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重磅新品||安森德自研超結(SJ)MOSFET上市

專注功率器件及模擬IC ? 來源:專注功率器件及模擬IC ? 作者:專注功率器件及模 ? 2023-06-02 10:23 ? 次閱讀
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近年來,新能源、智能汽車、智能家居等新產業發展迅速,帶動了功率器件尤其是超結(SJ)MOSFET的強勁需求。然而長期以來,超結(SJ)MOSFET市場供應被國外企業所主導,但隨著全球半導體產業向我國轉移,加上國產半導體品牌長期的技術積累,產品不斷迭代升級,部分國產功率器件產品的性能和品質,已經可以與國外一線廠商媲美,超結(SJ)MOSFET國產化需求也將迎來發展機會。

以安森德為代表的國產半導體新銳品牌,抓住國產替代和半導體第三次產業轉移的契機,堅持“理論結合實踐,技術驅動創新”的發展路線,研發出核心技術自主可控的中低壓MOSFET、超結(SJ)MOSFET、SIC、GaN、SIP系統級芯片等產品,可滿足多場景差異化應用場景下的客戶需求。聯系電話:17727437826(微信同號)。

57.png

安森德歷經多年的技術積累,攻克了多層外延超結(SJ)MOSFET技術,成功研發出具備自主知識產權的超結(SJ)MOSFET系列產品,涵蓋 600 V、650 V、700 V、800 V 和 950 V MOSFET 電壓等級,具有出色的超低導通內阻,可提高效率和易用性,同時顯著降低開關和傳導損耗。

01

安森德多層外延SJ MOS介紹

安森德自研新品超結(SJ) MOSFET有良好的兼容性和可靠性,且能夠以高性價比滿足高效率要求。

SJ MOSFET工藝比較-3.png

安森德多層外延超結(SJ)MOSFET,通過一層一層淀積硅層,并在每一層上通過離子注入形成P型摻雜,最后通過高溫將每一層的P型區連接從而形成最終的P柱結構。相比Deep-Trench工藝的SJ MOS,是通過外延設備生長一層幾十um的外延層,再通過深槽刻蝕設備刻出深寬比很高的溝槽,采用外延方式將溝槽填充,其過程中因深寬比要求越來越大,會導致在填充時產生一些不規則的空洞,造成芯片在長期高溫工作時的可靠性下降。安森德多層外延工藝因其獨特的溝槽技術,可有效避免這方面的缺陷。

02

安森德多層外延SJ MOS優勢

效率高

較高的輕載、滿載效率,超低的導通內阻、Qg,有效的降低導通、開關損耗。

低溫升

較低的功耗,有效的降低電源整體的工作溫度,延長電源的使用壽命。

穩定性強

強大的EAS 能力可以為電源抗沖擊提供有效的保證,芯片的內部缺陷遠小于低成本的溝槽工藝產品,其高溫穩定性大大提高。

內阻低

超結MOS具有極低的內阻,在相同的芯片面積下,超結MOS芯片的內阻甚至只有傳統MOS的一半以上。

體積小

在同等電壓和電流要求下,超結MOS的芯片面積能做到比傳統MOS更小,可以封裝更小尺寸的產品。

03

安森德多層外延SJ MOS應用

超結(SJ)MOSFET被廣泛應用于電子設備,且應用范圍正在不斷擴大,成為電子設備不可或缺的重要元器件,其主要應用于服務器電源、充電樁、新能源汽車、光伏、逆變、儲能等領域。

審核編輯 黃宇

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