ASML第二季度EUV銷量超預(yù)期，中芯新增一臺訂單

2018年7月18日，ASML公布了2018年第二季度業(yè)績報告。報告指出，第二季度銷售額為27.4億歐元，凈利潤為5.84億歐元，毛利率達(dá)到43.3%。

2018-07-21 標(biāo)簽：EUVASML 3k 0

ASML新增訂單來自中芯國際？

2018年7月18日，ASML公布了第二季度業(yè)績報告，報告顯示第二季度EUV出貨量為4套，比預(yù)期高出一套，這是否意味著ASML的生產(chǎn)能力正在提升，中芯國...

2018-07-21 標(biāo)簽：中芯國際EUVASML 7.1k 0

ASML公司Q2季度出貨4臺EUV光刻機(jī)，大陸市場營收比例達(dá)到19%

光刻機(jī)，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一，荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場的一哥，壟斷了高端光科技生產(chǎn)，在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。

2018-07-19 標(biāo)簽：光刻機(jī)euvasml 3.5k 0

新思科技Custom Design Platform獲批三星7LPP工藝技術(shù)認(rèn)證

· 新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術(shù)提供經(jīng)認(rèn)證的工具、PDK、仿真模型、運(yùn)行集（runsets）以及定制參考流...

2018-07-18 標(biāo)簽：三星電子新思科技euv 8.1k 0

我國集成電路產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，但卻仍被光刻機(jī)“掐脖子”？

2018-07-13 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)euv 6.2k 0

國家集成電路創(chuàng)新中心啟動，將聚焦5nm及以下集成電路研發(fā)

國家集成電路創(chuàng)新中心、國家智能傳感器創(chuàng)新中心啟動會7月3日在上海舉行。國家集成電路創(chuàng)新中心將圍繞5nm及以下集成電路，聚焦四大共性技術(shù)，支持國產(chǎn)高端芯片...

2018-07-04 標(biāo)簽：集成電路euv 7.9k 0

摩爾定律的三種發(fā)展方向，EUV制程技術(shù)勢在必行

從2017到2018年，全球IC制造產(chǎn)業(yè)資本投資規(guī)模達(dá)到高峰，近兩年總投資均超過920億美元規(guī)模。目前中國臺灣IC制造產(chǎn)業(yè)仍以晶圓代工貢獻(xiàn)最主要產(chǎn)值，隨...

2018-07-02 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ic臺積電 5.1k 0

三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)

另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污...

2018-06-22 標(biāo)簽：三星電子euv 4.1k 0

光刻機(jī)發(fā)展分析：光刻機(jī)國內(nèi)外主要廠商與市場現(xiàn)狀分析

中國目前的光刻機(jī)技術(shù)還在起步探索階段，雖然取得了一些小成就，但離國外先進(jìn)技術(shù)差距還很大，希望通過目前科研人員的努力，能真正用上性能強(qiáng)，穩(wěn)定性高的高端國產(chǎn)芯片。

2018-06-16 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 6.0萬 0

三星 SAFE計劃現(xiàn)在已可提供與Synopsys的Lynx設(shè)計系統(tǒng)兼容的經(jīng)認(rèn)證

Synopsys宣布，Synopsys Design Platform已通過全球領(lǐng)先半導(dǎo)體技術(shù)企業(yè)三星電子的工藝認(rèn)證，支持三星代工部門的8nm LPP（...

2018-06-06 標(biāo)簽：三星電子synopsyseuv 2.1k 0

EUV技術(shù)量產(chǎn)進(jìn)入最后沖刺階段

盡管極紫外光(EUV)步進(jìn)機(jī)的大量生產(chǎn)面臨復(fù)雜的問題以及緊迫的時間，專家們?nèi)匀槐С謽酚^態(tài)度...

2018-06-01 標(biāo)簽：EUV微影技術(shù) 3.4k 0

這筆錢花的值！單價1.2億刀，中芯國際拿下EUV光刻機(jī)

2018-05-20 標(biāo)簽：半導(dǎo)體中芯國際光刻機(jī) 1.5萬 0

EUV光刻技術(shù)競爭激烈，三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認(rèn)證，臺積電緊追其后

在晶圓代工市場，臺積電與三星的競爭始終是大家關(guān)心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶，但在7納米制程節(jié)點(diǎn)，高通預(yù)計會轉(zhuǎn)投臺積電，三星要想受更多客戶的青睞，...

2018-06-19 標(biāo)簽：三星電子臺積電晶圓 5.3k 0

中芯訂購EUV設(shè)備，只為縮小差距

據(jù)知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設(shè)備，在中美兩國貿(mào)易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場領(lǐng)先者的技術(shù)差距，確保關(guān)鍵設(shè)備的供應(yīng)...

2018-05-27 標(biāo)簽：英特爾中芯國際三星電子 4.2k 0

ASML計劃在2018年生產(chǎn)20臺EUV光刻機(jī)

EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線波長僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所...

2018-05-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1.2萬 0

三星FinFET制程被判侵權(quán)，將賠償4億美元

韓國三星為了多元化營收來源，這兩年晶圓代工業(yè)務(wù)為重點(diǎn)發(fā)展項(xiàng)目，2018年率先推出7納米EUV制程，搶在臺積電、格羅方德與英特爾之前推出。但三星如今似乎“...

2018-06-20 標(biāo)簽：三星電子finfeteuv 2.9k 0

臺積電宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個時間表

持續(xù)同時朝多面向快速進(jìn)展的晶圓代工大廠臺積電（TSMC），于美國硅谷舉行的年度技術(shù)研討會上宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn)，并將有一個采用極紫外光微影（EUV）...

2018-05-11 標(biāo)簽：臺積電晶圓finfet 4.1k 0

英特格宣布 新一代光罩盒已獲ASML認(rèn)證

微電子產(chǎn)業(yè)特種化學(xué)品和材料解決方案廠商英特格 （Entegris） 宣布，新一代的光罩盒已獲得半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備商艾司摩爾 （ASML） 的認(rèn)證，可用于極紫...

2018-08-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUVASML 4.1k 0