9月10日，SEMI-e深圳國際半導體展暨2025集成電路產業創新展在深圳國際會展中心（寶安）順利開幕。廣明源（展位號：13G27）在展會中重點展示了172nm準分子光應用方案及系列創新產品，吸引了業內人士的廣泛關注。

本次展出的172nm準分子光應用系列方案，主要覆蓋半導體等高端制造的關鍵制程與工藝研發環節，包括光清洗、光固化、光改性及超純水TOC降解等，為企業提供可控且環保的技術方案，支持核心工藝實現國產化替代。

01晶圓/掩膜板光清洗解決方案

高效去除晶圓及掩膜板表面微觀有機污染物，實現原子級潔凈處理，無化學殘留、低溫無損傷。

02晶圓鍵合改性解決方案

通過精準調節表面親水性和粘附性能，提升鍵合效果，處理快速、低熱效應且無化學殘留。

03超純水TOC降解解決方案

高效降解超純水系統中的總有機碳（TOC），潔凈度可達ppb級，無化學添加，支持在線連續處理，穩定可靠。

04制程驗證開發解決方案

針對工藝研發、制程驗證和小批量試產設計的172nm MINI實驗模組，結構緊湊、靈活可移、部署便捷，適用于多種實驗環境及工藝驗證需求。

展會期間，廣明源團隊與觀眾進行了深入交流，介紹了各類應用方案的技術特點及實際應用效果，獲得了積極反饋。

深圳SEMI-e將持續至9月12日，廣明源誠邀各界同仁蒞臨展位（13G27）參觀交流，共同探討172nm準分子光技術在半導體及相關領域的應用與發展。