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傾佳電子:DAB隔離變換器深度分析:優(yōu)勢、器件選型與碳化硅MOSFET的應用

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 2025-08-17 15:22 ? 次閱讀
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傾佳電子:DAB隔離變換器深度分析:優(yōu)勢、器件選型與碳化硅MOSFET的應用

傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導體和新能源汽車連接器的分銷商。他們主要服務于中國工業(yè)電源電力電子設備和新能源汽車產(chǎn)業(yè)鏈。傾佳電子聚焦于新能源、交通電動化和數(shù)字化轉(zhuǎn)型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半導體器件以及新能源汽車連接器。?

第1部分:雙有源全橋(DAB)隔離變換器拓撲

1.1 基本原理與核心結(jié)構(gòu)

雙有源全橋(DAB)變換器是一種高頻、隔離式、雙向DC-DC變換器,其核心優(yōu)勢使其成為眾多現(xiàn)代電力電子應用的首選拓撲結(jié)構(gòu) 。DAB變換器的基本架構(gòu)由兩組有源開關橋(通常為全橋或半橋配置)、一個高頻變壓器(HFT)以及一個串聯(lián)電感組成 。這兩組有源橋分別連接在高頻變壓器的初級和次級側(cè),通過精確控制其開關動作,實現(xiàn)能量在兩個直流端口之間的雙向傳輸。

DAB變換器的功率傳輸機制基于“移相控制”原理,即通過調(diào)節(jié)初級橋和次級橋產(chǎn)生的交流方波電壓之間的相對相移(?)來控制功率流動的方向和大小 。當初級橋的電壓波形相位超前于次級橋時,功率從初級側(cè)流向次級側(cè)。反之,當次級橋的電壓波形超前時,功率則反向流動 。這種固有的雙向功率流能力是DAB拓撲的核心特征,使其成為電動汽車(EV)充電樁、儲能系統(tǒng)、固態(tài)變壓器等需要能量在兩個方向上靈活傳輸?shù)膽玫睦硐脒x擇 。

1.2 固有優(yōu)勢與戰(zhàn)略應用

DAB變換器的廣泛應用源于其一系列顯著優(yōu)勢:

高效率:DAB變換器能通過控制實現(xiàn)所有開關管的零電壓開關(ZVS)。ZVS的實現(xiàn)極大地降低了開關損耗,使得變換器的效率能夠達到98%甚至99% 。在高頻運行時,這一特性尤為關鍵,因為它允許變換器在保持高效率的同時,實現(xiàn)更高的功率密度。

雙向功率流:如前所述,通過簡單的移相控制,DAB變換器能夠?qū)崿F(xiàn)能量的雙向傳輸,這使其成為電池充電/放電、車網(wǎng)互動(V2G)、可再生能源并網(wǎng)等雙向應用的基礎 。

電氣隔離:通過集成的高頻變壓器,DAB變換器在輸入和輸出端口之間提供了電氣隔離,這不僅是出于安全考慮,也是許多應用(如電動汽車充電)的功能性要求 。

高功率密度:DAB拓撲在高頻(kHz至MHz)下運行,這使得無源磁性元件(如變壓器和電感)的尺寸和重量得以大幅減小 。高頻運行是實現(xiàn)緊湊、輕量化設計的關鍵。

模塊化與可擴展性:DAB變換器固有的對稱結(jié)構(gòu)使其易于并聯(lián)或堆疊,從而實現(xiàn)更高的功率吞吐量 。這種模塊化特性為設計人員提供了極大的靈活性,以適應不同功率等級的需求。

由于這些優(yōu)勢,DAB變換器在多個關鍵市場領域占據(jù)主導地位,例如:電動汽車充電站、固態(tài)變壓器(SST)、可再生能源系統(tǒng)、電機驅(qū)動和航空航天電源系統(tǒng) 。

1.3 先進控制與調(diào)制策略

DAB變換器的控制策略決定了其性能表現(xiàn)。最基礎的控制方法是單相移(SPS)控制,它通過調(diào)整兩個全橋之間的相移來控制功率流,同時每個橋內(nèi)部的對角開關以50%的占空比工作 。盡管SPS控制簡單易行,但在輕載條件下,它可能導致效率下降和峰值電流增加 。

