国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國際在先進工藝制程上可望加快追趕海外企業(yè)的速度

KjWO_baiyingman ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-09-02 09:00 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

自2014年以來中國對芯片產(chǎn)業(yè)高度重視,中國的芯片設(shè)計企業(yè)如雨后春筍般涌現(xiàn),不過在芯片制造工藝上中國進展緩慢,中國最大的芯片制造企業(yè)中芯國際一直努力研發(fā)先進的制程工藝,不過其在28nm工藝上遭遇了困難,量產(chǎn)時間被一再延遲,直到去年業(yè)內(nèi)知名的臺積電前研發(fā)處長加入,中芯國際的28nmHKMG工藝良率快速提升,再到如今的14nmFinFET工藝取得突破,中國在芯片制造工藝上開始縮短與臺積電和三星的差距。

中芯國際研發(fā)先進工藝遇到困難

中芯國際的28nm工藝早在2015年就開始投產(chǎn),并在2016年獲得了高通驍龍425芯片的訂單,不過當時的28nm為Poly/SiON規(guī)格,中芯國際的28nmPoly/SiON成功投產(chǎn)意義重大,代表著它在先進工藝制程上的又一個重大進展,不過中芯國際隨后在研發(fā)先進工藝上遭遇了困難。

中芯國際的28nmPoly/SiON是相對落后的工藝,要取得更高的能效需要研發(fā)更先進的28nmHKMG工藝,然而其在研發(fā)該工藝上遭遇了難題,據(jù)稱直到去年其一直都為提升28nmHKMG的良率而努力。

在研發(fā)28nmHKMG面臨困難的時候,臺積電和三星已先后演進至14nmFinFET、10nm工藝,其中臺積電更在中國大陸的南京設(shè)立芯片制造廠預(yù)計在今年開始投產(chǎn)16nmFinFET,希望就近為中國芯片企業(yè)提供服務(wù)贏得大陸客戶的訂單,這給中芯國際帶來了巨大的壓力。

為此中芯國際決定研發(fā)更先進的14nmFinFET工藝,然而此時的它還在為提升28nmHKMG的良率而投入大量資源,研發(fā)14nmFinFET工藝的困難更大,中芯國際在先進工藝制程研發(fā)上呈現(xiàn)止步不前的局面,14nmFinFET工藝本預(yù)計在今年投產(chǎn),然而業(yè)界擔心它會不會如28nmHKMG一樣一再延遲。

梁孟松加入為中芯國際研發(fā)先進工藝提速

2017年10月中芯國際宣布任命趙海軍、梁孟松博士為中芯國際聯(lián)合首席執(zhí)行官兼執(zhí)行董事,這為中芯國際研發(fā)先進工藝制程送來了東風。

梁孟松是臺積電前研發(fā)處長,是臺積電FinFET工藝的技術(shù)負責人,而FinFET工藝是芯片制造工藝從28nm往20nm工藝以下演進的關(guān)鍵,2014年臺積電研發(fā)出16nm工藝之后因制程能效甚至不如20nm工藝導(dǎo)致僅有華為海思等有限的兩個客戶采用,直到2015年引入FinFET工藝發(fā)展成為16nmFinFET工藝才獲得了包括蘋果A9處理器等芯片的訂單,廣受芯片企業(yè)的認可,可見FinFET工藝的重要性。

2008年梁孟松因臺積電的人事調(diào)整離開臺積電,據(jù)稱此后他為三星研發(fā)先進工藝制程提供指導(dǎo),2011年中其正式加入三星,擔任研發(fā)部總經(jīng)理,也是三星晶圓代工的執(zhí)行副總,在他的決策之下跳過了20nm工藝直接研發(fā)更先進的14nmFinFET工藝,并在2015年初投產(chǎn)14nmFinFET工藝一舉超過臺積電,隨后三星在10nm工藝再次取得對臺積電的領(lǐng)先優(yōu)勢,由此可以證明梁孟松在工藝制程上所擁有的強大技術(shù)研發(fā)能力。

梁孟松加入中芯國際之后,中芯國際在今年初基本解決了28nmHKMG的良率問題,如今中芯國際宣布14nmFinFET工藝也取得了進展,凸顯出梁孟松的加入對于中芯國際研發(fā)先進工藝上的重要作用。

中芯國際在先進工藝制程上可望加快追趕海外企業(yè)的速度

從梁孟松幫助三星發(fā)展14nmFinFET、10nm工藝上可以看出他確實在芯片工藝制程上所擁有的豐富經(jīng)驗和技術(shù)研發(fā)能力,中芯國際在成功投產(chǎn)14nmFinFET工藝后預(yù)計其10nm工藝也將很快取得進展。

