(jìn)展光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的應(yīng)用
2021-04-20 06:52:52
什么是RF MEMS？有哪些關(guān)鍵技術(shù)與器件？微電子機(jī)械系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystem)，簡稱MEMS，是以微電子技術(shù)為基礎(chǔ)而興起發(fā)展的，以硅、砷化鎵、藍(lán)寶石等為襯底
2019-08-01 06:17:43
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
優(yōu)勢在于測量大批量小型精密零部件，這對于質(zhì)量控制和生產(chǎn)流程的優(yōu)化至關(guān)重要。
圖像尺寸測量儀適用于哪些零部件？
1、圖像尺寸測量儀適用于各類機(jī)械零部件。
采用機(jī)器視覺技術(shù)，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入
2023-09-11 16:44:36
微型光學(xué)***模組，集感應(yīng)測量光路、微型機(jī)械構(gòu)造和數(shù)字/模擬微電子集成電路于一體，是高度微型化的機(jī)電一體化人機(jī)輸入模塊，其核心技術(shù)是光學(xué)***OFN（Optical Finger
2020-03-10 07:49:47
求一款大尺寸LCD光學(xué)量測系統(tǒng)的應(yīng)用方案
2021-06-01 07:14:32
【作者】：王艷茹;李斌成;劉明強(qiáng);【來源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：采用格林函數(shù)法,考慮徑向邊界條件和對流熱損失,理論上求解了有限尺寸高反射光學(xué)元件在激光作用下的熱傳導(dǎo)方程
2010-04-22 11:40:34
耳塞式光學(xué)心率測量
2021-01-21 06:56:41
我想使用 L6474 STATUS 寄存器的 OCD 標(biāo)志來檢測步進(jìn)電機(jī)受阻時機(jī)構(gòu)運動的結(jié)束。但是我們在這樣做時遇到了一些麻煩。如果 OCD_TH 中的電流小于 TVAL 中的電流，則在運動開始時
2022-12-07 07:54:35
期間內(nèi)外良好的光學(xué)對準(zhǔn)性。 光譜-物理獨特的腔外倍頻技術(shù)是全固體Q激光里面的最高品質(zhì)。另外激光器關(guān)鍵器件諸如泵浦二極管、光纖、shutter、輸出窗口等是可以簡單的現(xiàn)場維修更換的，這就使得光譜-物理
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
投影儀、影像測量儀等在效率上難以滿足用戶的測量需求。 全自動尺寸測量儀器將高精度遠(yuǎn)心光學(xué)鏡頭與智能化圖像處理技術(shù)相結(jié)合，并融入一鍵閃測原理，精度達(dá)到微米級
2022-06-14 15:26:37
中圖儀器基于3D光學(xué)成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優(yōu)點，以光學(xué)測量技術(shù)創(chuàng)新為發(fā)展基礎(chǔ)，研發(fā)出了常規(guī)尺寸光學(xué)3D測量儀、微觀尺寸光學(xué)3D測量儀、大尺寸光學(xué)3D測量儀等，能提供從納米到百米的精密測量
2023-04-21 11:32:11
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
提要：本文討論了光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統(tǒng)照明作了比較，并用 仿真軟件進(jìn)行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:02
0 LED光學(xué)參數(shù)的測量技術(shù)和國家光度標(biāo)準(zhǔn)
2010-12-27 17:14:47115 納米級測量的檢測儀器。SuperViewW一鍵三維形貌光學(xué)檢測輪廓儀能以3D非接觸方式，測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度，平面度
2024-07-17 14:16:41
中圖儀器SuperViewW微觀形貌幾何尺寸光學(xué)輪廓測量儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等，以3D非接觸方式，測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸。可測各類從超光滑到粗糙
2024-07-26 16:15:05
OCD TMS570 CortexR4