為了克服SPS的局限性,研究人員提出了多種先進的控制策略,如擴展相移(EPS)雙相移(DPS)和三相移(TPS)控制 。這些方法通過更復雜的內(nèi)部和外部相移控制,可以優(yōu)化開關器件的工作條件,尤其是在寬負載范圍內(nèi)實現(xiàn)零電壓開關(ZVS) 。

一個重要的觀點是,控制策略的選擇并非僅僅是一個軟件或算法層面的決策,它深刻地影響著硬件設計和系統(tǒng)性能。例如,如果選擇簡單的SPS控制,盡管易于實現(xiàn),但在輕載時可能導致硬開關事件,從而增加開關損耗和MOSFET的熱應力。相反,一個更復雜的三相移(TPS)控制雖然實現(xiàn)難度更高,但能夠確保在整個功率范圍內(nèi)實現(xiàn)ZVS,顯著改善開關管的工作條件,并提高變換器效率。從這個角度來看,控制算法是系統(tǒng)效率和可靠性的核心組成部分,它使硬件設計者能夠采用更小、成本更低的散熱器和元器件,從而實現(xiàn)整個系統(tǒng)的優(yōu)化和小型化。

下表總結(jié)了DAB變換器主要調(diào)制策略的比較:

控制方法實現(xiàn)復雜度ZVS工作范圍峰值電流應力整體效率影響單相移 (SPS)最簡單在特定條件下受限可能較高較低(輕載時)擴展相移 (EPS)中等擴展優(yōu)化較高雙相移 (DPS)中等擴展優(yōu)化較高三相移 (TPS)復雜全范圍(可優(yōu)化)優(yōu)化最佳

第2部分:DAB變換器無源與有源器件選型

2.1 高頻變壓器與電感設計

高頻變壓器(HFT)在DAB變換器中扮演著雙重角色:不僅提供電氣隔離,還通過匝數(shù)比實現(xiàn)電壓轉(zhuǎn)換 。高頻工作是減小變壓器體積和重量的關鍵 。在DAB設計中,一個重要的考量是直流偏置問題。由于內(nèi)部或外部相移的突然變化,變壓器初級繞組可能會出現(xiàn)磁通不平衡,導致核心飽和、損耗增加甚至ZVS失效 。為解決這一問題,設計人員可以采用被動元件(如在繞組中串聯(lián)電容)或主動控制(如調(diào)節(jié)相移和開關頻率)來平衡伏秒積分 。為了進一步優(yōu)化設計,DAB變換器中的串聯(lián)電感通常被整合到高頻變壓器的漏感中,以減少元件數(shù)量和空間 。

2.2 功率開關管選型:硅與碳化硅

DAB變換器中的功率開關管是決定系統(tǒng)性能的核心器件。傳統(tǒng)的DAB設計主要使用硅(Si)基功率器件,如MOSFET或IGBT。然而,隨著寬禁帶(WBG)半導體材料的發(fā)展,碳化硅(SiC)MOSFET正逐漸成為高功率DAB應用的首選 。第3部分將詳細比較SiC與Si器件的性能,并分析SiC帶來的系統(tǒng)級優(yōu)勢。

2.3 自舉電路的關鍵作用

在半橋DAB變換器中,自舉電路(Bootstrap Circuit)是為浮動在高電位上的上橋臂柵極驅(qū)動器提供獨立電源的關鍵 。其工作原理依賴于下橋臂開關管的導通。當下管導通時,開關節(jié)點(HS)的電壓被拉低,自舉電容(

CBOOT?)通過自舉二極管(DBOOT?)被充電。當上管導通時,開關節(jié)點電壓上升,自舉電容上的電壓作為上管柵極驅(qū)動器的浮動電源,驅(qū)動其開啟 。這種方法具有電路簡單、成本低的優(yōu)點 。然而,它的主要限制在于供電依賴于下管的導通時間,這在占空比接近100%或輸入電壓緩慢下降時會導致自舉電容充電不足,甚至觸發(fā)欠壓鎖定(UVLO) 。

