光刻機，在整個芯片生產制造環節，是最最最核心的設備，技術難度極高。

在全球光刻機市場，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據了市場90%以上份額。而最高級的EUV（極紫外光）技術，則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。

現在，一個難得的好消息是，光刻機可以進口了，并且美國無需限制。

而這個底氣是半導體巨頭、全球光刻機領頭企業荷蘭的阿斯麥爾（ASML）給中國的。

10月14日，ASML首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen），對向中國出口光刻機的問題作出了表態。他表示：

ASML可以從荷蘭向中國出口DUV（深紫外）光刻機，無需美國許可。

這無疑給了中國半導體行業新的希望。

但別高興太早。

ASML方面也提到：

如果相關系統或零件是從美國出口的，那這些設備仍然需要得到美方的許可。

此外，從ASML的表態中也可得知，除了允許進口DUV光刻機外，并未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。

盡管如此，這對于中國半導體行業來說都是一件極大的幸事了。

ASML為什么不懼美國禁令？

ASML為什么有底氣進口DUV光刻機給中國？

RogerDassen解釋說：

“如果要解釋一下美國的規定對ASML有什么影響的話，對于的中國客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機，無需任何出口許可。”

也就是說，美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機等，但并沒有限制其他國家對中國進口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內。

但如果相關系統或零件是從美國出口的，這就另當別論了。

同時他也表示ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續提供服務和支持。

值得注意的是，當天也是ASML發布新一季度財報的日子，我們從其財報中也看到了ASML出口光刻機的一些原因。

ASML第三季度財報顯示，ASML當季總共銷售60部光刻系統，凈銷售額為40億歐元，凈收入11億歐元，毛利率達到了47.5%，營收攀升至39.58億歐元，其中，中國占據21%的份額。

前九個月銷售業績高達97.24億歐元（約合人民幣770億元），同比大增近25%。其中，來自高端EUV光刻機的收入占比達到了總收入的66％。

此外，ASML還十分看好中國市場。海關總署數據顯示，今年1-8月，我國累計進口了3334.6億美元的集成電路，同比大增22.5%。

據南方新聞網報道，在9月17日的中國集成電路制造年會上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波透露，截至當前，中國已經實現了700多臺ASML光刻機的裝機，幾乎所有芯片生產商都購買過該公司的服務。

中國對于ASML來說實在是一個大市場。

而ASML也一直對中國市場有擴張野心。

在第23屆中國集成電路制造年會（CICD2020）暨廣東集成電路產業發展論壇上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波就表示：

ASML在中國大陸成立第一個辦公室迄今已有20年，從第一臺光刻機開始，就是中國半導體行業的親歷者、見證者、和推動者。未來，ASML還將持續投入、擴大布局、培養人才，攜手行業伙伴，和中國半導體產業實現共同發展。

此外，資料顯示，2000年，ASML在中國天津正式成立大陸地區的第一個辦公室，迄今為止在中國大陸12個城市有辦事處或分支機構，分別為天津、上海、北京、無錫、武漢、西安、大連、南京、廈門（晉江）、合肥、深圳、廣州。

可以說從一線城市到二三線城市都有ASML的布局。在中國受美方的打壓下，ASML卻在加速中國市場的布局。

這又是一個值得思考的問題。

網友：進口DUV光刻機沒用，真正卡脖子的是EUV

聽聞這一消息，網友也紛紛表態。

在他們看來，中國真正需要的是EUV光刻機，ASML這一做法并不能解燃眉之急，當務之急還是要自力更生。

為什么這么說呢？

我們先來看下DUV和EUV之間的區別。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。

DUV光刻機，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經過多重曝光后，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

而EUV光刻機采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、英特爾的5nm產線就無法投產。

EUV的重要性可想而知。

事實上，早在今年3月，中芯國際就向ASML購買了一臺大型光刻機，外界傳言為EUV，但中芯國際也在此后證實并非外界傳言的極紫外光刻機。

這也進一步證明了EUV的重要性。

國內光刻機困境

那么，國內光刻機的發展現狀如何呢？

根據百度百科的解釋，一臺光刻機由上萬個部件組成，有人形容稱這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域頂尖技術的產物。

而一臺光刻機的售價從數千萬美元高至過億美元，可見光刻機的重要性。

在全球范圍內，光刻機市場幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在這3家中，ASML又是當之無愧的一哥。據中銀國際報告，阿斯麥全球市場市占率高達89%，其余兩家的份額分別是8%和3%，加起來僅有11%。在EUV光刻機市場中，ASML的市占率則是100%。

而中國對于光刻機的制造幾乎還在起步階段。

目前，中國芯片制造方面頂尖的中芯國際只有28納米的生產工藝，14納米工藝才剛剛開始量產，且中國芯片制造只能占到世界7.3%的份額。

但近年來，國家加大了對半導體行業的投入。

2019年4月，武漢光電國家研究中心甘棕松團隊，采用二束激光，在自研的光刻膠上，突破光束衍射極限的限制，并使用遠場光學的辦法，光刻出最小9nm線寬的線段。

2020年初，中科院對外宣稱已經攻克了2nm工藝的難題，相關研究成果已經發布到國際微電子器件領域的期刊當中。

5月19日，上海微電子裝備（集團）股份有限公司稱，其自研的高亮度LED步進投影光刻機，是中國首臺面向6英寸以下中小基底先進光刻應用領域的光刻機產品，已從1200多個申報項目中成功突圍，入選“上海設計100+”。

10月15日，南京集成電路產業服務中心副總經理呂會軍向媒體證實中國將建立一所南京集成電路大學，專門培養實踐型芯片研發人才，以加速芯片的國產化。

誠然，中國在光刻機這條路上還有很長的路要走，但在經歷了卡脖子的困境后，相信中國企業已經意識到自主研發的重要性，而美國長期的封鎖和打壓只會激發中國放棄僥幸，集中力量，讓核心科技硬起來。

同時，對于國內的光刻企業還要給予耐心，不能急功近利。
責編AJX