前段時間國內研發成功紫外超分辨SP光刻機的消息刷屏了，使用365nm波長就能實現單次曝光最高線寬分辨力達到22nm，它打破了傳統光學光刻分辨力受限于光源波長及鏡頭數值孔徑的傳統路線格局，而且這套設備的價格只要1000-2000萬元，不到EUV光刻機的2%。

不過這套SP光刻機技術突破意義雖大，但并不能取代現有的光刻機，只適合特種工藝，不適合大規模量產。除了光刻機之外，半導體生產還需要其他設備，比如刻蝕機，國內的中微電子已經研發成功5nm等離子刻蝕機，并通過了臺積電的認證，將用于全球首條5nm工藝。

在半導體制造過程中，光刻機是決定工藝水平的關鍵，所以光刻機在媒體上的曝光率很高，不過現在的的半導體工藝涉及數百道工序，除了最核心的光刻之外，刻蝕也是很重要的一個過程——將晶圓浸入內含蝕刻藥劑的特制刻蝕槽內，可以溶解掉暴露出來的晶圓部分，而剩下的光刻膠保護著不需要蝕刻的部分。

刻蝕機就是處理這部分工藝的，與光刻機相比，刻蝕機的價格就要低多了，通常在500萬美元以內，不過需要的數量比光刻機更多，所以也是非常重要的半導體制造裝備，全球領先的刻蝕機設備公司主要還是LAM、AMAT應用材料等半導體設備巨頭，國內主要是中微電子AMEC及北方華創兩家。

說完背景知識，現在報道的這個5nm等離子刻蝕機就是中微電子生產的，實際上這件事已經是舊聞了，2017年3月11日中微電子就通過央視CCTV2頻道宣布研發成功5nm等離子刻蝕機，現在則是刻蝕機通過了大客戶臺積電的驗證，可以用于5nm生產線了，只不過臺積電的5nm工藝還在研發中，明年才會試產，量產至少是2020年的事了。

考慮到它帶有5nm這樣的先進工藝字眼，估計今天這篇新聞又要被刷屏了，不過了解下基本知識的話就不用激動了，這個5nm其實跟刻蝕機無關，刻蝕機并不決定半導體的制造工藝。

當然，技術進步還是值得表揚的，畢竟也是全球第一個5nm刻蝕機，能打進臺積電的供應鏈也不容易，中微電子在刻蝕機以及其他半導體設備上的進展也有助于提升國內的半導體技術水平。