2017-10-26 09:14:0317 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:004076 和汞燈作為曝光光源，其特征尺寸在微米級以上。90年代以來，為了適應(yīng)IC集成度逐步提高的要求，相繼出現(xiàn)了g譜線、h譜線、I譜線光源以及KrF、ArF等準(zhǔn)分子激光光源。目前光學(xué)光刻技術(shù)的發(fā)展方向主要表現(xiàn)
2018-06-27 15:43:5013171 Ｘ射線投影光刻的無污染激光等離子體光源、高分辨率大視場投影光學(xué)系統(tǒng)、無應(yīng)力光學(xué)裝調(diào)工藝、深亞納米級鏡面加工和多層膜制備、低缺陷反射式掩膜、表面成像光刻膠、精密掃描機(jī)構(gòu)等關(guān)鍵技術(shù)均取得了突破
2019-01-02 16:32:2329613 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:536886 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4023322 海洋光學(xué)的光學(xué)測量系統(tǒng)，可用于LED、燈、平板顯示器、其它輻射源及太陽輻射的光譜輻射分析。新型的Jaz-ULM-200尺寸小巧，擁有強(qiáng)大的微處理器和低功耗顯示面板。它使用方便，用途廣泛，可以替代標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)計量儀和輻射計量儀。
2020-08-20 14:09:291099 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
光刻機(jī)被業(yè)界譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，其研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高，全球光刻機(jī)主要制造廠商主要包括荷蘭的 ASML、日本的 Nikon、日本的 Cannon、美國的 Ultratech 以及
2020-09-02 17:41:006641 
導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:5410099 近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機(jī)，而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支，除了光刻機(jī)外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 光刻技術(shù)的進(jìn)步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領(lǐng)下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進(jìn)投影、步進(jìn)掃描投影等曝光方式的變革。
2020-12-14 15:06:448831 集成電路設(shè)計發(fā)展到超深亞微米，其特征尺寸越來越小，并趨近于曝光系統(tǒng)的理論極限，光刻后硅片表面的成像將產(chǎn)生嚴(yán)重的畸變，即產(chǎn)生光學(xué)鄰近效應(yīng)（Optical Proximity Effect）。隨著光刻
2021-04-19 14:21:0215185 
OCD ICE 修復(fù)說明
2022-06-26 09:46:280 窄間隙尺寸和獨立于平臺的測量解決方案的需求，光學(xué)測量系統(tǒng)可以測量迄今為止未知的精度，以及在汽車車身生產(chǎn)的所有階段普遍使用一個相同的測量設(shè)備。”
2022-06-27 14:01:441183 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:534814 
光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:056458 Technology，RET)的延伸，其關(guān)鍵技術(shù)主要包括光學(xué)成像物理仿真、光學(xué)鄰近效應(yīng)校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模協(xié)同優(yōu)化 (Source-Mask Optimization， SMO） 等。三種計算光刻技術(shù)的對比見表。
2022-10-26 15:46:224102 介紹了測量精度為±0 .04 mm 的線陣 CCD 尺寸自動檢測系統(tǒng)的工作原理, 著重介紹了 尺寸測量信號的提取方法, 給出了實現(xiàn)電路, 并論述了電路實現(xiàn)中的關(guān)鍵技術(shù).經(jīng)實際應(yīng)用發(fā)現(xiàn), 該電路簡單、可靠、精度高, 有實用價值.
