俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
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據外媒報道，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak表示，該設備可確保生產350納米工藝的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺國產光刻機。作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分，目前正在對其進行測試。”俄羅斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。
據報道，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所 (IPF RAS) 曾于2022年宣布，正在開發俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外夸下海口：這套光刻機能夠使用7nm生產芯片，可于2028年全面投產。
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