近日，NCSC（美國(guó)國(guó)家安全委員會(huì)）新聞辦公室發(fā)文稱，“鑒于新興技術(shù)帶來(lái)的獨(dú)特機(jī)遇和挑戰(zhàn)，NCSC今天宣布，正在優(yōu)先選擇少數(shù)幾個(gè)對(duì)美國(guó)經(jīng)濟(jì)和國(guó)家安全具有重大風(fēng)險(xiǎn)的技術(shù)領(lǐng)域，進(jìn)行相關(guān)的行業(yè)對(duì)外合作調(diào)查
2021-10-27 07:36:00
4436 全球領(lǐng)先的電子元器件與開(kāi)發(fā)服務(wù)分銷商 e絡(luò)盟日前表示，智能制造、物聯(lián)網(wǎng)、機(jī)器人、人工智能、新能源汽車、工業(yè)自動(dòng)化等新興技術(shù)領(lǐng)域的市場(chǎng)需求將持續(xù)增長(zhǎng)，且這些技術(shù)領(lǐng)域將繼續(xù)作為e絡(luò)盟2018年的投資重點(diǎn)。
2018-01-18 15:39:159182 在嵌入式技術(shù)領(lǐng)域，“C語(yǔ)言與硬件”的組合，常被比作計(jì)算機(jī)體系中的“二進(jìn)制與晶體管”——它們是無(wú)數(shù)智能設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行的底層支柱，貫穿了嵌入式應(yīng)用的核心環(huán)節(jié)。
2025-11-06 10:00:116700 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負(fù)性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
關(guān)于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當(dāng)于膠片，而光刻機(jī)就是沖洗臺(tái)，它把掩膜版上的芯片電路一個(gè)個(gè)的復(fù)制到光刻膠薄膜上，然后通過(guò)刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上。 當(dāng)然
2020-07-07 14:22:55
MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運(yùn)用
2018-07-12 11:57:08
（電子科技大學(xué) 微電子與固體電子學(xué)院，成都 610054）摘 要：光刻膠技術(shù)是曝光技術(shù)中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18
半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的標(biāo)志：NR9-PY 系列負(fù)性光刻膠，適用于lift-off工藝；具有高效粘附性，高反應(yīng)速度并耐高溫性能好。 NR71-PY 系列 負(fù)性光刻膠，適用于lift-off工藝，耐高溫性能好
2010-04-21 10:57:46
、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進(jìn)行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
的相關(guān)基礎(chǔ)知識(shí)，是一本不可多得的、相對(duì)全面的圖像傳感技術(shù)領(lǐng)域專著。《數(shù)碼相機(jī)中的圖像傳感器和信號(hào)處理》原作者中村淳及合作者均是圖像傳感領(lǐng)域的資深從業(yè)者，相信他們的經(jīng)驗(yàn)將為國(guó)內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域的從業(yè)者提供很好
2017-06-26 18:08:15
三種常見(jiàn)的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
人臉識(shí)別技術(shù)最新發(fā)展與研究 2013年全國(guó)圖形圖像技術(shù)應(yīng)用大會(huì)將在十一月初召開(kāi)，本次大會(huì)大會(huì)將邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)圖像圖形處理技術(shù)領(lǐng)域的著名專家，就圖像圖形處理技術(shù)的應(yīng)用和最新動(dòng)態(tài)做特邀報(bào)告。并邀請(qǐng)圖像圖形技術(shù)
2013-09-25 16:08:41
皇家飛利浦電子公司宣布在超薄無(wú)鉛封裝技術(shù)領(lǐng)域取得重大突破，推出針對(duì)邏輯和 RF 應(yīng)用的兩款新封裝：MicroPak?II 和 SOD882T。MicroPakII 是世界上最小的無(wú)鉛邏輯封裝，僅 1.0mm2，管腳間距為 0.35mm。
2019-10-16 06:23:44
全國(guó)高技術(shù)重點(diǎn)圖書·通信技術(shù)領(lǐng)域_現(xiàn)代通信中的排隊(duì)論
2012-08-18 20:32:21
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無(wú)線電（名詞解釋） 4半導(dǎo)體工藝的4個(gè)主要步驟： 4簡(jiǎn)敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個(gè)全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
