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EUV光刻技術競爭激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認證,臺積電緊追其后

半導體動態 ? 來源:網絡整理 ? 作者:工程師吳畏 ? 2018-06-19 15:06 ? 次閱讀
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在晶圓代工市場,臺積電與三星的競爭始終是大家關心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶,但在7納米制程節點,高通預計會轉投臺積電,三星要想受更多客戶的青睞,只能從制程技術著手了。這也是三星為什么跳過非EUV技術的7納米制程,直接上7納米LPP EUV制程技術的原因。如今,三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技(Synopsys)物理認證,意味著7納米EUV制程將可全球量產了。

目前全球前幾大晶圓代工廠商,英特爾10納米制程還沒搞定,距離7納米制程最遙遠。臺積電7納米制程量產比較順利,會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續流片、量產。臺積電第一代7納米制程,使用的還是傳統多重曝光技術,必須到2019年第2代7納米制程才會使用EUV光刻技術。

格羅方德也走與臺積電相似路線,預計2018年量產7納米DUV制程還是傳統的深紫外光刻技術。對此,號稱頻率可達5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器會使用格羅方德的7納米制程技術,2019年初問世,2020年再下一代才是7納米EUV制程技術。

相對其他競爭對手,三星在EUV技術最積極。三星直接跳過第一代非EUV光刻7納米制程,直接使用加入EUV技術的7納米LPP制程,預定2018下半年正式量產。日前,新思科技與三星已聯合宣布,三星使用的7納米LPP制程技術完成IC驗證器的認證。

三星完成這次認證之后,7納米LPP制程就可立即提供認證的技術資料,包括DRC設計規則檢查、LVS布局與原理圖、金屬填充技術檔等予相關客戶,意味著三星的7納米LPP制程正式進入量產階段。

目前EUV光刻技術競爭激烈,各家大廠搶EUV光刻機也成為重要目標之一。根據之前消息,ASML的EUV光刻機,臺積電訂購了約10臺,三星訂購約6臺,英特爾訂購3臺,而格羅方德的EUV訂單數量不詳,中國中芯國際也訂了1臺EUV光刻機,將用于7納米制程技術研究,預計2019年初交貨。各家廠商都有EUV光刻機的情況下,似乎未來7納米節點要勝出,就必須比較各家的技術與管理能力了。

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