集微網消息 4月1日,新萊應材接受投資者提問時表示,光刻機領域根據結構圖紙是有機會可以使用到我司的真空系統產品,我們也一直努力試圖跟ASML接觸,同時也希望能透過真空技術與國內其他廠家配合制作科研級光刻機并逐步推展到半導體市場。7nm以下的制程是否實現國產替代這個我們不是很了解,但我們的產品可以用于7nm以下的干式刻蝕制程。
關于訂單,新萊應材表示,目前公司在手訂單充足,由于疫情原因導致復工時間推遲,影響出貨。目前,已完全復工復產,努力將疫情的影響降到最低限度,對全年完成較好銷售充滿信心。目前,海外疫情比較嚴重的區域暫不是公司外銷主力區域,受疫情影響有限。
據悉,新萊應材是國內唯一覆蓋真空半導體、生物醫藥、食品安全三大領域的高潔凈應用材料制造商。2019年上半年,新萊應材積極推進創業板公開發行可轉換公司債券事宜,以加快推進公司用于半導體行業超高潔凈管閥件生產線技改項目。
新萊應材表示,本次募集資金投資項目的建成一方面有利于提升產品附加值,提高企業的盈利能力;另一方面有助于提升公司的品牌價值,建立品牌優勢,提升公司半導體行業超高潔凈產品的市場占有率和市場認可度。
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