2.4 自舉元件的詳細選型分析

自舉電路的性能在很大程度上取決于其核心元件——電容、二極管和電阻的正確選擇。

自舉電容(CBOOT?):其容值選擇至關重要。電容必須能夠儲存足夠的電荷,以在整個上管導通期間提供穩(wěn)定的驅(qū)動電壓,通常要求電壓跌落不超過初始值的10% 。電容的最小值可以通過計算MOSFET的總柵極電荷(

QG?)來確定 。然而,電容值不能過小,否則可能因電荷不足而觸發(fā)驅(qū)動器的UVLO保護,導致上管無法導通 。另一方面,電容值也不能過大,否則會導致自舉二極管在充電時產(chǎn)生過大的沖擊電流,并可能因充電時間過長而限制最大占空比 。

自舉二極管(DBOOT?):該二極管的作用是在上管導通時將浮動電源與主電源隔離 。選型時應重點考慮其正向壓降(

VF?)和反向恢復時間(trr?)。肖特基二極管(SBD)因其極低的正向壓降和接近于零的反向恢復時間而成為自舉二極管的理想選擇 。這有助于提高效率并減少高頻開關時的損耗。對于高壓應用,碳化硅(SiC)肖特基二極管因其優(yōu)越的耐壓和高溫特性而備受青睞 。

自舉電阻(RBOOT?):自舉電阻通常串聯(lián)在自舉電容前,其作用是限制電容充電時的峰值電流,從而保護自舉二極管 。同時,它還能減緩上管的開通速度,從而抑制開關節(jié)點(SW)的振鈴和電磁干擾(EMI) 。然而,電阻值不能過大,否則會增加電容的充電時間常數(shù),導致電容無法在每個周期內(nèi)充滿電,進而限制最大占空比并增加開關損耗 。

自舉電路的器件選型是一個精細的權(quán)衡過程,并非簡單地選擇最優(yōu)的單個元件。例如,為了增加電容容量以提高電壓穩(wěn)定性,設計者可能需要同時增加電阻值來限制充電電流 。但這反過來會延長充電時間,可能限制系統(tǒng)的最大占空比并降低效率 。這種相互制約的關系揭示了一個重要的設計考量:自舉電路的元件選擇是一個微妙的“權(quán)衡三角”,優(yōu)化一個參數(shù)(如電壓穩(wěn)定性)往往會犧牲另一個參數(shù)(如效率或占空比范圍)。這種挑戰(zhàn)在追求更高性能的SiC設計中尤為突出。

下表總結(jié)了自舉電路元件選型的權(quán)衡:

元件主要功能容值/阻值過小的影響容值/阻值過大的影響自舉電容 (CBOOT?)提供浮動電源能量

電壓跌落過大,觸發(fā)UVLO保護

充電沖擊電流過大,限制最大占空比

自舉二極管 (DBOOT?)隔離浮動電源

反向恢復損耗高,增加開關損耗

功耗高,影響效率

自舉電阻 (RBOOT?)限制充電電流、抑制EMI

充電沖擊電流過大,損壞二極管

充電時間過長,增加開關損耗,限制最大占空比

2.5 常見自舉電路問題與解決方案

自舉電路在特定條件下會遇到性能問題。一個常見問題是**“緩慢下電”**,即當輸入電壓緩慢下降并長時間接近輸出電壓時,下管的導通時間變得極短,導致自舉電容無法獲得足夠的充電能量,最終引發(fā)驅(qū)動器UVLO保護,造成輸出電壓異常重啟 。解決方案可以從應用層面入手,例如增加自舉電容容量、加快輸入端放電速度或使用外部能量維持電路 。

另一個在SiC和GaN器件中尤為突出的問題是**“自舉過充”**。由于死區(qū)時間內(nèi)開關節(jié)點(HS)的負電壓尖峰,自舉電容的電壓可能超出器件柵極的耐壓范圍,導致器件損壞 。為防止過充,可以采取多種方法:增大自舉電阻或使用更高正向壓降的二極管來限制充電電流;并聯(lián)齊納二極管來鉗位電容電壓;或者使用獨立的輔助電源來完全避免自舉電路 。

第3部分:碳化硅MOSFET在DAB變換器中的應用

3.1 碳化硅固有的材料優(yōu)勢

碳化硅(SiC)作為一種寬禁帶半導體材料,其物理特性遠優(yōu)于傳統(tǒng)硅(Si)。其核心優(yōu)勢包括:

