国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

”芯“成果——碳化硅上生長的超高遷移率半導體外延石墨烯

jf_87590668 ? 來源:jf_87590668 ? 作者:jf_87590668 ? 2024-01-09 09:45 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

2024年1月3日,一篇名為《碳化硅上生長的超高遷移率半導體外延石墨烯》(Ultrahigh-mobility semiconducting epitaxial graphene on silicon carbide)研究論文發表在《Nature》上。該項科技成果是由天津大學的納米顆粒與納米系統國際研究中心主導(Tianjin International Center for Nanoparticles and Nanosystems,簡稱TICNN),與佐治亞理工學院物理學院的科研團隊共同合作完成。

wKgZomWcq6CAIYu5AAMSkPNvEgI300.png

TICNN目前主要研究領域涉及石墨烯電子學及其它二維材料的相關物理、化學和材料科學研究以及團簇物理研究和相關的科研儀器研發。

自從2004年單層石墨烯被分離出來起,關于二維石墨烯的研究爆炸性增長。石墨烯具有非常優異的性質(首個被發現可在室溫下穩定存在的由單層原子或分子組成的晶體,具有優異的光學、電學、力學特性),在材料學、微納加工、能源、生物醫學和藥物傳遞等領域具有重要的應用前景,被認為是一種未來革命性的材料,然而其零帶隙特性使得它在電子元件中的應用受到了限制??蒲腥藛T用20年時間終于成功地攻克了長期以來阻礙石墨烯電子學發展的關鍵技術難題——打開了石墨烯帶隙!

外延石墨烯是一種超高純石墨烯,它是在感應加熱爐中將碳化硅單晶加熱到高溫后在碳化硅表面生長形成的。外延石墨烯納米電子學可充分利用電子的波動性,因此極有可能成為未來量子計算硬件制造所需的理想材料。同時,外延石墨烯電子學器件還具有遠低于傳統硅電子學器件的功耗(具有比硅高10倍的遷移率),及顯著提高的運行速度。其最為工業界矚目的一大特點是外延石墨烯納米電子學器件可在傳統器件工藝基礎上稍加改進即直接投入生產,無需再額外開發全新的制備工藝。因此,外延石墨烯納米電子學器件具有極大的實用價值和推廣潛力。

碳化硅上生長的外延石墨烯制成的功能半導體,可以應用于更小、更快的電子設備,并可能用于量子計算。因此,這一突破被認為是開啟了“石墨烯納米電子學”大門,是石墨烯芯片制造領域的重要里程碑!

《參考消息》評價——根本性變革或將到來!

佐治亞理工學院的Walt de Heer說——這是“萊特兄弟時刻”!

wKgaomWcq6yAKWi1AAB8WbLD0c4453.png

對此你怎么看,歡迎評論區討論!

【END】

審核編輯 黃宇

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    463

    文章

    54010

    瀏覽量

    466107
  • 半導體
    +關注

    關注

    339

    文章

    30737

    瀏覽量

    264158
  • 石墨烯
    +關注

    關注

    54

    文章

    1613

    瀏覽量

    85080
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    高純熱壓碳化硅陶瓷外延基座的性能優勢與制造工藝解析

    高純度熱壓燒結碳化硅陶瓷外延生長基座是半導體制造和先進電子產業中的關鍵部件,廣泛應用于金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)和分子束外延(MBE
    的頭像 發表于 01-12 17:46 ?1856次閱讀
    高純熱壓<b class='flag-5'>碳化硅</b>陶瓷<b class='flag-5'>外延</b>基座的性能優勢與制造工藝解析

    12英寸碳化硅外延片突破!外延設備同步交付

    電子發燒友網綜合報道 , 短短兩天內,中國第三代半導體產業接連迎來重磅突破。12月23日,廈門瀚天天成宣布成功開發全球首款12英寸高質量碳化硅(SiC)外延晶片;次日, 晶盛機電 便官宣其自主研發
    的頭像 發表于 12-28 09:55 ?1387次閱讀

    SiC碳化硅MOSFET功率半導體銷售培訓手冊:電源拓撲與解析

    SiC碳化硅MOSFET功率半導體銷售培訓手冊:電源拓撲與解析 傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導體和新能源汽車連接器的分銷商。主要服務于中國工業電源、電力電子設備和新能源
    的頭像 發表于 12-24 06:54 ?524次閱讀
    SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET功率<b class='flag-5'>半導體</b>銷售培訓手冊:電源拓撲與解析

    簡單認識博世碳化硅功率半導體產品

    博世為智能出行領域提供全面的碳化硅功率半導體產品組合,包括用于逆變器、車載充電器和直流/直流轉換器的碳化硅功率MOSFET和碳化硅功率模塊。這些解決方案已面向全球整車廠、一級供應商以及
    的頭像 發表于 12-12 14:14 ?797次閱讀

