荷蘭半導體設備大廠ASML日前表示，該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)光刻機，該數量預期在2019年將增加到30套以上。

ASML是在最近發布的第二季財報中做出以上預估數字，該公司也透露其整體EUV工具銷售業績優于預期，達到約32億美元；ASML執行長Peter Wennink表示，「毛利率比我們的預期略高，反映了我們的深紫外光(DUV)與應用業務的強勁表現，以及EUV獲利進展。

ASML在第二季出貨4套EUV系統，比先前預測的多了1套；Wennink表示這是因為邏輯元件客戶準備要在今年稍晚量產下一代產品。被視為5納米以下先進半導體制程重要推手的EUV技術終于在遲到數年后邁入量產階段，包括三星(Samsung)、英特爾(Intel)與臺積電 (TSMC)都打算在明年采用EUV進行量產；不過EUV技術仍存在與光源、良率等方面的挑戰。

而ASML表示，該公司現在已經證實能在NXE:3400B系列EUV系統的出貨上，達到超過85%的4周交貨期，并正在執行數個專案以期在2019年達到超過90%的如期交貨。

Wennik還指出，ASML的DUV微影業務持續發展蓬勃，主要來自于記憶體市場需求；他表示該市場至少在今年與2019年仍然需要大量的微影系統。

而ASML在2018上半年業績表現亮眼，預期下半年也將維持成長力道，獲利方面的成長可望延續至第三季、第四季。

展望第三季，ASML預期銷售額在27億至28億歐元之間(約為31.5億美元~32.6億美元)。