高臨界電場:是硅的10倍以上,使得器件的耐壓能力更強,能承受更高的電壓 。

高熱導率:是硅的3倍以上,這意味著SiC器件能夠更有效地散熱,允許在更高的結(jié)溫下工作 。

高電子飽和漂移速度:是硅的2倍以上,這使得SiC器件能夠?qū)崿F(xiàn)更快的開關速度 。

這些材料特性直接轉(zhuǎn)化為DAB變換器設計中的實際優(yōu)勢:更高的電壓耐受、更低的熱量產(chǎn)生和更高的工作頻率 。

3.2 碳化硅與傳統(tǒng)硅器件的綜合性能比較

SiC MOSFET在DAB應用中帶來了全面的性能提升,其優(yōu)勢體現(xiàn)在多個關鍵參數(shù)上:

導通損耗與溫度依賴性:SiC MOSFET的導通電阻(RDS(on)?)遠低于Si器件,且對溫度變化不敏感 。在高溫下,Si器件的$R_{DS(on)}$會顯著增加,導致導通損耗急劇上升,而SiC器件的性能幾乎不受影響 。這使得SiC變換器在惡劣環(huán)境下仍能保持高效率。

開關損耗、柵極電荷與寄生電容:這是SiC最大的優(yōu)勢所在。SiC MOSFET具有極低的柵極總電荷(QG?)和輸入電容(CISS?),通常只有同類Si MOSFET的四分之一 。這意味著驅(qū)動SiC器件所需的能量極低,從而實現(xiàn)了更快的開關速度和更低的驅(qū)動損耗 。盡管有研究指出,在某些特定條件下,SiC的總體開關損耗可能高于Si MOSFET(由于其跨導較低),但其開關損耗對溫度不敏感 。更重要的是,SiC能夠?qū)崿F(xiàn)更高的開關頻率(如100 kHz),而這才是其在DAB應用中價值所在 。

體二極管與反向恢復:SiC MOSFET的內(nèi)在體二極管和SiC肖特基二極管(SBD)的一個決定性優(yōu)勢是其接近零的反向恢復電荷(Qrr?)和反向恢復時間(trr?)。這在DAB拓撲中尤為關鍵,因為它消除了傳統(tǒng)Si器件體二極管長拖尾電流所造成的嚴重損耗和電壓過沖 。這一特性使得DAB可以在高頻下實現(xiàn)更高效的軟開關。

通過對這些特性的深入分析,可以得出一個重要的結(jié)論:SiC MOSFET的真正價值并非僅僅在于其單個器件的損耗略低。一個更宏觀的視角表明,SiC器件能夠以極高的頻率(如100 kHz)穩(wěn)定運行,這直接導致了DAB變換器中無源磁性元件(變壓器和電感)的體積和重量大幅減小 。由于無源元件在傳統(tǒng)變換器中往往占據(jù)大部分體積、重量和成本,使用SiC技術(shù)即使在特定頻率下開關損耗可能略高于Si器件,但最終能實現(xiàn)一個體積更小、重量更輕、整體效率更高的系統(tǒng)。這是一種從優(yōu)化單個元件到優(yōu)化整個系統(tǒng)的范式轉(zhuǎn)變。

下表對SiC MOSFET與傳統(tǒng)硅技術(shù)進行了綜合比較:

特性SiC MOSFETSi MOSFETSi IGBT擊穿電場

極高 (>2.5MV/cm)

低 (~0.25MV/cm)

低 (~0.25MV/cm)

熱導率

極高 (3x Si)

低低導通電阻 (RDS(on)?)

低,溫度不敏感

相對較高,溫度敏感

飽和壓降 (VCE(sat)?)

柵極電荷 (QG?)

