作為技術壁壘最高的半導體設備零部件之一，射頻電源的國產化率一直較低。

射頻電源，即用來產生射頻電功率的電源，主要通過產生高頻電磁場，將在低壓或常壓下的氣體進行電離，形成等離子體。不同氣體產生的等離子體具有不同的化學性能，在腔體內部可以實現不同的工藝需求。

隨著國內晶圓廠新增擴產和存量替換需求增長，半導體薄膜沉積、刻蝕機等核心設備的市場空間打開，射頻電源也迎來新的增長空間，并為國產射頻電源廠商帶來發展機遇。

兩大需求帶動國內射頻電源市場增長

射頻電源被廣泛應用于半導體工藝設備、LED 與太陽能光伏設備等領域。

在半導體設備領域，射頻電源是薄膜沉積、刻蝕、離子注入、清洗等前道工藝機臺的關鍵零部件之一，直接影響腔體中的等離子體濃度、均勻度和穩定度。

射頻電源的主要增長點，一是來源于晶圓廠擴產帶來薄膜沉積、刻蝕機等半導體設備新增需求，進而帶動射頻電源新增需求，二是來源于存量市場替換需求，射頻電源使用壽命約為5-6年，短于半導體腔體的使用壽命，需要定期進行維保或更換，部分晶圓廠有直接備存射頻電源的需求。

根據共研產業咨詢的統計及預測，2022年中國半導體射頻電源市場規模為0.97億美元，約占全球的13.31%，預計2023年達到1.10億美元，約占全球的14.23%。

審核編輯 黃宇