90nm光刻機能生產什么的芯片
光刻機是制作芯片的關鍵設備，利用光刻機發出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機，那么90nm光刻機能生產什么芯片呢？
90nm除了可以生產90nm制程的芯片外，如果曝光兩次就可以得到45nm的芯片，如果曝光三次就可以達到22nm芯片的水平。總的來說，曝光的次數越多芯片的nm越小，但是良品率會降低，所以一般都控制在28nm和32nm。
相較于荷蘭、美國、德國這些國家，我國的芯片制造還是不具優勢的，但是我國直接從90nm突破到22nm意味著我國的光刻機制造的一些關鍵核心領域已經實現了國產化，國產光刻機突破封鎖，正在崛起。
審核編輯：chenchen
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