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三菱電機(jī)與多方聯(lián)合揭示硅中氫致自由電子生成機(jī)制

三菱電機(jī)半導(dǎo)體 ? 來(lái)源:三菱電機(jī)半導(dǎo)體 ? 2026-01-23 10:22 ? 次閱讀
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三菱電機(jī)株式會(huì)社、東京科學(xué)大學(xué)、筑波大學(xué)及 Quemix 公司于2026年1月14日聯(lián)合宣布,全球率先1成功揭示了氫元素如何通過(guò)與硅材料中特定缺陷2的相互作用產(chǎn)生自由電子3的機(jī)制。此項(xiàng)突破性成果有望優(yōu)化絕緣柵雙極性晶體管IGBT)的設(shè)計(jì)與制造工藝,從而提升其能效表現(xiàn)并降低功率損耗。該發(fā)現(xiàn)還將為基于超寬禁帶(UWBG)材料4的未來(lái)器件開(kāi)辟新的可能性。

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氫通過(guò)與硅中缺陷相互作用產(chǎn)生自由電子的機(jī)制

在全球邁向碳中和的進(jìn)程中,提升電力電子設(shè)備的效率與節(jié)能性已成為世界范圍內(nèi)的重要課題。IGBT作為電力轉(zhuǎn)換的核心部件,其效率提升是當(dāng)前的重點(diǎn)研發(fā)方向。盡管半個(gè)多世紀(jì)以來(lái),氫離子注入技術(shù)已被用于調(diào)控硅中的電子濃度,但這一技術(shù)背后的核心機(jī)制此前始終未被明確。

2023 年,三菱電機(jī)與筑波大學(xué)聯(lián)合發(fā)現(xiàn)了硅中一種可提高電子濃度的缺陷復(fù)合物5。研究證實(shí),該復(fù)合物由硅原子間隙與氫結(jié)合形成,但在此過(guò)程中自由電子新生成的原因仍不明確6。此次,四家機(jī)構(gòu)通過(guò)先進(jìn)的計(jì)算模擬,揭示了氫在缺陷復(fù)合物中的存在狀態(tài),解釋了氫釋放電子并使其在硅中成為自由電子的原理。此外,研究結(jié)果表明,這一機(jī)制同樣適用于金剛石材料 —— 一種極具潛力的未來(lái)功率半導(dǎo)體材料,但其電子能級(jí)調(diào)控一直面臨巨大挑戰(zhàn)。

這項(xiàng)研究的完整細(xì)節(jié)已于1月13日(倫敦時(shí)間)在線發(fā)表于自然出版集團(tuán)旗下期刊《Communications Materials》上。

<核心亮點(diǎn)>

1)硅中含氫缺陷復(fù)合物產(chǎn)生自由電子的機(jī)制

近半個(gè)世紀(jì)以來(lái),有研究表明向硅中注入氫離子后,氫原子存在的區(qū)域會(huì)產(chǎn)生自由電子。如今,該技術(shù)已被用于在 IGBT 等功率半導(dǎo)體內(nèi)部形成含自由電子的N型層。然而,硅材料中的孤立氫原子并不一定會(huì)釋放自由電子7,其內(nèi)在機(jī)理始終未能明確。

基于 “氫與晶體缺陷共同作用產(chǎn)生自由電子” 的假設(shè),三菱電機(jī)與筑波大學(xué)通過(guò)電學(xué)光學(xué)測(cè)量及電子自旋共振(ESR)技術(shù)8展開(kāi)聯(lián)合研究。2023年,該團(tuán)隊(duì)發(fā)現(xiàn)I?缺陷(硅晶體中因額外插入硅原子而形成的結(jié)構(gòu)擾動(dòng))與自由電子的產(chǎn)生密切相關(guān)。為明確氫的作用,東京科學(xué)大學(xué)與Quemix公司通過(guò)第一性原理計(jì)算9,在I4缺陷周圍多個(gè)候選點(diǎn)位構(gòu)建含氫原子模型,分析了缺陷復(fù)合物的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性及電子態(tài)10。