    [新啟航]碳化硅 TTV 厚度測量技術的未來發展趨勢與創新方向

    一、引言 碳化硅(SiC)作為寬禁帶半導體材料的代表,在功率器件、射頻器件等領域發揮著關鍵作用。總厚度偏差(TTV)是衡量碳化硅襯底及外延片質量的重要指標,其精確測量對保障
    的頭像 發表于 09-22 09:53 ?1795次閱讀
    [新啟航]<b class='flag-5'>碳化硅</b> TTV 厚度測量技術的未來發展趨勢與創新方向

    【新啟航】碳化硅外延片 TTV 厚度與生長工藝參數的關聯性研究

    一、引言 碳化硅外延片作為功率半導體器件的核心材料,其總厚度偏差(TTV)是衡量產品質量的關鍵指標,直接影響器件的性能與可靠性 。外延片的 TTV 厚度受多種因素影響,其中
    的頭像 發表于 09-18 14:44 ?848次閱讀
    【新啟航】<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>外延</b>片 TTV 厚度與<b class='flag-5'>生長</b>工藝參數的關聯性研究

    基本半導體1200V工業級碳化硅MOSFET半橋模塊Pcore 2系列介紹

    基本半導體推出62mm封裝的1200V工業級碳化硅MOSFET半橋模塊,產品采用新一代碳化硅MOSFET芯片技術,在保持傳統62mm封裝尺寸優勢的基礎,通過創新的模塊設計顯著降低了模
    的頭像 發表于 09-15 16:53 ?1212次閱讀
    基本<b class='flag-5'>半導體</b>1200V工業級<b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET半橋模塊Pcore 2系列介紹

    從襯底到外延碳化硅材料的層級躍遷與功能分化

    碳化硅襯底和外延片是半導體產業鏈中的兩個關鍵組件,盡管兩者均由碳化硅材料構成,但在功能定位、制備工藝及應用場景等方面存在顯著差異。以下是具體分析:定義與基礎作用不同
    的頭像 發表于 09-03 10:01 ?1845次閱讀
    從襯底到<b class='flag-5'>外延</b>:<b class='flag-5'>碳化硅</b>材料的層級躍遷與功能分化

    碳化硅器件的應用優勢

    碳化硅是第三代半導體典型材料,相比之前的硅材料,碳化硅有著高擊穿場強和高熱導率的優勢,在高壓、高頻、大功率的場景下更適用。碳化硅的晶體結構穩定,哪怕是在超過300℃的高溫環境下,打破了
    的頭像 發表于 08-27 16:17 ?1647次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>器件的應用優勢

    半導體外延和薄膜沉積有什么不同

    半導體外延和薄膜沉積是兩種密切相關但又有顯著區別的技術。以下是它們的主要差異:定義與目標半導體外延核心特征:在單晶襯底生長一層具有相同或相似晶格結構的單晶薄膜(
    的頭像 發表于 08-11 14:40 ?1849次閱讀
    <b class='flag-5'>半導體外延</b>和薄膜沉積有什么不同

    碳化硅晶圓特性及切割要點

    01襯底碳化硅襯底是第三代半導體材料中氮化鎵、碳化硅應用的基石。碳化硅襯底以碳化硅粉末為主要原材料,經過晶體
    的頭像 發表于 07-15 15:00 ?1189次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>晶圓特性及切割要點

    基本半導體碳化硅 MOSFET 的 Eoff 特性及其在電力電子領域的應用

    基本半導體碳化硅 MOSFET 的 Eoff 特性及其在電力電子領域的應用 一、引言 在電力電子技術飛速發展的今天,碳化硅(SiC)MOSFET 憑借其卓越的性能,成為推動高效能電力轉換的關鍵器件
    的頭像 發表于 06-10 08:38 ?1016次閱讀
    基本<b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>碳化硅</b> MOSFET 的 Eoff 特性及其在電力電子領域的應用

    國產SiC碳化硅功率半導體企業引領全球市場格局重構

    SiC碳化硅MOSFET國產化替代浪潮:國產SiC碳化硅功率半導體企業引領全球市場格局重構 1 國產SiC碳化硅功率半導體企業的崛起與技術突
    的頭像 發表于 06-07 06:17 ?1171次閱讀

    基本半導體碳化硅(SiC)MOSFET低關斷損耗(Eoff)特性的應用優勢

    BASiC基本股份半導體碳化硅(SiC)MOSFET憑借其低關斷損耗(Eoff)特性,在以下應用中展現出顯著優勢: 傾佳電子(Changer Tech)-專業汽車連接器及功率半導體(SiC
    的頭像 發表于 05-04 09:42 ?880次閱讀
    基本<b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>(SiC)MOSFET低關斷損耗(Eoff)特性的應用優勢

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡?

    電力電子器件高度依賴于硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)等半導體材料。雖然硅一直是傳統的選擇,但碳化硅器件憑借其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎
    發表于 03-12 11:31 ?1000次閱讀
    為什么<b class='flag-5'>碳化硅</b>Cascode JFET 可以輕松實現硅到<b class='flag-5'>碳化硅</b>的過渡?