極低 (<25% Si)

極高

開關速度

極快

慢 (有電流拖尾)

反向恢復

近似為零

存在恢復電荷

存在恢復電荷

DAB應用評估極佳:高頻、高效率、高功率密度較好:低頻應用,成本低一般:高壓低頻應用

3.3 系統(tǒng)級優(yōu)勢:提升功率密度與效率

DAB變換器結(jié)合SiC MOSFET所帶來的系統(tǒng)級優(yōu)勢是變革性的。

小型化:SiC器件能夠?qū)崿F(xiàn)更高的開關頻率,使得變壓器、電感和電容的體積大幅縮小,從而實現(xiàn)整體變換器的小型化和輕量化 。這對于電動汽車充電樁等空間受限的應用至關重要。

熱管理優(yōu)化:SiC材料優(yōu)越的熱導率和較低的導通損耗意味著更小的熱量產(chǎn)生,可以減小散熱器尺寸甚至采用無風扇設計,進一步提高功率密度和系統(tǒng)可靠性 。

總系統(tǒng)成本降低:盡管SiC器件本身的單位成本高于Si,但其在系統(tǒng)層面的優(yōu)勢可以抵消這一劣勢。通過減小磁性元件和散熱器的尺寸,總物料清單(BOM)成本可能得到降低,從而實現(xiàn)更具競爭力的整體系統(tǒng)方案 。

3.4 碳化硅MOSFET的先進柵極驅(qū)動設計

SiC MOSFET的高性能也帶來了獨特的驅(qū)動要求。它們并非簡單的“即插即用”替換元件,而是需要專門設計的柵極驅(qū)動電路來充分發(fā)揮其潛力。

驅(qū)動電壓要求:為了實現(xiàn)最低導通電阻(RDS(on)?)和最低導通損耗,SiC MOSFET通常需要較高的正向柵極-源極電壓(例如+15V至+20V) 。同時,為了避免在高

dV/dt下的米勒效應導致的誤導通,通常還需要提供一個負的關斷電壓(例如-4V至-6V) 。

寄生參數(shù)與電壓尖峰:SiC器件極快的開關速度(高dV/dt和dI/dt)使得PCB布局中的寄生電感和電容成為影響性能的關鍵因素 。這些寄生參數(shù)可能導致嚴重的電壓過沖、振鈴和串擾,甚至損壞器件 。因此,在設計中必須特別注意減小驅(qū)動回路和功率回路的寄生電感,并采用緊湊的布局 。

先進驅(qū)動方案:為了應對這些挑戰(zhàn),許多先進的柵極驅(qū)動技術(shù)被開發(fā)出來。

有源柵極驅(qū)動(AGD):通過動態(tài)控制柵極電阻和電流,AGD電路可以實時抑制開關瞬態(tài)中的過沖和振鈴,實現(xiàn)最佳的開關性能 。

米勒鉗位:在半橋拓撲中,高dV/dt可能通過米勒電容將能量耦合到下管的柵極,使其誤導通。米勒鉗位電路可以有效將柵極電壓鉗位在零以下,防止誤導通的發(fā)生 。

穩(wěn)健的柵極驅(qū)動IC:專為SiC設計的驅(qū)動IC必須具備高驅(qū)動電流能力、低傳播延遲和高共模瞬態(tài)抗擾度(CMTI),以確保在高速開關環(huán)境下穩(wěn)定可靠地運行。

這些要求表明,SiC MOSFET并非傳統(tǒng)器件的簡單替代品。其卓越的性能將設計挑戰(zhàn)從優(yōu)化單個元件轉(zhuǎn)移到了優(yōu)化整個系統(tǒng)。設計人員必須將器件本身、柵極驅(qū)動電路和物理布局視為一個不可分割的整體。只有采取這種系統(tǒng)級的綜合工程方法,才能完全釋放SiC的潛能并確保高可靠性。

下表總結(jié)了SiC MOSFET柵極驅(qū)動器的關鍵要求:

參數(shù)典型值/范圍理論/優(yōu)勢驅(qū)動電壓

(+15V to +20V) / (-4V to -6V)

正壓降低RDS(on)?,負壓確保可靠關斷

峰值電流

源極4A,灌入6A

確保快速充放電,實現(xiàn)高速開關

傳播延遲

<10 ns

允許更高開關頻率,確保精確控制

CMTI

>100 kV/μs

抵抗高dV/dt引起的瞬態(tài)噪聲,防止誤動作

保護功能

米勒鉗位、短路保護

防止誤導通和器件損壞

第4部分:結(jié)論與戰(zhàn)略性建議

4.1 關鍵發(fā)現(xiàn)總結(jié)

