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華虹半導體第三代 90nm eFlash工藝平臺實現量產!

mvj0_SEMI2025 ? 來源:YXQ ? 2019-06-28 09:25 ? 次閱讀
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華虹半導體宣布其第三代90nm嵌入式閃存()工藝平臺已成功實現量產。

華虹半導體一直深耕嵌入式非揮發性存儲器技術領域,通過不斷的技術創新,第三代90nm嵌入式閃存工藝平臺的Flash元胞尺寸較第二代工藝縮小近40%,再創全球晶圓代工廠90nm工藝節點嵌入式閃存技術的最小尺寸紀錄。

Flash IP具有更明顯的面積優勢,使得芯片整體面積進一步減小,從而在單片晶圓上獲得更多裸芯片數量。與此同時,光罩層數也隨之進一步減少,有效縮短了流片周期。而可靠性指標繼續保持著高水準,可達到10萬次擦寫及25年數據保持能力。

近年來,華虹半導體在90nm工藝節點連續成功推出三代閃存工藝平臺,在保持技術優勢的同時,不斷探求更高性價比的解決方案。第三代工藝平臺的大規模穩定量產,為電信卡、Ukey、交通卡等智能卡和安全芯片產品以及微控制器(MCU)等多元化產品提供持續穩定的支持和解決方案。

華虹半導體執行副總裁孔蔚然博士表示:華虹半導體未來將繼續聚焦200mm差異化技術的研發創新,面向高密度智能卡與高端微控制器市場,同時不斷致力于在功耗和面積方面提供顯著的優化,將200mm現有的技術優勢向300mm延伸,更好地服務國內外半導體芯片設計公司,滿足市場需求。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:華虹半導體第三代90nm嵌入式閃存工藝平臺正式量產

文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導體前沿】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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