晶方科技與一線客戶進(jìn)行戰(zhàn)略合作開發(fā)，光學(xué)指紋已導(dǎo)入規(guī)模量產(chǎn)
集微網(wǎng)消息，9月25日，晶方科技在互動(dòng)平臺(tái)上表示，屏下指紋是生物識(shí)別應(yīng)用的重要發(fā)展趨勢，在屏下超聲指紋及屏下光學(xué)指紋封裝及模組技術(shù)方面，公司均已與世界一線客戶進(jìn)行戰(zhàn)略合作開發(fā)，其中光學(xué)指紋已導(dǎo)入規(guī)模量產(chǎn)。
此前，晶方科技還表示，近期董事變更系因國家大基金成為公司的戰(zhàn)略股東，增補(bǔ)國家大基金委派的一名董事進(jìn)入董事會(huì)。
不過，今年上半年晶方科技業(yè)績并不理想。晶方科技發(fā)布2018年半年報(bào)，公司2018年1-6月實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入2.78億元，同比下降10.08%；歸屬于上市公司股東的凈利潤2421.82萬元，同比下降53.89%。晶方科技股價(jià)走勢也較為低迷。
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光學(xué)指紋
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屏下指紋
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原文標(biāo)題：晶方科技屏下指紋與一線客戶合作開發(fā)，光學(xué)指紋已量產(chǎn)
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發(fā)布于 :2026年02月28日 09:31:43
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