計(jì)算結(jié)果顯示,在無(wú)缺陷的硅中,氫原子形成的電子態(tài)無(wú)法產(chǎn)生自由電子;而當(dāng)附近存在I?缺陷時(shí),氫原子會(huì)占據(jù)硅原子間共價(jià)鍵中間位置11。這種構(gòu)型使I4缺陷相關(guān)的電子態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)槔陔娮俞尫诺臓顟B(tài)。基于分子軌道理論12的進(jìn)一步分析表明,這一過(guò)程存在協(xié)同效應(yīng):氫原子中的一個(gè)電子轉(zhuǎn)移至I?缺陷,隨后I?缺陷釋放出一個(gè)可作為自由電子的電子。這種缺陷與氫的協(xié)同作用,正是自由電子產(chǎn)生的關(guān)鍵原因。

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氫與缺陷協(xié)同作用產(chǎn)生自由電子的示意圖

2)技術(shù)驗(yàn)證:Si IGBT 與二極管功耗最高降低 20%

三菱電機(jī)通過(guò)結(jié)合氫離子注入形成N型層與減薄硅襯底厚度的技術(shù),成功降低了Si IGBT與二極管的功耗。例如,在1200V器件中,與第七代產(chǎn)品相比,IGBT的總功耗降低了10%,二極管的總功耗降低了20%,相關(guān)技術(shù)已完成驗(yàn)證。此次機(jī)理闡明的關(guān)鍵——關(guān)于氫致自由電子生成的基礎(chǔ)性見(jiàn)解,為這些功耗降低提供了理論支撐。

3)對(duì)超寬禁帶(UWBG)材料適用性的理論驗(yàn)證

金剛石、氮化鋁(AlN)等材料在未來(lái)功率半導(dǎo)體及量子傳感器領(lǐng)域具有廣闊應(yīng)用前景,但傳統(tǒng)方法難以對(duì)其電子濃度進(jìn)行有效調(diào)控,阻礙了其實(shí)際應(yīng)用。為探究硅中發(fā)現(xiàn)的氫致自由電子產(chǎn)生機(jī)制是否適用于超寬禁帶材料,研究團(tuán)隊(duì)進(jìn)行了初步的第一性原理計(jì)算。結(jié)果表明,金剛石與硅具有相似的共價(jià)晶體結(jié)構(gòu),氫原子嵌入碳原子間共價(jià)鍵比占據(jù)間隙位更穩(wěn)定。當(dāng)存在成對(duì)缺陷時(shí),這種鍵合位嵌入的氫原子同樣可在金剛石中發(fā)揮作用。這一發(fā)現(xiàn)從基礎(chǔ)理論層面為某些超寬禁帶材料的電子濃度控制提供了潛在解決方案。

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金剛石晶體中氫原子的結(jié)構(gòu)形態(tài)

<各方職責(zé)>

機(jī)構(gòu)名稱 主要職責(zé)
三菱電機(jī)
株式會(huì)社
①電學(xué)與光學(xué)測(cè)量評(píng)估
②識(shí)別影響電子濃度的缺陷
③構(gòu)建機(jī)制模型
東京科學(xué)大學(xué) ①基于密度泛函理論(DFT)13的第一性原理計(jì)算
② 氫與缺陷相互作用的闡明
③ 構(gòu)建機(jī)制模型
筑波大學(xué) ①電子自旋共振(ESR)技術(shù)測(cè)量評(píng)估
②識(shí)別影響電子濃度的缺陷
③構(gòu)建機(jī)制模型
Quemix 公司 ① 基于密度泛函理論(DFT)的第一性原理計(jì)算
②闡明氫與缺陷的相互作用
③構(gòu)建機(jī)制模型

本研究得到了日本學(xué)術(shù)振興會(huì)(JSPS)科研費(fèi)資助(項(xiàng)目編號(hào):21H04553、20H00340、22H01517),并獲得了可持續(xù)量子人工智能創(chuàng)新中心(JST,資助編號(hào):JPMJPF2221)的額外支持。

<未來(lái)展望>

研究團(tuán)隊(duì)計(jì)劃將這一機(jī)制應(yīng)用于金剛石等傳統(tǒng)電子濃度調(diào)控難度較大的超寬禁帶材料,推動(dòng)功率半導(dǎo)體、高頻器件及量子傳感器等半導(dǎo)體器件的研發(fā)進(jìn)程,為實(shí)現(xiàn)碳中和目標(biāo)提供重要技術(shù)支撐。

