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行芯科技邀您相約CSTIC 2026集成電路科學技術大會

行芯PHLEXING ? 來源:行芯PHLEXING ? 2026-03-14 11:18 ? 次閱讀
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集成電路科學技術大會(CSTIC)2026將于3月22日-24日在上海浦東嘉里大酒店盛大舉行,與SEMICON China 2026同期舉辦。作為國內先進工藝Signoff EDA領域的標桿企業,行芯科技將于3月23日發表《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》主題演講,分享Signoff前沿技術與實踐成果。誠邀業界同仁、專家學者蒞臨現場,共探技術前沿,共話行業未來。

大會核心亮點

CSTIC 2026由SEMI與IEEE聯合主辦,是中國及亞洲極具規模與權威性的半導體技術年度盛會。

大會設置十大專題研討會,覆蓋半導體制造、器件設計、集成、材料、設備等全技術領域,重點聚焦AI芯片、6G 芯片、神經形態計算、先進存儲、3D集成、MEMS技術等行業前沿熱點。

大會優秀論文可收錄至IEEE Xplore,是半導體行業技術交流、成果發布與產學研深度對接的核心平臺。

主題演講

《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》

演講人:Dr. Runjie Zhang 資深產品總監

論壇:Symposium IX: Design and Automation of Circuits and Systems

日期:2026年3月23日(周一)10:55

地點:上海浦東嘉里大酒店3F 3號多功能廳(花木路1388號)

演講概述:本次演講聚焦先進工藝下電流功率密度提升、可靠性問題加劇的行業挑戰,系統介紹行芯科技全流程EDA Signoff解決方案及核心產品矩陣,主要會覆蓋RC寄生參數提取、EMIR分析、電源早期設計探索三大關鍵環節。GloryEX精準捕捉復雜寄生效應,筑牢簽核數據底座;GloryBolt通過通過獨特的DMP并行架構、統計無向量分析及機器學習智能優選周期技術實現EMIR分析效率與精度雙提升,高效定位電源網絡風險;GloryGrid可早期評估電源規劃對EMIR的影響,尤其規避工藝切換、異構集成場景下的收斂瓶頸。演講將結合實踐,展現行芯方案如何加速設計收斂破解先進工藝芯片簽核難題,為高端芯片研發提供高效可靠的Signoff技術支撐。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:演講預告|CSTIC 2026,行芯邀您共探先進工藝Signoff新解法

文章出處:【微信號:Phlexing,微信公眾號:行芯PHLEXING】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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