光刻機是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機技術幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進的光刻機是多少nm的?中國現在又能夠做出幾nm的芯片呢?
目前全球最先進的光刻機已經可以實現5nm的工藝制程了,它是荷蘭ASML公司的極紫外光刻機(EUV),是目前全球最頂尖的光刻機設備。
中國目前最先進的光刻機應該是22nm的,它的關鍵部件可以實現國產化了。但中國已經可以實現14nm芯片的量產了,這是中芯國際取得的一個重大成績。
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