<發(fā)表信息>

標(biāo)題 Advancing N-type doping in semiconductors through hydrogen-defect interactions
作者 Akira Kiyoi, Yusuke Nishiya, Yuichiro Matsushita & Takahide Umeda
期刊 Communication Materials(自然出版集團(tuán)旗下期刊)
日期 2026 年 1 月 13 日(倫敦時(shí)間)
DOI 10.1038/s43246-025-00955-4

<關(guān)于三菱電機(jī)株式會(huì)社>

三菱電機(jī)株式會(huì)社(東京證券交易所代碼:6503)擁有超過(guò) 100 年的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),是全球知名電氣電子設(shè)備制造商,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于信息處理與通信、太空開(kāi)發(fā)與衛(wèi)星通信、消費(fèi)電子、工業(yè)技術(shù)、能源、交通及建筑設(shè)備等領(lǐng)域。三菱電機(jī)秉持 “精益求精,共創(chuàng)美好” 的理念,以技術(shù)賦能社會(huì)發(fā)展。截至 2025 年 3 月 31 日的財(cái)年,公司營(yíng)收達(dá) 55217 億日元(約合 368 億美元*)。

* 美元換算基于 2025 年 3 月 31 日東京外匯市場(chǎng)近似匯率:150 日元兌 1 美元。

<關(guān)于東京科學(xué)大學(xué)>

東京科學(xué)大學(xué)(Science Tokyo)于 2024 年 10 月 1 日由東京醫(yī)科齒科大學(xué)與東京工業(yè)大學(xué)合并組建,秉持 “深耕科學(xué),增進(jìn)民生福祉,共創(chuàng)社會(huì)價(jià)值” 的使命。

<關(guān)于筑波大學(xué)>

筑波大學(xué)源于東京教育大學(xué),1973 年 10 月遷至筑波地區(qū)正式成立。作為日本全國(guó)大學(xué)改革計(jì)劃下設(shè)立的新型綜合性大學(xué),該校以 “開(kāi)放性” 為核心理念,構(gòu)建了 “新型教育研究體系” 與 “新型大學(xué)管理模式”。筑波大學(xué)持續(xù)推進(jìn)改革,致力于打造教育科研設(shè)施一流、獨(dú)具特色、充滿活力且具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的頂尖學(xué)府。

<關(guān)于Quemix 公司>

Quemix 公司是 TerraSky 株式會(huì)社(總部:東京都中央?yún)^(qū);首席執(zhí)行官:佐藤英也)的全資子公司,專注于量子計(jì)算機(jī)、量子傳感器及材料計(jì)算領(lǐng)域的研發(fā)。秉承"通過(guò)量子技術(shù)實(shí)現(xiàn)未來(lái)構(gòu)想"的發(fā)展愿景,Quemix致力于為引領(lǐng)量子時(shí)代的企業(yè)提供突破性創(chuàng)新解決方案。

自 2019 年成立以來(lái),Quemix 公司專注于容錯(cuò)量子計(jì)算機(jī)(FTQC)算法研發(fā),成功開(kāi)發(fā)并專利注冊(cè)了概率虛時(shí)演化(PITE)算法,該算法已通過(guò)數(shù)學(xué)證明可在量子化學(xué)計(jì)算中實(shí)現(xiàn)量子加速。作為日本容錯(cuò)量子計(jì)算機(jī)算法領(lǐng)域的先驅(qū),Quemix 公司計(jì)劃于 2028 年前將實(shí)用化量子計(jì)算應(yīng)用于材料計(jì)算與模擬領(lǐng)域。

1 根據(jù)三菱電機(jī)截至2026年1月14日進(jìn)行的研究。

2 影響自由電子遷移和復(fù)合的結(jié)構(gòu)缺陷。

3 能在硅晶體內(nèi)自由移動(dòng)的電子,它們的濃度是通過(guò)有意引入特定雜質(zhì)來(lái)控制的。

4 金剛石、氮化鋁等半導(dǎo)體,其帶隙比傳統(tǒng)硅或碳化硅半導(dǎo)體大。

5 由本征缺陷(如硅原子間隙)和外來(lái)缺陷(如氫)組成的缺陷復(fù)合體。在功率半導(dǎo)體中,這類缺陷復(fù)合體是為了控制器件性能而有意形成的。

