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中車時代電氣SiC產(chǎn)業(yè)化基地離子注入工藝設(shè)備技術(shù)調(diào)試完成

集成電路應(yīng)用雜志 ? 2018-01-15 09:50 ? 次閱讀
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國內(nèi)首條6英寸SiC芯片生產(chǎn)線完成技術(shù)調(diào)試

近日,中車時代電氣SiC產(chǎn)業(yè)化基地離子注入工藝設(shè)備技術(shù)調(diào)試完成,標(biāo)志著SiC芯片生產(chǎn)線全線設(shè)備、工藝調(diào)試圓滿完成,具備SiC產(chǎn)品的生產(chǎn)條件,下個月產(chǎn)線將正式啟動試流片。

該生產(chǎn)線是國內(nèi)首條6英寸SiC芯片生產(chǎn)線,總建設(shè)投資3.5億元人民幣,獲得了國家“02”專項、國家發(fā)改委新材料專項等國家重點項目支持。

半導(dǎo)體事業(yè)部SiC器件產(chǎn)業(yè)化建設(shè)團(tuán)隊在時間緊、任務(wù)重、無成熟經(jīng)驗可借鑒的情況下,得到中科院微電子所技術(shù)支持和協(xié)助,攻堅克難,通過縝密繁雜的各方協(xié)調(diào)、積極推進(jìn),安全完成46臺(套)工藝、檢測測試設(shè)備搬入、調(diào)試,以及特殊廠務(wù)系統(tǒng)調(diào)試等一系列高難度、高危險的任務(wù)。本月初在各方共同努力下完成了最后一項工藝能力調(diào)試。目前,該生產(chǎn)線廠務(wù)、動力、工藝、測試條件都已完備,具備SiC產(chǎn)品的生產(chǎn)條件,可以實現(xiàn)4寸及6寸SiC SBD、PiN、MOSFET等器件的研發(fā)與制造。

SiC單晶材料作為新型第三代半導(dǎo)體材料的代表,與當(dāng)前主流的第二代硅基半導(dǎo)體材料相比,能夠有效提高系統(tǒng)效率、降低能耗、減小系統(tǒng)裝置體積與重量、提高系統(tǒng)可靠性。未來,半導(dǎo)體SiC材料制作成的功率器件將支撐起當(dāng)今節(jié)能技術(shù)的發(fā)展趨向,成為節(jié)能裝置最核心的部件。SiC生產(chǎn)線工藝調(diào)試按期完成,是提高我國核心功率半導(dǎo)體器件和搶占未來科技和產(chǎn)業(yè)制高點的需要,將助力公司半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)布局前沿技術(shù)領(lǐng)域,搶占市場高地。

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原文標(biāo)題:國內(nèi)首條6英寸SiC芯片生產(chǎn)線完成技術(shù)調(diào)試

文章出處:【微信號:appic-cn,微信公眾號:集成電路應(yīng)用雜志】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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