場效應晶體管是依靠一塊薄層半導體受橫向電場影響而改變其電阻（簡稱場效應），使具有放大信號的功能。這薄層半導體的兩端接兩個電極稱為源和漏。控制橫向電場的電極稱為柵。

場效應管分為結型場效應管（JFET）和絕緣柵場效應管（MOS管）兩大類。

按溝道材料型和絕緣柵型各分N溝道和P溝道兩種；按導電方式：耗盡型與增強型，結型場效應管均為耗盡型，絕緣柵型場效應管既有耗盡型的，也有增強型的。

場效應晶體管可分為結場效應晶體管和MOS場效應晶體管，而MOS場效應晶體管又分為N溝耗盡型和增強型；P溝耗盡型和增強型四大類。

①結型場效應管（用PN結構成柵極）；

結型場效應管的分類：結型場效應管有兩種結構形式，它們是N溝道結型場效應管和P溝道結型場效應管。

結型場效應管也具有三個電極，它們是：柵極；漏極；源極。

電路符號中柵極的箭頭方向可理解為兩個PN結的正向導電方向。

②MOS場效應管（用金屬-氧化物－半導體構成柵極，見金屬－絕緣體－半導體系統）；

③MES場效應管（用金屬與半導體接觸構成柵極）；其中MOS場效應管使用廣泛。尤其在大規模的發展中，MOS大規模集成電路具有特殊的優越性。MES場效應管一般用在GaAs微波晶體管上。

它是由金屬、氧化物和半導體所組成，所以又稱為金屬—氧化物—半導體場效應管，簡稱MOS場效應管。

絕緣柵場效應管（MOS管）的分類：絕緣柵場效應管也有兩種結構形式，它們是N溝道型和P溝道型。無論是什么溝道，它們又分為增強型和耗盡型兩種。

在MOS器件的基礎上，又發展出一種電荷耦合器件 （CCD），它是以半導體表面附近存儲的電荷作為信息，控制表面附近的勢阱使電荷在表面附近向某一方向轉移。這種器件通常可以用作延遲線和存儲器等；配上光電二極管列陣，可用作攝像管。