6 “氫如何在硅中轉(zhuǎn)變?yōu)闇\施主?”,Phys. Rev. B 108, 235201 (2023)。

7 在無(wú)缺陷的硅中,氫原子會(huì)根據(jù)其電荷狀態(tài)占據(jù)硅四面體間隙位或共價(jià)鍵中心位,形成無(wú)法產(chǎn)生自由電子的電子態(tài)。

8 一種用于在磁場(chǎng)中檢測(cè)未配對(duì)電子的光譜技術(shù)。

9 一種基于量子力學(xué)定律預(yù)測(cè)材料特性的計(jì)算方法,無(wú)需依賴實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。

10 電子態(tài)的能級(jí)對(duì)于控制電子濃度至關(guān)重要,因?yàn)槿绻麩崮艹^(guò)該能級(jí),電子可能受熱激發(fā)成為自由電子。

11 晶體中的鍵是使原子或分子保持特定晶體結(jié)構(gòu)的力,影響材料的物理性質(zhì),如硬度、電導(dǎo)率和熔點(diǎn)。

12 一種用于理解分子內(nèi)電子排列和能量狀態(tài)的理論。

13 一種基于量子力學(xué)的計(jì)算方法,將電子密度視為基本變量,并計(jì)算電子態(tài)以預(yù)測(cè)材料的性質(zhì)。

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原文標(biāo)題:多方聯(lián)合揭示硅中氫致自由電子生成機(jī)制

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    三菱電機(jī)SiC DIPIPM在變頻家電的應(yīng)用(1)

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    的頭像 發(fā)表于 07-19 09:15 ?3700次閱讀
    <b class='flag-5'>三菱</b><b class='flag-5'>電機(jī)</b>SiC DIPIPM在變頻家電<b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用(1)

    三菱電機(jī)與上海共繪半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)宏圖

    諸多便利,三菱電機(jī)從中受益匪淺,并對(duì)新制定的《關(guān)于優(yōu)化投資促進(jìn)機(jī)制加強(qiáng)招商和服務(wù)一體化推進(jìn)的實(shí)施方案》表達(dá)了認(rèn)可和支持,同時(shí)表示會(huì)在上海深耕,與上海各界深化合作。
    的頭像 發(fā)表于 05-16 10:20 ?1096次閱讀

    三菱電機(jī)開(kāi)始提供全SiC和混合SiC SLIMDIP樣品

    (PSH15SG1G6)。作為該企業(yè)SLIMDIP系列首款采用SiC技術(shù)的緊湊型端子優(yōu)化模塊,這兩款產(chǎn)品在小型至大型電器應(yīng)用均能實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的輸出性能與功耗降低,顯著提升能效表現(xiàn)。三菱電機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 04-16 14:58 ?1236次閱讀
    <b class='flag-5'>三菱</b><b class='flag-5'>電機(jī)</b>開(kāi)始提供全SiC和混合SiC SLIMDIP樣品

    三菱電機(jī)發(fā)布新型XB系列HVIGBT模塊

    三菱電機(jī)集團(tuán)近日宣布,將于5月1日開(kāi)始供應(yīng)其新型XB系列高壓絕緣柵雙極型晶體管(HVIGBT)模塊的樣品。該模塊是一款3.3kV/1500A的大容量功率半導(dǎo)體,專為軌道交通車輛等大型工業(yè)設(shè)備設(shè)計(jì)。
    的頭像 發(fā)表于 04-10 11:34 ?1391次閱讀

    三菱電機(jī)再度榮獲海爾智家“質(zhì)量引領(lǐng)獎(jiǎng)”

    近日,在“智慧新生態(tài),共贏新時(shí)代”2025海爾智家全球供應(yīng)商合作伙伴大會(huì)上,三菱電機(jī)憑借為其變頻空調(diào)和變頻洗衣機(jī)提供品質(zhì)卓越的SLIMDIP、超小型DIPIPM、小型DIPIPM和大型DIPIPM
    的頭像 發(fā)表于 04-02 11:24 ?1133次閱讀