DAB隔離變換器因其高效率、雙向功率流、電氣隔離和高功率密度等固有優(yōu)勢,成為現(xiàn)代高功率DC-DC變換領域的關鍵拓撲。而SiC MOSFET的引入,則將DAB的性能推向了新的高度。通過利用SiC材料優(yōu)越的物理特性,如低導通電阻、低柵極電荷和幾乎零反向恢復損耗,DAB變換器得以在更高的開關頻率下運行,從而實現(xiàn)更緊湊、更輕量化和更高效率的系統(tǒng)。

4.2 高性能DAB設計的戰(zhàn)略性建議

為了充分利用SiC技術(shù)在DAB變換器中的潛力,設計人員必須超越簡單的器件替換,采取一種全面的系統(tǒng)級設計方法:

控制策略與硬件的協(xié)同設計:根據(jù)應用需求,選擇合適的控制策略(如EPS或TPS),以確保在寬負載范圍內(nèi)實現(xiàn)ZVS。這不僅能提高效率,還能減輕對散熱器和功率器件的要求。

細致入微的元件選型:在自舉電路中,應仔細權(quán)衡電容、二極管和電阻的選型,以確保在提供穩(wěn)定浮動電源的同時,不引入過大的沖擊電流或限制占空比。優(yōu)先選擇低VF?、低$t_{rr}$的肖特基二極管。

先進的柵極驅(qū)動與布局:SiC器件的高速開關特性要求使用具備高電流、高CMTI和低傳播延遲的專用柵極驅(qū)動器。同時,PCB布局必須極致優(yōu)化,以最小化寄生電感和電容,并可考慮引入有源柵極驅(qū)動或米勒鉗位等技術(shù),以確保在高速開關時的穩(wěn)定性和可靠性。

4.3 未來展望

隨著電動汽車、可再生能源和智能電網(wǎng)的持續(xù)發(fā)展,對高性能電力轉(zhuǎn)換系統(tǒng)的需求將日益增長。SiC技術(shù)與DAB拓撲的結(jié)合,將繼續(xù)在實現(xiàn)高功率密度、高效率和高可靠性的電源解決方案中發(fā)揮核心作用。未來的發(fā)展將集中于進一步降低SiC器件成本、優(yōu)化集成封裝技術(shù)以及開發(fā)更智能化的控制算法,以在各種極端應用場景下實現(xiàn)最佳性能。

深圳市傾佳電子有限公司(簡稱“傾佳電子”)是聚焦新能源與電力電子變革的核心推動者:

傾佳電子成立于2018年,總部位于深圳福田區(qū),定位于功率半導體與新能源汽車連接器的專業(yè)分銷商,業(yè)務聚焦三大方向:

新能源:覆蓋光伏、儲能、充電基礎設施;

交通電動化:服務新能源汽車三電系統(tǒng)(電控、電池、電機)及高壓平臺升級;

數(shù)字化轉(zhuǎn)型:支持AI算力電源、數(shù)據(jù)中心等新型電力電子應用。

公司以“推動國產(chǎn)SiC替代進口、加速能源低碳轉(zhuǎn)型”為使命,響應國家“雙碳”政策(碳達峰、碳中和),致力于降低電力電子系統(tǒng)能耗。

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    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>開關行為<b class='flag-5'>深度</b>研究與波形解析

    電子碳化硅MOSFET短路特性與退飽和保護(DESAT)深度研究報告

    電子碳化硅MOSFET短路特性與退飽和保護(DESAT)深度研究報告
    的頭像 發(fā)表于 09-01 09:28 ?1161次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>短路特性與退飽和保護(DESAT)<b class='flag-5'>深度</b>研究報告

    電子SiC碳化硅MOSFET開關行為深度解析及體二極管的關斷特性

    電子SiC碳化硅MOSFET開關行為深度解析,特別是其本征體二極管的關斷特性
    的頭像 發(fā)表于 09-01 08:53 ?1703次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>開關行為<b class='flag-5'>深度</b>解析及體二極管的關斷特性

