早在1975年，KATAGI T和TAKEICHI Y提出了一種成形反射面的設計方法，即波前分析方法，這種方法是假定遠場輻射圖的波前由兩部分組成：內部是限制在所需輻射圖的一個角形范圍內的球面波；外部是一個以內部邊界輪廓作準線的控制表面。饋源波前假定為球面波，這樣，用幾何光學方法根據入射和反射波前就完全可以確定反射面。從幾何光學意義上講，波前與波束剖面相對應，波前決定反射面的成形。根據初始饋源在反射面上產生的面電流分布來計算天線方向圖，將天線方向圖的計算值與期望值相比較，如果計算值逼近期望值的結果并不理想,則重新調整決定波前和反射面的參數，計算天線方向圖，直至滿意為止[5,13]。

波前法的原理是：拋物面天線將饋源匯聚成的球形波前轉換成平面波前。當平面波前、饋源和反射面上的一點給定時，由光路定律可以確定反射面上的所有點;同理，當賦形波前、饋源和反射面上的一點給定時，成形反射面也可由光路定理確定。這種方法比較粗略，可對邊界地形不是很復雜的覆蓋區進行賦形，但對天線的一些遠場特性無法確定。這一方法無法解決與反射波前的外部有關的幾何光學焦散問題。因此，在現代的賦形反射面天線的設計中，這種方法已經很少被使用了。

2.2 口面場優化法[13-17]

這種方法是通過優化口徑面場的分布，來獲得特定的遠場覆蓋模式。在優化過程中，假設口徑面場的輻度分布不變，相位分布以三角函數等為基底函數展開。優化對象是這些三角函數或其他基函數的系數，可以采用最小二乘法或者其他非線性優化方法(如Minmax法)建立目標函數，使遠場增益逼近目標值。根據優化后口面場的相位分布，通過幾何光學原理，可以計算出反射面的表面形狀。

JORENSEN R于1980年提出了一種更為嚴格的口徑相位綜合技術。在這種方法中，口徑相位分布直接由遠場方向圖優化得到，再用幾何光學方法確定反射面形狀。口徑相位綜合技術消除了焦散問題，能更方便地控制方向圖特性，但是這種方法不能同時優化口徑幅度分布。這就是后來在改進技術中為什么要先假定反射面的電場強度是大小不變的原因之一。JORENSEN R在分析中假定了一個固定的高斯幅度分布，對復雜的方向圖設計是不實用的。表示反射面，通過優化函數的系數進行反射面綜合。間接方法的優化對象是成形反射面天線的一些特性參數，如波前、口徑面場分布等，通過優化這些參數來滿足賦形要求，進而確定反射面的形狀。

這種方法能夠取得較好的圖形效果，可以根據采樣點的增益分布控制主瓣與副瓣。但是在優化過程中，假設口徑面場的幅度分布不變，而副瓣電平主要由起始的邊緣照射決定。實際上口徑面相位的變化會引起反射面表面形狀的變化，從而導致口徑面幅度分布有所變化，盡管這種變化不明顯，但也會影響遠場計算的精度。另外，有些基函數的選取并不能保證邊界形狀很復雜的覆蓋區有很好的賦形效果。

2.3 口徑面柵格的場相位優化法

口徑面柵格的場相位優化法[2,5]基本上是口面場優化法的改進。為克服口面場相位優化方法的缺點，將口徑面分成很多小柵格，優化前認為每個小柵格上的場分布為等幅同相，這樣，口徑面上場的相位分布不再用三角函數展開式表示，而是一個個獨立的值。其優化思想是，優化口徑面場的相位分布，使遠場增益迫近目標值。通過口徑面場的相位分布，確定反射面的形狀；通過反射面的形狀，饋源的幅值相位分布來確定口徑面場的幅度分布，作為下一次相位優化時的幅度分布。由于這種方法考慮了口徑面場幅度變化對遠場的影響，與口面場優化法相比較，其精度相應提高，在參考文獻[5]中通過優化反射面上各個網格在拋物面焦軸方向上的變形量，提出網格變形時相位影響因子的概念，對相位加以優化，同時附加變形限制條件，改善了反射面表面不連續的問題。

總之，上述三種方法都是采用幾何光學分析方法，其中，口面場優化法和口徑面柵格的場相位優化法通過優化得到口徑面上柵格的幅值和相位來確定反射面的形狀。這些方法都有一個缺點，即在優化口徑面場相位時，可能使反射面表面不連續，導致反射面加工較困難，所以在優化過程中，必須解決不連續問題。