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電子發燒友網>模擬技術>首批溝槽型MOSFET器件晶圓下線

首批溝槽型MOSFET器件晶圓下線

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2024-09-03 14:21:520

的制備流程

本文從硅片制備流程為切入點,以方便了解和選擇合適的硅,硅的制備工藝流程比較復雜,加工工序多而長,所以必須嚴格控制每道工序的加工質量,才能獲得滿足工藝技術要求、質量合格的硅單晶片(),否則就會對器件的性能產生顯著影響。
2024-10-21 15:22:271991

溝槽SiC MOSFET的結構和應用

MOSFET(U-MOSFET)作為新一代功率器件,近年來備受關注。本文將詳細解析溝槽SiC MOSFET的結構、特性、制造工藝、應用及其技術挑戰。
2025-02-02 13:49:001996

功率器件測試及封裝成品測試介紹

???? 本文主要介紹功率器件測試及封裝成品測試。?????? ? 測試(CP)???? 如圖所示為典型的碳化硅和分立器件電學測試的系統,主要由三部分組成,左邊為電學檢測探針臺阿波羅
2025-01-14 09:29:132360

英飛凌首批采用200毫米工藝制造的SiC器件成功交付

眾所周知,幾乎所有 SiC 器件都是在 150 毫米上制造的,使用更大的存在重大挑戰。從 200 毫米出貨器件是降低 SiC 器件成本的關鍵一步,其他公司也在開發 200 毫米技術
2025-02-19 11:16:55813

清洗機怎么做夾持

清洗機中的夾持是確保在清洗過程中保持穩定、避免污染或損傷的關鍵環節。以下是夾持的設計原理、技術要點及實現方式: 1. 夾持方式分類 根據尺寸(如2英寸到12英寸)和工藝需求,夾持
2025-07-23 14:25:43931

派恩杰3300V MOSFET的應用場景

派恩杰3300V MOSFET,專為高耐壓場景設計的第三代半導體功率器件核心材料,基于4H-SiC,擊穿電壓達3300V以上,相比于傳統硅基器件(如IGBT),它在高壓、高溫、高頻場景下性能
2025-08-01 10:20:291244

白光干涉儀在肖特基二極管的深溝槽 3D 輪廓測量

技術支持。 關鍵詞:白光干涉儀;肖特基二極管;深溝槽;3D 輪廓測量 一、引言 肖特基二極管的深溝槽是實現器件高壓、低功耗特性的關鍵結構,承擔著電場調制、電流路徑控制等重要功能,其 3D 輪廓參數(如溝槽深度、側壁陡
2025-10-20 11:13:27279

英偉達首片美國制造Blackwell下線,重塑AI芯片制造格局

近日,美國亞利桑那州鳳凰城的臺積電 Fab 21 晶圓廠內,一塊承載全球 AI 產業期待的特殊正式下線 —— 這是首片在美國本土制造的英偉達 Blackwell 芯片晶。英偉達 CEO 黃仁勛
2025-10-22 17:21:52703

白光干涉儀在深腐蝕溝槽的 3D 輪廓測量

摘要:本文研究白光干涉儀在深腐蝕溝槽 3D 輪廓測量中的應用,分析其工作原理及適配深腐蝕溝槽特征的技術優勢,通過實際案例驗證測量精度,為深腐蝕工藝的質量控制與器件性能優化提供技術支持
2025-10-30 14:22:51230

扇出級封裝技術的概念和應用

扇出級封裝(FOWLP)的概念最早由德國英飛凌提出,自2016 年以來,業界一直致力于FOWLP 技術的發展。
2026-01-04 14:40:30202

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