11月10日消息，美光宣布已開始批量生產全球首個176層3DNANDFlash。這也是美光、Intel在閃存合作上分道揚鑣之后，自己獨立研發的第二代3DNAND閃存。

美光、Intel合作時，走的是浮動柵極閃存單元架構，獨立后轉向電荷捕獲(charge-trap)閃存單元架構，第一代為128層堆疊，但更多的是過渡性質，用來發現、解決新架構設計的各種問題。

正因如此，美光全新176層堆疊閃存所取代的，其實是96層堆疊。

美光指出，與上一代128層3DNAND技術相比，將讀取延遲和寫入延遲改善了35%以上，基于ONFI接口協議規范，最大數據傳輸速率1600MT/s，提高了33%，混合工作負載性能提高15%，緊湊設計使裸片尺寸減小約30%，每片Wafer將產生更多的GB當量的NANDFlash。

美光新的176層3DNAND已在新加坡工廠量產，并已通過其Crucial消費類SSD產品線送樣給客戶，并將在2021年推出基于該技術的新產品，瞄準5G、AI、云和智能邊緣領域的增長機會，滿足移動、汽車、客戶端和數據中心領域不斷增長的存儲需求。

據了解，美光176層閃存其實是基于兩個88層疊加而成，第一批為TLC顆粒，單個Die的容量為512Gb(64GB)，當然后期很可能會加入QLC。

得益于新的閃存架構和堆疊技術，美光將176層的厚度壓縮在了45微米，基本和早期的64層浮動柵極3DNAND差不多。

這樣，即使在一顆芯片內封裝16個Die，做到1TB的單顆容量，厚度也不會超過1.5毫米，可以輕松放入智能手機、存儲卡。

傳輸速率提高至1600MT/s，而此前96/128層的都是1200MT/s，讀寫延遲相比96層改進35％，相比128層改進25％，混合負載性能相比96層改進15％。

美光表示，176層閃存已經量產出貨，并用于一些Crucial英睿達品牌的消費級SSD，明年還會發布更多新產品，但沒有確認具體產品型號。

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