中芯國際和華虹半導體在國內的半導體行業還是有一定影響力的，但是在全球的半導體行業里，這兩家公司還沒那么出名。全球有名氣的、有影響力的三大半導體巨頭是美國的英特爾、***的臺積電、韓國的三星，這三大巨頭在技術上和業務上是彼此競爭的關系。

在荷蘭，有一家公司，不是這三大半導體巨頭的客戶，但這三大巨頭不光不敢得罪，還要努力討好。這家荷蘭的公司就是阿斯麥（ASML.O），全球唯一一家成功開發EUV光刻機的公司。

阿斯麥簡介

阿斯麥的總部位于荷蘭，于1984年成立，原名Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。1995年阿斯麥在NASDAQ和阿姆斯特丹交易所上市，2001年更名為ASML。公司擁有員工約16500人，其中研發人員超過6000人，研發人員占比超過36%。

阿斯麥的主要業務是光刻機，在光刻機領域處于絕對領先的地位。在45納米以下制程的高端光刻機市場中，占據80%以上的市場份額，而在EUV光刻機領域，目前處于絕對壟斷地位，市占率為100%，處于獨家供貨的狀態。

阿斯麥的主要客戶為全球一線的晶圓廠，除了英特爾、三星和臺積電這三大巨頭之外，國內的中芯國際也是阿斯麥的客戶。

最近幾年，阿斯麥的營收呈增長態勢。2012至2016年，半導體行業發展緩慢，公司的營收增速也有所放緩，增速大概在10%左右。2016年營收67億歐元，增長8.1%，凈利潤15億歐元，增長5.5%。2017年半導體行業還是景氣，公司業績開始增速；2017年前三季，公司營收65億歐元，同比增長32%，凈利潤15億歐元，同比增長56%。預計2017年的營收可以增長25%左右。

EUV光刻機的王者

集成電路里的晶體管是通過光刻工藝在晶圓上做出來的，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。光刻機是半導體行業的最關鍵設備，因為它決定了光刻工藝的水平。工欲善其事，必先利其器，要想開發先進的半導體制程，就必需要有先進的光刻機。

阿斯麥的光刻機按照使用的光源不同，可以分為DUV光刻機和EUV光刻機。DUV是Deep

Ultra Violet，即深紫外光；EUV是Extreme

Ultra Violet，即極紫外光。

DUV光刻機的極限工藝節點是28nm，要想開發更先進的制程，就只能使用EUV光刻機了。

從2012年開始，光刻機技術沒有發生革命性變化，著名的摩爾定律開始失效，半導體行業發展緩慢，2015年甚至出現了2.3%的負增長。半導體行業迫切需要使用EUV來提高光刻能力。

2013年阿斯麥的EUV光刻機研發成功，使用的光源是22nm；2017年更先進的EUV光刻機研成功，使用的光源是13nm，使得7nm線寬的制程可以實現。

要想開發10納米以下的制程，EUV光刻機是必須的設備，而全球只有阿斯麥一家有EUV光刻機。為了能夠順利買到EUV光刻機，半導體行業三大巨頭英特爾、三星和臺積電都已經入股了阿斯麥。三星計劃2018年開始使用阿斯麥的EUV設備，臺積電計劃2019開始使用阿斯麥的EUV設備，格羅方德計劃2019年使用EUV，英特爾計劃2021開始使用7nm工藝。

目前，阿斯麥的EUV光刻機已經開始出貨，2017年預計出貨12臺，2018年預計出貨24臺，到2019年預計出貨30臺。

小結

公司分為兩類，一類是普通的公司，一類是偉大的公司。普通的公司被行業影響，被動適應行業的發展；偉大的公司影響行業，主動推動行業的發展。

目前全球只有阿斯麥一家公司有能力制造EUV光刻機。半導體行業有了EUV光刻機，就可進行10納米以下的制程開發了。也就是說阿斯麥能不能開發出來EUV光刻機，將直接決定半導體行業的制程能不能發展到10納米以下。

半導體三大巨頭英特爾、三星和臺積電要想開發10納米以下的半導體制程，都只能使用阿斯麥的EUV光刻機。不管三大巨頭之間怎么競爭，阿斯麥都可以穩坐釣魚臺。