光刻機是半導體制造中的核心裝備，其中包含了數以萬計的精密零件，被譽為“半導體工業皇冠上的一顆明珠”。

但這顆明珠卻長期為荷蘭阿斯麥（ASML）公司所壟斷，由于稀缺，一臺光刻機的售價可賣到數千萬美元甚至過億美元。對于5nm、7nm等高端芯片制造工藝，沒人可以繞開ASML進行生產。

近日，在第三屆上海進出口商品交易會上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波在接受采訪時透露，這些年來，他們已經為中國的半導體客戶積累了700多臺裝機。第一臺光刻機于1988年進入中國，距今已有32年。

根據ASML的財務報告，在今年第二季度和第三季度，該公司向國內地區銷售的光刻機占全球銷量的20%。目前，ASML已在中國設有12個辦事處，11個倉儲和物流中心，2個開發中心和1個培訓中心，共有1000多名員工。

國產光刻機的缺失，不僅意味著每年中國企業要付出巨大代價去采購外國產品，更代表了半導體工業已經將自己的“命脈”拱手讓人。

那么中國為什么造不出自己的光刻機？中國的高端半導體設備究竟差在哪里？

前瞻產業研究院發布的《2020年中國半導體設備行業市場研究報告》指出，光刻機發展至今，已經歷了5代產品的迭代，目前第五代EUV光刻機是未來光刻機技術發展的主要方向，目前ASML是全世界唯一一家能夠設計和制造EUV設備的廠商。

從中國市場來看，上海微電子裝備有限公司（SMEE）是我國國內唯一能夠做光刻機的企業，其已經量產的光刻機中，性能最好的能夠達到90nm的制程工藝。

但值得一提的是，在光刻機產業的上下游，不乏國產企業的身影。

盡管我國光刻機的發展與國際領先水平有著不小差距，但在半導體設備的其它細分領域已有了較大進展。

從國內市場來看，刻蝕機是我國最具優勢的半導體設備領域，也是國產替代占比最高的重要半導體設備之一。目前我國主流設備中，去膠設備、刻蝕設備、熱處理設備、清洗設備等的國產化率均已經達到20%以上。

那么目前國內半導體行業的國產替代化究竟發展到了什么程度？

據前瞻產業研究員分析，國產半導體設備已經形成系列化布局，以北方華創等為代表的龍頭公司正在加緊布局設備國產替代。

目前國內半導體設備企業在刻蝕、薄膜沉積、離子注入、光學測量、研磨拋光、清洗設備等主要設備均有布局，客戶的接受度也不斷增強，包括中微半導體的介質刻蝕機、北方華創的硅刻蝕機、PCV設備，上海盛美的清洗設備等國產12英寸設備已經在生產線上實現批量應用。另外，一部分應用于14nm的國產設備也開始進入生產線步入驗證。

半導體設備行業是半導體芯片制造的基石，半導體不僅與信息安全的發展進程息息相關，其價值鏈更具有放大效應。根據國際貨幣基金組織測算，每1美元半導體芯片的產值可帶動相關電子信息產業10美元產值，并帶來100美元的GDP。

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