可重構(gòu)計(jì)算技術(shù)在汽車電子領(lǐng)域的應(yīng)用前景可重構(gòu)計(jì)算技術(shù)在汽車電子領(lǐng)域面臨的問(wèn)題
2021-05-12 06:40:18
哪些領(lǐng)域可以采用.NET Micro Framework技術(shù)？NET Micro Framework與Window CE和Windows XP Embedded的區(qū)別在哪？
2021-10-09 07:07:25
哪些領(lǐng)域可以采用NET Micro Framework技術(shù)？NET Micro Framework與Window CE和Windows XP Embedded的區(qū)別？NET Micro Framework與其他NET平臺(tái)的區(qū)別？
2021-07-05 07:07:04
中國(guó)科學(xué)院大學(xué)（以下簡(jiǎn)稱國(guó)科大）微電子學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國(guó)科大微電子學(xué)院開(kāi)設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程是國(guó)內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開(kāi)設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
尋找電源領(lǐng)域的最新技術(shù)
2020-12-03 06:25:28
市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)下每一個(gè)技術(shù)領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)都是一場(chǎng)叢林法則的生動(dòng)演繹。隨著物聯(lián)網(wǎng)和大數(shù)據(jù)等新興應(yīng)用的爆發(fā)增長(zhǎng)，存儲(chǔ)器領(lǐng)域的叢林法則年年都在上演“生動(dòng)”的故事。
2019-10-17 06:09:46
帶著好奇心我來(lái)到這里，帶著興趣，我有種歸屬感，我相信自已會(huì)對(duì)這個(gè)領(lǐng)域逐漸升溫，最后達(dá)到熱忱，2013.3.21!
2013-03-21 18:57:34
近日，德州儀器Pradeep Shenoy發(fā)表文章《尋找電源領(lǐng)域的最新技術(shù)？來(lái)APEC一探究竟》，以下是全部?jī)?nèi)容： logo
2020-08-05 06:03:21
無(wú)線技術(shù)領(lǐng)域已經(jīng)形成了三大國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，分別是由HART基金會(huì)發(fā)布的WirelessHART標(biāo)準(zhǔn)，ISA國(guó)際自動(dòng)化協(xié)會(huì)（原美國(guó)儀器儀表協(xié)會(huì)）發(fā)布的ISA100.11a標(biāo)準(zhǔn)、和我國(guó)自主研發(fā)的WIA-PA
2018-10-19 10:50:56
`針對(duì)目前無(wú)線充電技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展現(xiàn)狀，明白國(guó)內(nèi)的技術(shù)研發(fā)與國(guó)外有著相當(dāng)?shù)?b class="flag-6" style="color: red">領(lǐng)域。同時(shí)，在學(xué)以致用領(lǐng)域差距更大。希望通過(guò)該聯(lián)盟促進(jìn)技術(shù)的研發(fā)和實(shí)用的發(fā)展。不知道大家有沒(méi)有興趣，請(qǐng)留貼統(tǒng)計(jì)。`
2015-09-04 13:45:21
指紋技術(shù)在汽車領(lǐng)域里的應(yīng)用現(xiàn)狀如何？指紋技術(shù)在汽車領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用前景預(yù)測(cè)
2021-05-12 07:14:28
`樓宇自動(dòng)化系統(tǒng)是智能建筑最核心的部分，有巨大的市場(chǎng)潛力和增長(zhǎng)空間。今天我們請(qǐng)到樓宇控制技術(shù)領(lǐng)域專家，Enocean高級(jí)研發(fā)工程師鮑馳晨，一起分享這個(gè)領(lǐng)域的知識(shí)。專家觀點(diǎn)： Enocean易能森的三
2017-03-16 18:51:32
模擬/混合器件在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用
2021-04-08 06:39:02
的應(yīng)用開(kāi)發(fā)實(shí)力和經(jīng)驗(yàn)三、Spectra-Physics(光譜物理)激光器概述 長(zhǎng)期以來(lái)，光譜-物理一直被是激光技術(shù)領(lǐng)域服務(wù)全球客戶領(lǐng)導(dǎo)者。50年的發(fā)展歷程光譜-物理設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造了一系列世界
2011-12-01 11:48:46
