全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(總部位于日本京都市)今日宣布,推出新SPICE模型“ROHM Level 3(L3)”,該模型提升了收斂性和仿真速度。
功率半導(dǎo)體的損耗對系統(tǒng)整體效率有重大影響,因此在設(shè)計(jì)階段的仿真驗(yàn)證中,模型的精度至關(guān)重要。ROHM以往提供的SiC MOSFET用SPICE模型“ROHM Level 1(L1)”,通過提高每種特性的復(fù)現(xiàn)性,滿足了高精度仿真的需求。然而另一方面,該模型存在仿真收斂性問題和運(yùn)算時間較長等問題,亟待改進(jìn)。
新模型“ROHM Level 3(L3)”通過采用簡化的模型公式,能夠在保持計(jì)算穩(wěn)定性和開關(guān)波形精度的同時,將仿真時間較以往L1模型縮短約50%。由此,能夠高精度且快速地執(zhí)行電路整體的瞬態(tài)分析,從而有助于提升應(yīng)用設(shè)計(jì)階段的器件評估與損耗確認(rèn)的效率。
“ROHM Level 3(L3)”的第4代SiC MOSFET模型(共37款機(jī)型)已于2025年4月在官網(wǎng)上發(fā)布,用戶可通過產(chǎn)品頁面等渠道下載。新模型L3推出后,以往模型仍將繼續(xù)提供。另外,ROHM還發(fā)布了詳細(xì)的使用說明白皮書,以幫助用戶順利導(dǎo)入新模型。

審核編輯 黃宇
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