在國產芯片的發展，正在承受前所未有的壓力，尤其是在芯片制造方面。

22納米意味著集成電路集成度會更高，一個晶圓（wafer）上可以流出更多的芯片，意味著原材料成本的分攤。而且特征尺寸越來越小也意味著晶體管開關速度的提升，以及芯片功耗的降低。

國產22納米光刻機技術很先進，是一種世界級的技術突破，原理上突破分辨力衍射極限，也是全球首臺只用紫外光源，就能實現的22納米分辨率的光刻機。

22nm和28nm的差異

與28nm相比，功耗更低，性能更強。還能通過正負偏壓來進行功耗和性能的這種，但是采用偏壓的話也不是沒有成本。要有額外的IP來提供偏壓所需的正負壓。

22nm的芯片面積比28nm的芯片面積小了大概20%—30%左右。22nm芯片的mask層數減少。

文章綜合知乎、澎湃新聞、騰訊云計算

編輯：黃飛