關鍵詞： EUV , 光刻

近日，新思科技與中國科學院微電子研究所強強聯手，正式組建“EUV光刻仿真聯合實驗室”并舉行揭牌儀式。雙方聯合宣布將在北京合作共建國際一流、國內領先的聯合實驗室，共同合作開發基于EUV的光刻仿真及應用，致力提高中國EUV研發能力并共同培養該領域尖端人才。該聯合實驗室得到了北京市科學技術委員會國際科技合作專項的支持。

中科院微電子所所長葉甜春、中科院微電子所科技處處長李平、中科院微電子所計算光刻研發中心主任韋亞一、新思科技半導體事業部全球總經理柯復華、新思科技全球資深副總裁暨亞太總裁林榮堅、新思科技中國副總經理陳志昌、新思科技中國區半導體事業部銷售總監肖長青等出席揭牌儀式。

中科院微電子所所長葉甜春說，“早從2003年開始，作為第一家合作單位，新思科技與中科院微電子所成立了EDA研究中心。15年來，我們不斷深化合作，目前科學院10多個研究所，20多個課題組都使用新思科技的解決方案從事科研工作。此次EUV光刻仿真聯合實驗室的成立，開啟了新的合作點，將共同提高中國EUV研發能力。"

新思科技半導體事業部兼全球總經理柯復華表示，“集成電路產業在中國蓬勃發展，正迅速接近國際水平，國內第一臺EUV也即將于2019年投入使用，預計對于EUV的光刻仿真及應用的需求將變得越來越迫切。為更好地服務于這個迅速成長的中國市場，新思科技一直努力深化提高在中國集成電路產業的參與度。我們非常高興此次能夠和國內領先的微電子研究所共建EUV光刻仿真聯合實驗室，使我們的產品和服務更加貼近國內芯片制造商的迫切需要，共同提高中國集成電路在EUV方面的應用水平。”

新思科技是目前在業界唯一具有從芯片設計、工藝研發到半導體生產良率提升全流程解決方案的軟件提供商。在先進的極紫外（EUV）光刻領域，新思科技同樣擁有廣泛的研發和量產經驗。

未來，新思科技將持續并加強產學研合作，助力培養更多更高質量的EUV領域尖端人才并不斷堅持技術創新，推動中國集成電路產業的發展。