2022-11-22 17:39:020 劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 09:49:561701 中圖儀器影像測量儀、共聚焦顯微鏡、白光干涉儀基于3D光學(xué)成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優(yōu)點，能提供常規(guī)尺寸光學(xué)測量儀器、微觀尺寸光學(xué)測量儀器、大尺寸光學(xué)測量儀器等精密測量解決方案！
2023-04-20 17:11:441148 
光刻技術(shù)簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:324853 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:032240 光學(xué)計量學(xué)是當(dāng)今制造業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)之一。它通常可以被定義為用光進(jìn)行測量的科學(xué)，被廣泛用于評估產(chǎn)品（或其某些部件或組件）的物理特性
2023-04-28 11:19:102645 
EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:044249 
葉片是發(fā)動機(jī)關(guān)鍵零件，屬于薄壁易變形零件。如何控制其變形并高效、高質(zhì)量地加工是目前葉片制造行業(yè)研究的重要課題之一。 為了確保發(fā)動機(jī)葉片的質(zhì)量和可靠性，需要使用高精度的測量技術(shù)進(jìn)行檢測。下面將介紹發(fā)
2023-05-23 10:45:021356 
中圖儀器VX系列閃測儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭對圖像進(jìn)行捕捉，結(jié)合高精度圖像分析算法，精準(zhǔn)測量出電機(jī)沖片所有尺寸。VX系列閃測儀顛覆傳統(tǒng)測量模式，開創(chuàng)快速影像尺寸測量時代，只需一鍵，瞬間測量電機(jī)沖片所有尺寸，繁瑣的測量任務(wù)變得無比輕松。
2021-11-02 10:15:301770 
除了常見的尺寸測量儀器，近些年又出現(xiàn)了一種新型的測量儀器——閃測儀，也叫一鍵式測量儀和圖像尺寸測量儀，VX3000系列閃測儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測原理。只需按下啟動鍵，儀器即可實現(xiàn)一鍵式快速精準(zhǔn)測量。
2021-11-08 16:55:124883 
VX3000系列圖像尺寸測量儀具有測量范圍更大、承重更高、并可擴(kuò)展高度測量等優(yōu)勢。可以滿足各類零部件輪廓尺寸快速測量需求，工件無需定位，任意擺放，一鍵完成二維平面尺寸測量，搭載光學(xué)非接觸式測頭實現(xiàn)高度尺寸、平面度等參數(shù)的精密快速測量。
2022-09-20 15:04:272404 
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2023-07-10 20:17:210 。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計為研究方向，對照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:381673 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:151810 
PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)，獲得了客戶的廣泛認(rèn)可和一致好評。VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)以光學(xué)成像測量系統(tǒng)為基礎(chǔ)，配合高精度運
2023-12-01 08:08:151114 
VX9700光學(xué)掃描成像測量機(jī)紅、藍(lán)、綠三色光源滿足不同顏色PCB測量需求。高遠(yuǎn)心度雙側(cè)遠(yuǎn)心鏡頭提升數(shù)倍精度，一鍵測量新能源車PCB輪廓度、位置度、外形尺寸。
2023-12-01 09:29:551827 
的外觀、質(zhì)量和安全性。測量毛刺的尺寸及方向，以及檢查已去除的毛刺都是確保產(chǎn)品質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)。 首先，我們來討論毛刺的大小和方向如何測量。對于毛刺的大小，可以使用光學(xué)測量儀器如顯微鏡或光學(xué)投影儀來測量毛刺的高度和長
2023-12-07 14:24:368635 傳統(tǒng)的幾何尺寸測量儀器設(shè)備包括千分尺、角度尺、游標(biāo)卡尺等，這些儀器能夠滿足一般的幾何量測量需求。但是隨著科技的發(fā)展，越來越多高精度測量儀器被應(yīng)用于幾何量測量領(lǐng)域。從納米級光學(xué)3D表面輪廓儀通過光學(xué)
2023-12-26 17:16:392506 
光學(xué)三維測量技術(shù)是一種重要的非接觸式測量方法，廣泛應(yīng)用于工程、制造、設(shè)計等領(lǐng)域。
2024-02-22 10:40:421886 隨著科技進(jìn)步，顯微測量儀器以滿足日益增長的微觀尺寸測量需求而不斷發(fā)展進(jìn)步。多種高精度測量儀器被用于微觀尺寸的測量，其中包括光學(xué)3D表面輪廓儀（白光干涉儀）、共聚焦顯微鏡和臺階儀。有效評估材料表面
