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行業(yè)數(shù)據(jù)顯示首屆“中國晶圓制造材料技術”與市場論壇在杭州召開

mvj0_SEMI2025 ? 來源:陳年麗 ? 2019-07-09 09:40 ? 次閱讀
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由亞化咨詢主辦的中國晶圓制造材料技術與市場論壇2019將于8月28-29日在浙江杭州召開。

2018年度海關數(shù)據(jù)顯示,中國集成電路(IC)進口金額超過3100億美元,比2017年增長19.8%。作為國家重點戰(zhàn)略興新興產業(yè),集成電路產業(yè)鏈的技術突破,成為業(yè)界關注的焦點。

晶圓制造是集成電路產業(yè)鏈的核心環(huán)節(jié),關鍵材料十分重要。主要包括CMP材料、光刻膠、濕電子化學品(顯影、清洗、剝離、蝕刻等)、電子氣體、光掩膜版、靶材等。根據(jù)《國家集成電路產業(yè)發(fā)展推進綱要》明確要求:突破集成電路關鍵裝備和材料,加快產業(yè)化進程,增強產業(yè)配套能力。本土企業(yè)將迎來空前發(fā)展機遇。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示,2018年全球晶圓制造材料市場規(guī)模為近300億美元。隨著中國Fab廠陸續(xù)建成投產,未來關鍵材料和化學品市場將有廣大的增長空間。由于技術壁壘和市場門檻高,目前半導體材料國產化程度較低,不到10%。歐美日韓的龍頭企業(yè)占據(jù)主要市場份額。中國晶圓制造材料行業(yè)面臨巨大市場機遇,技術與應用發(fā)展迫在眉睫。

首屆中國晶圓制造材料技術與市場論壇2019將于8月28-29日杭州召開。會議將重點探討中國集成電路與晶圓制造產業(yè)政策,全球與中國晶圓產能擴張與材料需求展望,中國FAB廠投資與晶圓制造材料市場,海外企業(yè)最新技術,光刻膠、濕電子化學品、高純電子氣體、濺射靶材、光掩膜版、CMP材料的技術與市場趨勢,以及國產化率提升的機遇與挑戰(zhàn)等。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:演講報告征集—中國晶圓制造材料技術與市場論壇

文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導體前沿】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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