本文從超寬帶認(rèn)知無(wú)線電適配信號(hào)的產(chǎn)生、功率傳輸控制和分布式節(jié)點(diǎn)間的合作三個(gè)方面，對(duì)當(dāng)前該技術(shù)領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的介紹和分析。
2021-05-26 06:51:23
。IBM采用0.18um光刻工藝制成的120GHz Ft SiGe晶體管是一個(gè)很好的例子。 處理這一例子，鍺化硅工藝技術(shù)還在哪些高速通信領(lǐng)域應(yīng)用呢？
2019-07-30 07:56:50
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
本文對(duì)信息技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)和應(yīng)用狀況作了簡(jiǎn)單的闡述, 對(duì)我國(guó)無(wú)損檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域應(yīng)用信息技術(shù)的現(xiàn)況進(jìn)行了分析, 認(rèn)為應(yīng)該把在無(wú)損檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域開(kāi)拓應(yīng)用信息技術(shù)作為一個(gè)重
2010-01-30 13:57:25
14 GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
Infineon/英飛凌科技與諾基亞在EDGE技術(shù)領(lǐng)域展開(kāi)合作
英飛凌科技股份有限公司宣布與全球頭號(hào)手機(jī)廠商及互聯(lián)網(wǎng)與通信融合技術(shù)領(lǐng)袖諾基亞簽署一項(xiàng)
2009-05-08 10:23:54898 雅迪公司領(lǐng)先于連接器與工業(yè)網(wǎng)路技術(shù)領(lǐng)域市場(chǎng)
德資雅迪HARTING公司(成立于1945年)是連接器與工業(yè)網(wǎng)路技術(shù)領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)先者，可根據(jù)客戶需求開(kāi)發(fā)連接解決方案和產(chǎn)
2010-03-12 10:49:261568 
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210 本文提到MEMS技術(shù)中所應(yīng)有的光刻技術(shù)，幫助讀者了解光刻技術(shù)的原理，應(yīng)用。
2016-04-28 11:35:320 網(wǎng)上學(xué)習(xí)資源參差不齊、分散無(wú)系統(tǒng)，給愛(ài)學(xué)習(xí)、努力想提高的你是不是造成很多困擾呢？ 與其他學(xué)習(xí)平臺(tái)不同，CSDN知識(shí)庫(kù)不是隨機(jī)地、一股腦地向您推算大量文章，而是首先梳理各技術(shù)領(lǐng)域知識(shí)圖譜，再以
2017-10-10 10:15:080 光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:004076 前不久，中芯國(guó)際花重金訂購(gòu)了ASML的光刻機(jī)，將于2019年到貨。這邊，長(zhǎng)江存儲(chǔ)4.6億訂購(gòu)光刻機(jī)昨日到貨，運(yùn)抵武漢，我國(guó)兩家芯片公司先后訂購(gòu)光刻機(jī)，彰顯了核心技術(shù)領(lǐng)域努力追趕的決心。
2018-05-21 09:34:139549 微電子技術(shù)的發(fā)展歷程中，人們一直在研究開(kāi)發(fā)新的IC制造技術(shù)來(lái)縮小線寬和增大芯片的容量。我們也普遍的把軟X射線投影光刻稱作極紫外投影光刻。在光刻技術(shù)領(lǐng)域我們的科學(xué)家們對(duì)極紫外投影光刻EUV技術(shù)的研究最為
2018-06-27 15:43:5013171 中國(guó)在哪些技術(shù)領(lǐng)域上相對(duì)美國(guó)優(yōu)勢(shì)較大？
家用電器、鐵路、太陽(yáng)能電池板、鋼鐵……
中國(guó)在哪些技術(shù)領(lǐng)域上與美國(guó)差距較大？
醫(yī)藥、生物技術(shù)、醫(yī)療器械、半導(dǎo)體、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)軟件、商業(yè)航空……
2018-07-21 09:37:4628610 
在生物學(xué)和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，研究人員通常利用顯微技術(shù)觀察肉眼無(wú)法看到的細(xì)胞和分子的細(xì)節(jié)。
2018-07-25 10:07:324214 本文綜述了國(guó)際工業(yè)生物技術(shù)發(fā)展格局，分析了我國(guó)近期在工業(yè)生物技術(shù)領(lǐng)域基礎(chǔ)研究、應(yīng)用研究、技術(shù)轉(zhuǎn)化與產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面取得的進(jìn)展和成就，展望了我國(guó)工業(yè)生物技術(shù)發(fā)展的趨勢(shì)與機(jī)遇。
