薄膜集成電路是使用了薄膜工藝在藍寶石、石英玻璃、陶瓷、覆銅板基片上制作電路元、器件及其接線，最后進行封裝而成的。

集成電路薄膜沉積工藝可以分為三類，為物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）和外延。

薄膜混合集成電路需要用的基片有多種，一般用得最多的是玻璃基片，其次是微晶玻璃和被釉陶瓷基片，有時也用藍寶石和單晶硅基片。

薄膜工藝中包括了蒸發、濺射、化學氣相淀積等。特點為電阻、電容數值控制較精確。

在薄膜電路中常見的有導電、電阻、介質和絕緣薄膜四種薄膜，導電薄膜的作用是互連線、焊接區和電容器極板。電阻薄膜的作用是形成微型電阻。介質薄膜的作用是當微型電容器的介質層。絕緣薄膜用作交叉導體的絕緣和薄膜電路的保護層。

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