當前全球前五大芯片代工廠當中,第二名的格羅德德宣布放棄研發(fā)先進的7nm工藝,當前其最先進的工藝為12nm(這是14nmFinFET的改進版);第三大芯片代工廠聯(lián)電也宣布停止12nm工藝及更先進工藝制程的研發(fā),這兩大芯片企業(yè)均將提升企業(yè)利潤作為首要任務(wù)。

在這樣的情況下,作為第五大芯片代工廠的中芯國際如果能成功研發(fā)10nm工藝制程將成為工藝制程技術(shù)排名第三的芯片代工廠,其與臺積電和三星的芯片工藝制程的差距將大幅度縮短。

研發(fā)先進工藝制程對于中國有重要意義,中國是全球最大芯片市場,近幾年中國的芯片設(shè)計技術(shù)正在快速縮短與海外芯片企業(yè)的差距,華為海思研發(fā)的手機芯片在技術(shù)上已接近手機芯片老大高通。唯有芯片制造工藝與海外芯片企業(yè)的差距較大,中國***的臺積電雖然在南京設(shè)立了芯片代工廠,不過在***當局的要求下它并不會將最先進的工藝引入南京工廠,這拖累了中國芯片企業(yè)的發(fā)展。

如果中芯國際在芯片制造工藝上縮短與臺積電和三星的差距這將有助于加速中國大陸芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,畢竟芯片設(shè)計企業(yè)將芯片拿去***流片然后再進行調(diào)整實在太耗費時間和資金。中國繁榮的芯片產(chǎn)業(yè)也有助于中芯國際獲得更多的收入,支持它研發(fā)更先進的制造工藝,最終形成一種良性循環(huán),從這個方面來說中芯國際的先進工藝制程取得突破對中國芯片產(chǎn)業(yè)和它自身都有重要的意義。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    463

    文章

    54010

    瀏覽量

    466082
  • 臺積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5803

    瀏覽量

    176330

原文標題:中國芯片制造工藝取得進展,可望在更先進工藝上與海外企業(yè)競爭

文章出處:【微信號:baiyingmantan,微信公眾號:柏穎漫談】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    晶圓工藝制程清洗方法

    晶圓工藝制程清洗是半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié),直接決定芯片良率與器件性能,需針對不同污染物(顆粒、有機物、金屬離子、氧化物)和制程需求,采用物理、化學(xué)、干法、復(fù)合等多類技術(shù),適配從成熟制程
    的頭像 發(fā)表于 02-26 13:42 ?191次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>制程</b>清洗方法

    濕法清洗和干法清洗,哪種工藝更適合先進制程的硅片

    在先進制程的硅片清洗工藝,濕法清洗與干法清洗各有技術(shù)特性,適配場景差異顯著,并不存在絕對的“最優(yōu)解”,而是需要結(jié)合制程節(jié)點、結(jié)構(gòu)復(fù)雜度、污染物類型等核心需求綜合判斷。以下從技術(shù)特性、
    的頭像 發(fā)表于 02-25 15:04 ?141次閱讀
    濕法清洗和干法清洗,哪種<b class='flag-5'>工藝</b>更適合<b class='flag-5'>先進制程</b>的硅片

    國產(chǎn)芯片真的 “穩(wěn)” 了?這家企業(yè)的 14nm 制程,已經(jīng)悄悄滲透到這些行業(yè)…

    最近扒了扒國產(chǎn)芯片的進展,發(fā)現(xiàn)國際(官網(wǎng)鏈接:https://www.smics.com)的 14nm FinFET 制程已經(jīng)不是 “實驗室技術(shù)” 了 —— 從消費電子的
    發(fā)表于 11-25 21:03

    華宇電子分享在先進封裝技術(shù)領(lǐng)域的最新成果

    11月6日,在第21屆中國(長三角)汽車電子產(chǎn)業(yè)鏈高峰論壇,公司發(fā)表了題為“華宇電子車規(guī)級芯片封裝技術(shù)解決方案新突破”的主題演講,分享公司在先進封裝技術(shù)領(lǐng)域的最新成果及未來布局。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 16:33 ?1353次閱讀

    在電子制造的高精度領(lǐng)域中,芯片引腳的處理工藝

    ,對企業(yè)優(yōu)化制程、提升產(chǎn)品良率至關(guān)重要。 一、核心功能定位:從“形態(tài)塑造”到“缺陷修正” 引腳成型:實現(xiàn)引腳的“標準成形” 引腳成型設(shè)備的核心功能,是在芯片封裝制程完成引腳的初次塑形
    發(fā)表于 10-30 10:03