2018-10-05 09:17:0010413 IDF14突出了技術(shù)領(lǐng)域的一些驚人的新趨勢(shì)，從新的英特爾?實(shí)感感應(yīng)快照到運(yùn)行64位的Android KitKat，再到使用英特爾?Galileo的物聯(lián)網(wǎng)和現(xiàn)在可用的英特爾?Edison！
2018-11-07 06:13:003487 的關(guān)鍵技術(shù),他在納米制造領(lǐng)域中起著不可替代的作用。電子束光刻主要是刻畫微小的電路圖，電路通常是以納米微單位的。
隨著中國(guó)納米技術(shù)和納米電子學(xué)的蓬勃發(fā)展,納米加工技術(shù)的研究越來(lái)越重要,而電子束光刻技術(shù)
2019-01-02 16:32:2329613 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:536886 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2912772 半導(dǎo)體是日常使用的眾多創(chuàng)新電子設(shè)備的核心。尤其在醫(yī)療健康技術(shù)領(lǐng)域更是如此，它們結(jié)合先進(jìn)的低功耗（甚或無(wú)電源）傳感器和聯(lián)接方案。把這些技術(shù)與物聯(lián)網(wǎng)（IoT）的便利和普及相結(jié)合，促成醫(yī)療市場(chǎng)領(lǐng)域迅速上升的趨勢(shì)。
2019-04-11 09:09:223824 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4023322 Analog Devices, Inc. (ADI)宣布在開(kāi)關(guān)技術(shù)領(lǐng)域取得的重大突破，提供用戶期盼已久的替代產(chǎn)品，以取代100多年前即被電子行業(yè)采用的機(jī)電繼電器設(shè)計(jì)。
2019-12-27 14:00:49747 根據(jù)弗吉尼亞州民主黨參議員馬克·沃克（Mark Warker）辦公室發(fā)出的一份新聞稿，理由是“華為獲得了大量的政府補(bǔ)貼”，而“應(yīng)用戰(zhàn)略聯(lián)盟電信法案”則將幫助西方的公司與其競(jìng)賽，并且成為下一代通信技術(shù)領(lǐng)域的強(qiáng)大競(jìng)爭(zhēng)者。
2020-01-15 14:17:441812 芯片是半導(dǎo)體里的一個(gè)集大成者，而現(xiàn)在芯片的利用率非常的高，所以要想有一些技術(shù)領(lǐng)域的突破，就勢(shì)必要在芯片領(lǐng)域有所發(fā)展。
2020-03-29 23:10:2110199 相關(guān)報(bào)告顯示，我省在5G技術(shù)、高端芯片、操作系統(tǒng)等高端技術(shù)領(lǐng)域擁有全球領(lǐng)先技術(shù)；數(shù)字經(jīng)濟(jì)專利數(shù)量居全國(guó)第二；工業(yè)機(jī)器人技術(shù)領(lǐng)域的專利申請(qǐng)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)其他省份。
2020-04-17 10:36:19729 芯片是半導(dǎo)體中的積分器，目前芯片的利用率很高，要想在技術(shù)領(lǐng)域有所突破，就必須在芯片領(lǐng)域發(fā)展。在芯片制造中，最受關(guān)注的是光刻機(jī)的發(fā)展。到目前為止，我國(guó)光刻機(jī)制造領(lǐng)域還比較缺乏機(jī)械。我們的光刻機(jī)技術(shù)相對(duì)
2020-08-02 10:32:3226008 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
來(lái)自中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)通知，10月28-30日，一年一度的納米技術(shù)領(lǐng)域最盛大的博覽會(huì)中國(guó)國(guó)際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)即將隆重召開(kāi)！ 不管您是來(lái)自學(xué)術(shù)界、企業(yè)界還是投資界人士，亦或是來(lái)自材料領(lǐng)域、微納制造
2020-09-16 13:36:462952 小米公司官方微博昨日發(fā)文預(yù)告 MIDC 2020 小米開(kāi)發(fā)者大會(huì)，并稱今天已經(jīng)普及的全面屏是小米最早發(fā)明的，在全面屏技術(shù)領(lǐng)域小米已經(jīng)申請(qǐng)了一百多項(xiàng)專利。 小米集團(tuán)副總裁、集團(tuán)技術(shù)委員會(huì)主席崔寶秋博士
2020-11-02 09:55:432043 近幾年，3D打印技術(shù)漸漸成為裝備先進(jìn)制造、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和新材料等技術(shù)領(lǐng)域的熱點(diǎn)方向，歐美等發(fā)達(dá)國(guó)家紛紛將其列入國(guó)家發(fā)展戰(zhàn)略。早在2015年發(fā)布的《國(guó)家增材制造（3D打印）產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)計(jì)劃
