當前,SiC器件已廣泛應用在新能源車的主驅、OBC等關鍵部件,有效的降低了提升了開關速度,降低了能量損耗,使得整車的重量得到減少,續航里程得到提升。車用發展迅速,市場廣闊,在新能源產業強勁需求下,全球SiC產業步入高速成長期,市場快速增長。
近日,第九屆國際第三代半導體論壇(IFWS)&第二十屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA)于廈門召開。期間,“碳化硅襯底、外延生長及其相關設備技術”分會上,河北普興電子科技股份有限公司產品總監張永強分享了200 mm 4H-SiC高質量厚層同質外延生長的最新研究進展。

普興電子從16年開始SiC的研發,19年實現了6寸SiC外延片的量產,21年中標國家工信部碳化硅外延產業化的項目。目前主要為1200V MOS產品,已通過車規級驗證,應用在新能源車主驅模塊上。


8寸外延是碳化硅外延技術的發展趨勢。報告顯示,普興電子近期研發出的8英寸碳化硅外延片的新產品,解決了8寸襯底應力大、易開裂、外延均勻性及缺陷難控制等難點。厚度均勻性為0.6%,濃度均勻性為2.3%。8寸產品的均勻性已達到與6寸量產產品相當的水平。
普興公司是國內最早外延材料研究工作的單位,目前具備的硅外延的年產能為700萬片,其中200 萬片為8寸硅外延片。6寸碳化硅外延的年產能為15萬片;預計到24年,6寸碳化硅外延片的年產能將擴充到36萬片;25年8寸碳化硅外延片的年產能將擴充到6到8萬片。
審核編輯:劉清
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原文標題:普興電子張永強:200 mm 4H-SiC高質量厚層同質外延生長
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普興電子:200mm 4H-SiC高質量厚層同質外延生長
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