    電子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 產(chǎn)品競爭力深度分析報告

    電子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 產(chǎn)品競爭力深度
    的頭像 發(fā)表于 09-28 09:32 ?714次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>1400V <b class='flag-5'>碳化硅</b> (SiC) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 產(chǎn)品競爭力<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>分析</b>報告

    代理的基本半導體碳化硅MOSFET分立器件產(chǎn)品力及應用深度分析

    代理的基本半導體碳化硅MOSFET分立器件產(chǎn)品力及應用深度
    的頭像 發(fā)表于 10-21 10:12 ?562次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b>代理的基本半導體<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>分立<b class='flag-5'>器件</b>產(chǎn)品力及應用<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>分析</b>

    電子SiC碳化硅MOSFET串擾抑制技術(shù):機理深度解析與基本半導體系級解決方案

    電子SiC碳化硅MOSFET串擾抑制技術(shù):機理深度解析與基本半導體系級解決方案
    的頭像 發(fā)表于 10-02 09:29 ?1039次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>串擾抑制技術(shù):機理<b class='flag-5'>深度</b>解析與基本半導體系級解決方案

    電子B3M010C075Z碳化硅MOSFET深度分析:性能基準與戰(zhàn)略應用

    電子B3M010C075Z碳化硅MOSFET深度分析
    的頭像 發(fā)表于 10-09 18:06 ?895次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>B3M010C075Z<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b><b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>分析</b>:性能基準與戰(zhàn)略應用

    電子碳化硅MOSFET高級柵極驅(qū)動設計:核心原理與未來趨勢綜合技術(shù)評述

    電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三個必然,勇立功率半導體
    的頭像 發(fā)表于 10-18 21:22 ?698次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>高級柵極驅(qū)動設計:核心原理與未來趨勢綜合技術(shù)評述

    電子碳化硅 (SiC) MOSFET 設計戶儲逆變器如何助力安全性提升的深度研究報告

    電子碳化硅 (SiC) MOSFET 設計戶儲逆變器如何助力安全性提升的深度研究報告
    的頭像 發(fā)表于 11-23 10:17 ?2696次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>全<b class='flag-5'>碳化硅</b> (SiC) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 設計戶儲逆變器如何助力安全性提升的<b class='flag-5'>深度</b>研究報告

    電子主流廠商碳化硅 (SiC) MOSFET 驅(qū)動 IC 產(chǎn)品及其技術(shù)特征深度研究報告

    電子主流廠商碳化硅 (SiC) MOSFET 驅(qū)動 IC 產(chǎn)品及其技術(shù)特征深度研究報告
    的頭像 發(fā)表于 11-23 10:53 ?1714次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>主流廠商<b class='flag-5'>碳化硅</b> (SiC) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 驅(qū)動 IC 產(chǎn)品及其技術(shù)特征<b class='flag-5'>深度</b>研究報告

    電子碳化硅SiC MOSFET驅(qū)動特性與保護機制深度研究報告

    電子碳化硅SiC MOSFET驅(qū)動特性與保護機制深度研究報告
    的頭像 發(fā)表于 11-23 11:04 ?2386次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>SiC <b class='flag-5'>MOSFET</b>驅(qū)動特性與保護機制<b class='flag-5'>深度</b>研究報告

    碳化硅 (SiC) MOSFET 分立器件與功率模塊規(guī)格書深度解析與應用指南

    電子碳化硅 (SiC) MOSFET 分立器件與功率模塊規(guī)格書
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:00 ?817次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b> (SiC) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 分立<b class='flag-5'>器件</b>與功率模塊規(guī)格書<b class='flag-5'>深度</b>解析與應用指南

    電子光伏與儲能產(chǎn)業(yè)功率半導體分立器件從IGBT向碳化硅MOSFET轉(zhuǎn)型的深度研究報告

    電子光伏與儲能產(chǎn)業(yè)功率半導體分立器件從IGBT向碳化硅MOSFET轉(zhuǎn)型的
    的頭像 發(fā)表于 12-01 09:49 ?2338次閱讀
    <b class='flag-5'>傾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>電子</b>光伏與儲能產(chǎn)業(yè)功率半導體分立<b class='flag-5'>器件</b>從IGBT向<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>轉(zhuǎn)型的<b class='flag-5'>深度</b>研究報告