2020-11-23 12:24:181578 近兩年來(lái)，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點(diǎn)。芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī)，而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動(dòng)力。在過(guò)去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個(gè)分支，除了光刻機(jī)外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯(cuò)綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 1月25日，OPPO宣布在西安高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)（以下簡(jiǎn)稱高新區(qū)）成立西安研發(fā)中心，目的是進(jìn)一步加強(qiáng)研發(fā)體系布局，平衡區(qū)域交付能力。據(jù)悉，該研發(fā)中心將負(fù)責(zé)OPPO手機(jī)的研發(fā)交付以及相關(guān)重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域的研究。
2021-01-25 10:43:345875 嵌入式 RFID（射頻識(shí)別）讀寫器技術(shù)領(lǐng)域供應(yīng)商SkyeTek通過(guò)在亞洲增加了3家新客戶和2家新分銷商繼續(xù)拓展了其亞洲業(yè)務(wù)
2021-03-24 14:12:512189 眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國(guó)家所壟斷的市場(chǎng)，必須要解決光刻機(jī)的問(wèn)題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過(guò)程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:125274 
電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供干貨 | 工業(yè)無(wú)線技術(shù)領(lǐng)域的三大標(biāo)準(zhǔn)資料下載的電子資料下載，更有其他相關(guān)的電路圖、源代碼、課件教程、中文資料、英文資料、參考設(shè)計(jì)、用戶指南、解決方案等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2021-04-26 08:47:5826 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:534814 
沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣，而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實(shí)際上，浸入式技術(shù)利用光通過(guò)液體介質(zhì)后光源波長(zhǎng)縮短來(lái)提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。
2022-10-13 16:51:385293 計(jì)算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計(jì)算機(jī)輔助技術(shù)來(lái)增強(qiáng)光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強(qiáng)技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:224102 光刻是半導(dǎo)體工業(yè)的核心技術(shù)。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發(fā)明單片集成電路以來(lái)，光刻一直是主要的光刻技術(shù)。
2022-11-14 11:36:464275 聯(lián)網(wǎng)技術(shù)領(lǐng)域的“GaN 行動(dòng)”態(tài)度
2022-12-26 10:16:26876 近日，OSCHINA 和 Gitee 聯(lián)合發(fā)布了《2022 中國(guó)開(kāi)源開(kāi)發(fā)者報(bào)告》。 其中?“前沿開(kāi)源技術(shù)領(lǐng)域解讀” 部分，多位在其領(lǐng)域有所建樹(shù)的一線開(kāi)發(fā)者和開(kāi)源商業(yè)化公司創(chuàng)始人，對(duì)目前國(guó)內(nèi)
2023-02-21 15:19:501846 GTC 大會(huì)：NVIDIA cuLitho將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果 在摩爾定律接近物理極限之際，半導(dǎo)體行業(yè)要怎么做？借助AI？ 現(xiàn)在半導(dǎo)體開(kāi)始采用NVIDIA在計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域
2023-03-22 19:29:3111270 
為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:378958 
