據businesskorea報道,隨著半導體和顯示器等主要產業技術不斷向海外外流,韓國政府發起了加強對技術外流處罰的法案。
據業界18日稱,產業通商資源部(motie) 6月末公布了對《工業技術防止泄露和保護法》的部分修改方案,計劃在8月7日之前經過立法預審期間(包括收集意見)提交給國會。
他表示:“現行法律規定,為使國內核心技術和產業技術在外國使用或使用而對外泄行為進行處罰,但有人指出,‘目的證明’的困難削弱了對技術外泄的應對力度。”MOTIE在立法預覽中做出了上述說明。他還補充說:“對介紹、介紹或誘導技術泄露的人進行處罰,防止介紹技術泄露的行為的必要性越來越大。”
有分析認為,隨著最近半導體和顯示器等主要產業的技術泄露事例劇增,韓國當局將對此采取制裁措施。
修改的內容是擴大法律禁止的侵權行為的范圍,增加泄露國外秘密的犯罪人數。該法將無故將國內核心技術泄露到指定場所以外或介紹、企劃、誘導技術泄露的行為規定為侵權,將泄露國內核心技術和產業技術的犯罪從目的犯罪改為故意犯罪。如果明知技術將在外國使用或有可能被使用而泄露技術,就會受到處罰。
另外,大法院量刑委員會對知識產權犯罪的量刑方針進行了修改。如果提高對技術泄露犯罪的量刑標準,將大幅加強對相關犯罪的處罰,從而可以防止對韓國經濟安全產生惡劣影響的犯罪。根據現行法律,如果將國內核心技術泄露到海外,最高可處以3年有期徒刑和15億韓元(約120萬美元)罰款。
產業通商資源部在4月向大法院量刑委員會提交了要求加強對產業技術泄露犯罪的量刑標準的意見書。最近,韓國產業聯合會等經濟團體也根據企業的要求,向大法院量刑委員會提交了加重刑罰的意見書。業界有關人士表示:“由于可以與韓國的核心技術或產業技術相關的外國學者或機關共同進行研究,因此如果將技術介紹和企劃解釋為技術泄露,有可能會產生副作用。”
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