近日，比利時微電子研究中心（IMEC）與全球光刻技術領軍企業阿斯麥（ASML）共同宣布，在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯合High-NA EUV光刻實驗室。

這一實驗室的啟用標志著High-NA EUV技術向大批量生產邁出了重要一步。實驗室的核心設備為一臺先進的原型高數值孔徑EUV掃描儀，以及與之相配套的一系列處理和計量工具。這些設備將用于研究、開發和驗證High-NA EUV光刻技術，以滿足未來半導體制造對更高精度和更小尺寸的需求。

IMEC與阿斯麥的此次合作，不僅將推動High-NA EUV技術的進一步發展，還將為半導體行業帶來更加先進的制造技術和解決方案。通過共同研發，雙方將致力于解決半導體制造中的技術難題，推動半導體行業的持續創新和發展。