近日，江西省專利獎評選結果正式揭曉，中微公司憑借發明專利 “化學氣相沉積反應器或外延層生長反應器及其支撐裝置”（發明人：尹志堯、姜勇）榮膺殊榮。該專利精準攻克了金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）設備的核心技術難題，并通過創新成果向成熟產業應用的高效轉化，為公司實現高質量發展注入強勁動力。

江西省專利獎是經中央功勛辦批復同意保留的評比表彰項目，由省政府主辦，省市場監管局承辦，每3年評選一次，設置江西省專利獎15項、江西省專利轉化運用獎15項，重點獎勵優秀發明專利項目。

中微公司此次獲獎的 “化學氣相沉積反應器或外延層生長反應器及其支撐裝置”專利應用于金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）設備。MOCVD設備作為生產LED芯片、功率器件及射頻器件等半導體器件的核心裝備，其中基片承載架的驅動與支撐穩定性更是制約行業發展的關鍵。傳統摩擦驅動模式易出現打滑現象，且高溫環境下的熱膨脹易導致設備損傷，嚴重影響工藝精度與生產效率。中微公司此次獲獎專利創新性提出 “插接部精準驅動 + 支撐面平穩承載” 的雙重架構，從根本上破解了這一難題。通過插接部與凹進部的推動力傳遞替代摩擦力驅動，解決了旋轉打滑問題；大面積支撐面設計有效抑制基片承載架工藝搖擺，而預留的間隙結構可自適應高溫熱變形，確保設備長期運行的結構可靠性與工藝穩定性。

依托該專利技術，中微公司構建了覆蓋多應用場景的 MOCVD 設備矩陣，涵蓋 LED 外延片量產設備 PRISMO D-BLUE、深紫外 LED 設備 PRISMO HiT3、功率器件外延設備 PRISMO PD5 及 Mini LED 生產設備 PRISMO UniMax 等核心產品。其中最新一代 PRISMO UniMax 設備憑借優異的波長均勻性與產能優勢，在Mini LED背光顯示與直顯外延片領域的市占率突破90%，成為全球領先企業的首選裝備。

與此同時，中微公司還斬獲另一榮譽獎項。近日，在由國家知識產權局、江西省知識產權局與九江市政府聯合主辦的第二屆 “長高賽”（長江經濟帶高價值專利轉化運用大賽）中，中微公司依托核心專利 “氣體噴淋頭、其制造方法及薄膜生長反應器”，憑借 IP 團隊與 MOCVD 團隊的精心準備和緊密答辯協作，歷經三輪比拼，從沿江 11 省（直轄市）1410 個參賽項目中脫穎而出，以第一名的成績斬獲金獎，并且位列金獎排名第一。

中微公司于2017年落戶南昌高新區，成立全資子公司南昌中微半導體設備有限公司（以下簡稱“南昌中微”），并于2018年9月順利實現量產。2023年7月，總建筑面積約14萬平方米的南昌研發與生產基地正式建成并投入使用。南昌中微作為技術轉化核心基地，先后斬獲“國家高新技術企業”、“江西省制造業單項冠軍企業”、“國家專精特新小巨人企業”、“江西省半導體專用設備工程研究中心”等榮譽稱號。

中微公司南昌研發與生產基地

此外，MOCVD 設備作為 LED 照明、氮化鎵功率器件等節能產品制造的關鍵裝備，中微公司通過專利技術的規模化應用，助力下游產業實現節能降耗。據測算，其設備所生產的 LED 產品相較傳統照明可節電 70% 以上，為全球綠色低碳發展貢獻力量。

攀登勇者，志在巔峰。中微公司將瞄準“打造世界級裝備企業”的戰略目標，不斷加大研發力度，持續夯實公司在高端微觀加工設備領域的核心競爭力，秉承“五個十大”的企業文化，即“產品開發十大原則”、“戰略銷售十大準則”、“營運管理十大章法”、“精神文化十大作風”和“領導能力十大要點”，堅持三維立體發展戰略，堅持有機生長和外延擴展的策略，實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展，力爭盡早成為高端設備平臺化公司，在規模上和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司！

關于中微半導體設備（上海）股份有限公司

中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類、包括二十幾種細分刻蝕設備已可以覆蓋大多數刻蝕的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設備，并取得了可喜的進步。中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客戶生產線上投入量產，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。此外，中微公司已全面布局光學和電子束量檢測設備，并開發多種泛半導體微觀加工設備。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。