4月6日，據臺媒報道，聯電產能供不應求，今年資本支出大增五成至15億美元。聯電表示，今年多數資本支出將用于擴建南科P5廠，主要以12英寸28nm以下制程為主，聚焦5G智能手機、數據中心邊緣運算、電動車與自動駕駛等，發展所需的各式晶圓特殊制程技術及產能布建。

聯電2020年營運大翻身，獲利創14年新高，每股純益為20年新高，今年受惠智能手機、遠距應用及車用電子等需求暢旺，聯電產能利用率維持滿載。

為了滿足客戶強勁需求，聯電今年資本支出將達15億美元，較去年的10億美元增加50%，其中，85%的資本支出將投入12英寸廠，主要以28nm以下制程為主，15%的資本支出投資8英寸廠。

聯電此前曾表示，預估今年28nm的營收貢獻將由去年14%占比大幅提高到25%，預計今年營收與獲利將持續成長。

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