    科技亮相IDAS 2025設(shè)計自動化產(chǎn)業(yè)峰會

    2025年9月15-16日,行科技重磅參與在杭州國際博覽中心舉辦的第三屆設(shè)計自動化產(chǎn)業(yè)峰會(IDAS 2025)。通過展臺互動、獎項斬獲、分論壇承辦、多場論壇演講等環(huán)節(jié)全方位展現(xiàn)國產(chǎn)Signoff EDA在先進
    的頭像 發(fā)表于 09-17 14:24 ?3143次閱讀

    國際 7 納米工藝突破:代工龍頭的技術(shù)躍遷與拓能半導(dǎo)體的封裝革命

    流轉(zhuǎn)。這家全球第三大晶圓代工廠,正以每月 3 萬片的產(chǎn)能推進 7 納米工藝客戶驗證,標志著中國大陸在先進制程領(lǐng)域的實質(zhì)性突破。 技術(shù)突圍的底層邏輯
    的頭像 發(fā)表于 08-04 15:22 ?1.2w次閱讀

    里程碑!屹立創(chuàng)除泡系統(tǒng)落地馬來檳城,深耕 IoT 與先進封裝

    年中之際,屹立創(chuàng)迎來里程碑時刻 —— 公司自主研發(fā)生產(chǎn)的真空壓力除泡系統(tǒng),已正式交付頭部通信模組企業(yè),馬來西亞檳城研發(fā)中心。這一成果不僅是對其在先進制造領(lǐng)域技術(shù)實力的硬核驗證,更標志著企業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 07-15 10:07 ?658次閱讀
    里程碑!屹立<b class='flag-5'>芯</b>創(chuàng)除泡系統(tǒng)落地馬來檳城,深耕 IoT 與<b class='flag-5'>先進</b>封裝

    國際首次獲批跨國公司地區(qū)總部企業(yè)認定

    近日,國際成功通過北京市商務(wù)局認定,首次成為跨國公司地區(qū)總部企業(yè)。這一重要里程碑不僅彰顯了國際在全球化布局
    的頭像 發(fā)表于 07-14 14:49 ?979次閱讀

    辟謠!國際收購英國IP公司

    2025年7月8日,針對近期市場流傳的“國際擬收購英國某半導(dǎo)體IP公司以強化先進制程技術(shù)儲備”的傳聞,電子發(fā)燒友網(wǎng)記者向Imagination求證消息的真假時,工作人員明確表示是假
    發(fā)表于 07-08 10:04 ?1491次閱讀
    辟謠!<b class='flag-5'>中</b><b class='flag-5'>芯</b><b class='flag-5'>國際</b>收購英國IP公司

    國際榮獲華為云云商店“海外場景化商品組合獎”

    近日,華為開發(fā)者大會(HDC 2025)大會期間,國際云速云盤憑借優(yōu)秀的產(chǎn)品實力與海外市場表現(xiàn),成功斬獲華為云云商店“海外場景化商品組合獎”。這是繼2024年榮膺“華為云商店最佳出
    的頭像 發(fā)表于 07-02 14:01 ?1208次閱讀

    蘇州矽科技:半導(dǎo)體清洗機的堅實力量

    。在全球半導(dǎo)體競爭加劇的浪潮矽科技使命在肩。一方面持續(xù)加大研發(fā)投入,探索新技術(shù)、新工藝,提升設(shè)備性能,向國際先進水平看齊;另一方面,積極攜手上下游
    發(fā)表于 06-05 15:31

    一文詳解濕法刻蝕工藝

    濕法刻蝕作為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的元老級技術(shù),其發(fā)展歷程與集成電路的微型化進程緊密交織。盡管在先進制程因線寬控制瓶頸逐步被干法工藝取代,但憑借獨特的工藝優(yōu)勢,濕法刻蝕仍在特定場景
    的頭像 發(fā)表于 05-28 16:42 ?5101次閱讀
    一文詳解濕法刻蝕<b class='flag-5'>工藝</b>

    國際打造企業(yè)云服務(wù)解決方案

    近日,華為云生態(tài)大會2025在蕪湖隆重舉行。國際華為技術(shù)與解決方案集團云應(yīng)用與服務(wù)業(yè)務(wù)線總裁胡啟明受邀參加華為云伙伴聯(lián)合解決方案宣講會,并在會上作了題為《國際
    的頭像 發(fā)表于 04-16 11:34 ?1018次閱讀

    先進封裝工藝面臨的挑戰(zhàn)

    在先進制程遭遇微縮瓶頸的背景下,先進封裝朝著 3D 異質(zhì)整合方向發(fā)展,成為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵路徑。3D 先進封裝技術(shù)作為未來的發(fā)展趨勢,使芯片串聯(lián)數(shù)量大幅增加。
    的頭像 發(fā)表于 04-09 15:29 ?1267次閱讀