干法刻蝕側壁彎曲的原因及解決方法
本文介紹了干法刻蝕側壁彎曲的原因及解決方法。
什么是側壁彎曲？
如上圖，是典型的干法刻蝕時，側壁彎曲的樣子，側壁為凹形或凸形結構。而正常的側壁幾乎是垂直的，角度接近 90°。
什么原因導致了側壁彎曲？ 1，離子從光刻膠掩模邊緣散射，以特定角度進入刻蝕區域，導致側壁形貌的偏差。這種散射取決于掩模的傾斜角度，如果角度較大，散射更顯著。
2，離子在鞘層中的散射：如果工藝壓力過高，在等離子體鞘層中，離子的碰撞和散射頻率增加，導致離子軌跡偏離，進而引起側壁彎曲。
3，生成的聚合物分布不均：聚合物通常在孔頂部沉積得更好，而在深度較大的區域沉積較差。這種分布不均導致特征的頂部受保護，而側壁底部容易受到攻擊，進而形成彎曲的側壁。
解決方案
1，光刻膠的形貌盡量做的陡直，不要坡度太大
2，工藝腔壓力不要太大，降低工藝腔壓力，減少散射，改善側壁形貌。
3，控制保護氣體比例，確保側壁的聚合物保護層均勻分布。
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原文標題：干法刻蝕側壁彎曲的原因及解決方法
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