EUV光刻機(jī)的價值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片
作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。
光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機(jī)也需要升級到EUV級別。
ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機(jī)，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。
目前ASML公司是唯一一個能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，他們做出這樣的表態(tài)其實也不讓人意外，畢竟這是一臺售價高達(dá)1.2億歐元、約合10億一臺的高端設(shè)備，全球半導(dǎo)體制造廠商都要看ASML的臉色。
臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機(jī)，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機(jī)。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
737瀏覽量
43522 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15845
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3
壟斷 EUV 光刻機(jī)之后，阿斯麥劍指先進(jìn)封裝
能量產(chǎn) EUV 光刻機(jī)的廠商，早已憑借這一壟斷地位，深度綁定臺積電等頭部芯片制造商，左右著全球最先進(jìn) AI 芯片的產(chǎn)能與迭代節(jié)奏。如今，這家
EUV光源重大突破！ASML：芯片產(chǎn)量將提升50%
紫外光刻（EUV）設(shè)備的公司。EUV設(shè)備堪稱芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)計算芯片的“神器”，像臺積電、英特爾等行業(yè)巨頭都高度依賴它。
光刻機(jī)的“精度錨點”：石英壓力傳感器如何守護(hù)納米級工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，可靈活適配硅片、藍(lán)寶石、SiC等不同襯底材料，滿足多樣化的膠厚光刻工藝需求。 WS180i系列光刻機(jī)優(yōu)勢顯著。其晶圓覆蓋范圍廣，可
白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量
EUV（極紫外）光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長，成為 7nm 及以下節(jié)點集成電路制造的核心工藝
【「AI芯片：科技探索與AGI愿景」閱讀體驗】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5
發(fā)表于 09-15 14:50
EUV光刻膠材料取得重要進(jìn)展
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當(dāng)制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進(jìn)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求，此時，波長13.5
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2044次閱讀
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇，以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會
進(jìn)制程領(lǐng)域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機(jī)市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【
【「芯片通識課：一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)，擴(kuò)散爐
發(fā)表于 03-27 16:38
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴
工商網(wǎng)監(jiān)
評論