對于臺積電來說,他們今年依然會狂購極紫外光刻,用最先進的工藝來確保自己處于競爭的最有力地位。
據悉,在制程工藝提升到5nm之后,也就意味著臺積電、三星等廠商,對極紫外光刻機的需求會不斷增加,而全球目前唯一能生產極紫外光刻機廠商的阿斯麥,也就需要大量供應極紫外光刻機。
外媒在最新報道中提到,在芯片制程工藝方面走在行業前列的臺積電,在今年預計可獲得18臺極紫外光刻機,三星和Intel也將繼續購買這一類先進的光刻機,以提高他們的制程工藝。
在去年11月份,英文媒體曾援引消息人士的透露報道稱,臺積電當時已經向阿斯麥下達了2021年所需的極紫外光刻機訂單,至少有13臺。
財報披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6%,凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場90%。
ASML由于技術領先,一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機,這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。
數據顯示,2020年ASML累計交付258臺光刻機系統,前三大客戶區是:中國臺灣93臺,占比36%;韓國79臺,占比31%;中國大陸46臺,占比18%。中國大陸的銷售額從2019年的12%增長至2020年的18%。
責編AJX
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
臺積電
+關注
關注
44文章
5803瀏覽量
176279 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1199瀏覽量
48914 -
ASML
+關注
關注
7文章
737瀏覽量
43519
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰ASML霸主地位?
? 電子發燒友網報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產業格局中,光刻機被譽為 “半導體工業皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公
AI需求飆升!ASML新光刻機直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統的光刻機設備,尼康DSP-100的技術原理有何不同?能解決AI芯片生產當中
壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進封裝
能量產 EUV 光刻機的廠商,早已憑借這一壟斷地位,深度綁定臺積電等頭部芯片制造商,左右著全球最先進 AI 芯片的產能與迭代節奏。如今,這家巨頭正跳出 EUV 的舒適區,將目光投向先進
EUV光源重大突破!ASML:芯片產量將提升50%
紫外光刻(EUV)設備的公司。EUV設備堪稱芯片制造商生產先進計算芯片的“神器”,像臺積電、英特爾等行業巨頭都高度依賴它。EUV光刻機是以1
雙色調顯影-------光學光刻和極紫外光刻
雙色調顯影(DTD)最早是由Asano提出的。DTD通過兩次單獨的顯影去除最高和最低曝光劑量區域的光刻膠,實現了兩倍小的間距。DTD的基本原理如圖5-11所示,光刻膠以線空圖形曝光,所得酸濃度在低
國產高精度步進式光刻機順利出廠
近日,深圳穩頂聚芯技術有限公司(簡稱“穩頂聚芯”)宣布,其自主研發的首臺國產高精度步進式光刻機已成功出廠,標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
全球市占率35%,國內90%!芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發燒友網綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進光刻機成功交付,并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ?
發表于 08-13 09:41
?2320次閱讀
中科院微電子所突破 EUV 光刻技術瓶頸
極紫外光刻(EUVL)技術作為實現先進工藝制程的關鍵路徑,在半導體制造領域占據著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.
ASML官宣:更先進的Hyper NA光刻機開發已經啟動
是 ASML 在極紫外光刻(EUV)技術基礎上的革命性升級。通過將光學系統的數值孔徑(NA)從 0.33 提升至 0.55,其分辨率從 13.5nm(半節距)躍升至 8nm(半節
發表于 06-29 06:39
?2042次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續增長,尤其是在先
不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!
在科技日新月異的今天,芯片作為數字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環節。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝,揭示這些工藝如何協同工作,共同鑄就了
臺積電今年仍要狂購極紫外光刻機
評論