近日，全球商業(yè)與投資領(lǐng)域的風向標——福布斯中國再次聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，在備受關(guān)注的2025福布斯中國年終晚宴暨頒獎盛典上，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士榮膺福布斯中國終身成就獎與最佳CEO。這不僅是對一位行業(yè)領(lǐng)軍者的堅守與創(chuàng)新的認可，更是對其企業(yè)家精神與產(chǎn)業(yè)貢獻的高度肯定。

頒獎典禮現(xiàn)場，尹志堯博士在發(fā)表獲獎感言時表示，“獲得這份榮譽我著實感到受寵若驚。我于2004年帶領(lǐng)15人團隊從硅谷回國創(chuàng)立了中微公司，如今公司已發(fā)展至擁有約3000名員工、年銷售超120億元、市值逾2000億元的規(guī)模。這其中絕不僅僅是依靠我個人的努力，要感謝國家改革開放與產(chǎn)業(yè)發(fā)展的時代機遇，感謝各級政府領(lǐng)導(dǎo)、各位股東和社會各界的大力支持與幫助，感謝中微公司管理團隊與全體員工的共同努力，也深深感激我的家人的陪伴與鼓勵。”

尹志堯博士謙遜地指出中微公司雖然在半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備領(lǐng)域達到了國際先進水平，但整體規(guī)模尚屬中等，仍處于快速成長期。他說：“展望未來，我不能停下腳步，要再努力工作20年，甚至40年，和中微成干上萬的員工一起努力，把中微公司發(fā)展成為世界第一梯隊的微觀加工設(shè)備公司！”

值得一提的是，福布斯終身成就獎于2006年設(shè)立，其遴選標準極為嚴苛，旨在表彰那些在各自領(lǐng)域不止創(chuàng)造了商業(yè)成功，更從根本上推動了行業(yè)變革、技術(shù)革新與產(chǎn)業(yè)生態(tài)發(fā)展的標桿性人物，沃爾瑪公司董事長羅伯遜·沃爾頓、墨西哥電信巨頭卡洛斯·斯利姆、馬云等人曾獲此殊榮。該獎項獲獎?wù)咭苑欠驳倪h見與卓越的領(lǐng)導(dǎo)力，穿越周期，引領(lǐng)浪潮，奠定了行業(yè)格局。

尹志堯博士深耕微觀半導(dǎo)體加工設(shè)備領(lǐng)域數(shù)十年，參與并領(lǐng)導(dǎo)了國際集成電路設(shè)備業(yè)界半數(shù)以上重要等離子體刻蝕設(shè)備的研發(fā)工作，是推動幾代刻蝕技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的核心發(fā)明人之一，曾獲得包括白玉蘭紀念獎、知識產(chǎn)權(quán)最具影響力人物、全球半導(dǎo)體行業(yè)十大領(lǐng)軍明星等獎項，三次榮登福布斯中國最佳CEO榜單，并作為最佳CEO代表成為福布斯雜志的封面人物。

二十一年以來，尹志堯博士帶領(lǐng)中微公司，瞄準世界科技前沿，致力于開發(fā)微觀加工所需的高端關(guān)鍵設(shè)備。通過持續(xù)的突破創(chuàng)新，公司開發(fā)的一系列設(shè)備，已在性能上達到國際先進水平，部分產(chǎn)品在其細分領(lǐng)域全球領(lǐng)先。其中，刻蝕設(shè)備技術(shù)能力達到5納米及更先進工藝水平，MOCVD設(shè)備在Mini LED氮化鎵基設(shè)備領(lǐng)域市場占有率遙遙領(lǐng)先，已實現(xiàn)六種薄膜沉積設(shè)備的高效研發(fā)與交付。此外，公司正在研發(fā)的六大類、二十多款新產(chǎn)品進展順利，并已全面布局光學(xué)和電子束量檢測設(shè)備，同時開發(fā)大平板等多種泛半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備。

此次頒獎盛典上，中微公司憑借以產(chǎn)品、社會、環(huán)境和治理為重要維度的特色ESG管理體系榮獲2025中國ESG 50獎項，成為唯一獲獎的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。

未來，中微公司將瞄準“打造世界級裝備企業(yè)”的戰(zhàn)略目標，不斷開發(fā)更多的高端設(shè)備產(chǎn)品，持續(xù)提升產(chǎn)品的性能和質(zhì)量、提高營運效率和風險管控能力，認真貫徹“五個十大”的企業(yè)文化，堅持三維立體發(fā)展戰(zhàn)略，堅持有機生長和外延擴展的策略，實現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質(zhì)量發(fā)展，盡早成為高端設(shè)備平臺公司，在規(guī)模上和競爭力上成為國際一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司！

關(guān)于中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備，并取得了可喜的進步。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備早已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。此外，中微公司也在布局光學(xué)和電子束量檢測設(shè)備，并開發(fā)多種泛半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備。這些設(shè)備都是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。