智能發(fā)電主要涉及什么技術(shù)領(lǐng)域 智能變電涉及的技術(shù)領(lǐng)域主要包括變電站信息采集技術(shù)、智能傳感技術(shù)、實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)技術(shù)、狀態(tài)診斷技術(shù)、自適應(yīng)／自優(yōu)化保護(hù)技術(shù)、廣域保護(hù)技術(shù)、協(xié)調(diào)控制技術(shù)和站內(nèi)智能一次設(shè)備技術(shù)等
2023-04-11 18:11:151685 光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過(guò)程
2023-04-25 09:55:132814 
光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過(guò)程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:324853 
在整個(gè)芯片制造過(guò)程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:032240 在集成電路制造領(lǐng)域，如果說(shuō)光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:383489 
EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來(lái)繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:044249 
光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:151810 
近日，作為提供定位和無(wú)線通信技術(shù)及服務(wù)的全球領(lǐng)先供應(yīng)商u-blox(SIX:UBXN)宣布與為聯(lián)網(wǎng)和自主駕駛車輛提供解決方案的導(dǎo)航技術(shù)領(lǐng)域領(lǐng)軍企業(yè)GMV公司建立合作關(guān)系，雙方宣布達(dá)成合作協(xié)議，將u-blox的GNSS接收機(jī)硬件與GMV的安全校正服務(wù)、傳感器融合和定位引擎相結(jié)合。
2023-11-03 17:05:301545 工業(yè)自動(dòng)化是指在工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，通過(guò)使用自動(dòng)化設(shè)備和系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程的自動(dòng)化控制和管理。工業(yè)自動(dòng)化技術(shù)領(lǐng)域廣泛，涉及多個(gè)學(xué)科和技術(shù)，以下是對(duì)工業(yè)自動(dòng)化技術(shù)的介紹： 控制系統(tǒng)技術(shù) 控制系統(tǒng)技術(shù)是工業(yè)
2024-06-11 11:26:042376 場(chǎng)科技盛宴上，華為將正式揭開(kāi)其5.5G技術(shù)領(lǐng)域的最新力作——Apollo Version的神秘面紗，標(biāo)志著5G技術(shù)邁向了全新的發(fā)展階段，即5G-Advanced（簡(jiǎn)稱5G-A或5.5G）時(shí)代。
2024-07-04 14:56:351230 近日，全球信息技術(shù)研究和顧問(wèn)公司Gartner發(fā)布了2024年企業(yè)網(wǎng)絡(luò)的技術(shù)成熟度曲線報(bào)告（《Hype Cycle for Enterprise Networking, 2024》）。華為入選AI Ethernet Fabric（AI以太網(wǎng)絡(luò)）技術(shù)領(lǐng)域的代表供應(yīng)商(Sample Vendors)。
2024-09-02 18:01:471539 光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的圖形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成
2024-10-14 14:42:031183 光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:214404 
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm，芯片制程縮小至65nm
2024-11-24 11:04:144452 
隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢(shì)，在特定領(lǐng)域正形成差異化競(jìng)爭(zhēng)格局。
2025-05-09 10:08:491374 
在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491563 
11月6日，在第21屆中國(guó)(長(zhǎng)三角)汽車電子產(chǎn)業(yè)鏈高峰論壇上，公司發(fā)表了題為“華宇電子車規(guī)級(jí)芯片封裝技術(shù)解決方案新突破”的主題演講，分享公司在先進(jìn)封裝技術(shù)領(lǐng)域的最新成果及未來(lái)布局。
2025-11-11 16:33:061197 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過(guò)程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:154710 
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