2025上海國際半導體技術大會暨展覽會將于7月29-31日在上海國家會展中心（虹橋）舉行。作為兼具規模和行業影響力的半導體產業品牌盛會，展會聚焦半導體行業創新產品、先進技術、應用解決方案及商業合作模式的集中展示與交流，為行業上下游企業提供一站式對接平臺。

邀請函

尊敬的先生/女士：

您好！

我們誠摯邀請您蒞臨2025上海國際半導體技術大會暨展覽會。屆時，廣明源（展位號：4.1H館 3-B12-1）將攜172nm準分子光源在半導體制造領域的多場景應用解決方案亮相展會，期待與行業專家、合作伙伴及客戶代表深入交流，共同探討光科技在半導體先進制程中的應用前景與合作機會。

順頌商祺！

廣明源光科技股份有限公司

2025年7月

172nm準分子光科技應用方案

助力半導體行業降本增效

本次展會，廣明源將重點展示172nm準分子光源在半導體制程中的多項應用成果，涵蓋晶圓清洗、表面改性、超純水TOC處理及工藝驗證開發等多個環節，為行業客戶提供高效、環保、可定制的工藝優化方案。

展出亮點

1晶圓/掩膜版光清洗解決方案

√ 功能：高效去除晶圓及掩膜版表面微觀有機污染物，實現超凈化處理。

√ 優勢：無化學殘留、低溫無損傷、原子級潔凈度。

√ 應用：晶圓、光罩、掩膜版、顯示屏、PET、PCB 等的表面有機污染物清潔、封裝前預處理、光刻膠去除。

172nm清潔納米壓印模具，提高潔凈度

2晶圓鍵合改性解決方案

√ 功能：精準調節表面親水性和粘附性能，提升鍵合效果。

√ 優勢：低熱效應、快速處理、無化學殘留。

√ 應用：薄膜沉積前處理、MEMS封裝、3D封裝、晶圓鍵合、倒裝芯片及引線鍵合等高精度芯片制造環節。

照射后，親水性提高，接觸角明顯變小

3超純水TOC降解解決方案

√ 功能：高效降解超純水系統中的總有機碳（TOC），潔凈度可達ppb級。

√ 優勢：無化學添加、在線降解、穩定可靠。

√ 應用：半導體晶圓制程、顯示面板生產等超純水系統。

超純水TOC降解原理

4制程驗證開發解決方案

專為半導體工藝研發、制程驗證及小批量試產設計的172nm MINI實驗模組，具備結構緊湊、便于部署、靈活可移、成本可控等特點，適用于多種實驗環境及工藝驗證需求。

172nm MINI實驗模組

√ 功能：高效分解晶圓表面有機殘留，提升潔凈度與附著性能。

√ 優勢：高集成輕量化設計，便于搭建實驗環境。

√ 應用：表面有機污染物去除、表面活化與改性、封裝工藝前處理及超凈化超微細清洗工藝驗證。

廣明源誠邀行業同仁蒞臨展位，現場交流光科技在半導體制造工藝中的應用實踐與創新成果，共同探討合作機會，助力行業高質量發展。