2024-06-07 09:31:580 光學(xué)跟蹤測量系統(tǒng)是一種高精度的測量技術(shù)，廣泛應(yīng)用于航空航天、軍事、工業(yè)制造等領(lǐng)域。 一、光學(xué)跟蹤測量系統(tǒng)的工作原理 光學(xué)跟蹤測量系統(tǒng)是一種基于光學(xué)原理的測量技術(shù)，通過測量目標(biāo)物體在空間中的位置、速度
2024-08-29 17:26:032259 光學(xué)測量鏡頭的選擇需要綜合考慮測量任務(wù)的要求、預(yù)算以及測量環(huán)境等因素，根據(jù)實際情況做出合理的決策，以便為光學(xué)測量提供最佳的鏡頭解決方案。
2024-09-03 16:34:141157 
電子束光刻技術(shù)使得對構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開發(fā)了涵蓋從光學(xué)到流體等多個物理領(lǐng)域、用以制造創(chuàng)新器件和標(biāo)準(zhǔn)的工藝流程。
2024-10-18 15:23:261801 
光學(xué)3D表面輪廓儀非接觸測量，高精度捕捉細(xì)節(jié)，快速采集數(shù)據(jù)，SuperViewW系列滿足多樣化需求，適用于科研、工業(yè)等多領(lǐng)域，實現(xiàn)高精度、大尺寸及特殊需求測量。
2024-11-01 15:50:241397 
分辨率（resolution）。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。
2024-11-15 10:10:414832 
高端光刻機(jī)研發(fā)是一個系統(tǒng)工程，涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破，在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā)，在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學(xué)集成裝配技術(shù)等，在
2024-11-21 13:43:582268 
圖像尺寸測量儀的出現(xiàn)為人造骨骼尺寸測量帶來了革命性的突破。它依托先進(jìn)的光學(xué)成像技術(shù)與精密的算法軟件，能夠快速、精準(zhǔn)地測量人造骨骼的平面尺寸。
2024-12-27 11:13:291075 
普密斯圖像尺寸測量儀運用了先進(jìn)的光學(xué)成像與圖像處理技術(shù)，這一技術(shù)是其實現(xiàn)高效精準(zhǔn)測量的核心。當(dāng)面對多個電子產(chǎn)品同時測量時，測量儀的高分辨率鏡頭能迅速捕捉產(chǎn)品的清晰圖像，這些圖像數(shù)據(jù)隨后被傳輸至內(nèi)置的智能算法模塊。
2025-01-17 15:13:59848 
圖1.拼接曝光加工系統(tǒng) 衍射光柵廣泛應(yīng)用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領(lǐng)域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法，在衍射光柵加工制造方面具有高效率、高靈活度的優(yōu)勢。但干涉光刻加工的光柵尺寸在
2025-05-22 09:30:59572 
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術(shù)，在微型顯示領(lǐng)域極具潛力。其中，陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果，而光刻圖形的精準(zhǔn)測量是確保制備質(zhì)量的關(guān)鍵。白光干涉儀憑借獨特
2025-05-23 09:39:17632 
? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形線寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線寬變化的方法，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中
2025-06-30 15:24:55740 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13490 一、引言 在半導(dǎo)體制造、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）等高新技術(shù)領(lǐng)域，1um 以下光刻深度、凹槽深度和寬度的精確測量至關(guān)重要。這類微小尺寸的測量精度直接影響產(chǎn)品性能與質(zhì)量，但因其尺寸微小，測量面臨諸多挑戰(zhàn)
2025-08-11 09:21:57587 光刻機(jī)外，技術(shù)難度最大、重要程度最高的設(shè)備之一。此次出機(jī)的 28 納米關(guān)鍵尺寸電子束量測量產(chǎn)設(shè)備，由無錫亙芯悅科技有限公司自主研制，在電子光學(xué)系統(tǒng)、運動平臺、電子電路和軟件等方向?qū)崿F(xiàn)了完全自研，能有效解決我國半導(dǎo)體量檢測
2025-08-19 16:17:38615 
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